JP2015191149A - 情報処理装置、情報処理方法、およびプログラム - Google Patents

情報処理装置、情報処理方法、およびプログラム Download PDF

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Abstract

【課題】電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、より精度良く取得することができなかった。【解決手段】パターン図形を示すパターン情報と、電子ビーム描画装置が描画した図形を撮影した画像を用いて取得される実観測輪郭線情報とを受け付ける受付部と、パターン情報が示すパターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各補正輪郭点に対する畳み込み値と、当該畳み込み値に関する閾値との差の二乗和を最小化する情報である変換情報を取得する変換情報取得部と、変換情報を用いて、３以上の各実観測輪郭点に対応する３以上の補正輪郭点を示す情報である補正輪郭点情報を取得する補正輪郭点取得部と、補正輪郭点情報を出力する出力部とを備える情報処理装置により、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、より精度良く取得することができる。【選択図】図１

Description

本発明は、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を出力する情報処理装置等に関するものである。
フォトマスクを製造するプロセスにおいて、ＭＰＣ（Mask Process Correction、マスクプロセス補正）という行程がある（非特許文献１参照）。また、当該行程の手法として、Contour Based Calibrationという手法がある（特許文献１参照）。
米国特許出願公開第２０１１／０２０２８９３号明細書
"NDE-MDP"、［online］、日本コントロールシステム株式会社、［２０１４年３月１２日検索］、インターネット［URL：http://www.nippon-control-system.co.jp/catalog/NDE-MS.pdf］
従来、Contour Based Calibrationに用いる情報であり、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、より精度良く取得することができなかった。
本第一の発明の情報処理装置は、電子ビーム描画装置に描画させる図形であるパターン図形を示す情報であるパターン情報と、電子ビーム描画装置がパターン図形に応じて描画した図形を撮影した画像を用いて取得される図形の輪郭線である実観測輪郭線を示す情報である実観測輪郭線情報とを受け付ける受付部と、パターン情報と、実観測輪郭線情報とを用いて、実観測輪郭線上の点である３以上の各実観測輪郭点を、３以上の各実観測輪郭点が補正された点である３以上の補正輪郭点に補正するための情報であり、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各補正輪郭点に対する畳み込みの値と、畳み込み値に関する閾値との差の二乗和を最小化する情報である変換情報を取得する変換情報取得部と、実観測輪郭線情報と、変換情報とを用いて、３以上の各実観測輪郭点に対応する３以上の補正輪郭点を取得し、取得した３以上の補正輪郭点を示す情報である補正輪郭点情報を取得する補正輪郭点取得部と、補正輪郭点情報を出力する出力部とを備える情報処理装置である。
このような構成により、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、より精度良く取得することができる。
また、本第二の発明の情報処理装置は、第一の発明に対して、補正輪郭点情報を用いて、３以上の補正輪郭点を近似する曲線上の点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得部をさらに備え、出力部は、理想輪郭点情報を出力する情報処理装置である。
このような構成により、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、さらに精度良く取得することができる。
また、本第三の発明の情報処理装置は、第一の発明に対して、変換情報取得部は、パターン情報と、実観測輪郭線情報とを用いて、差の二乗和を最小化する変換情報と、畳み込み値に関する閾値とを取得し、閾値と、パターン情報とを用いて、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である基準輪郭線を示す情報である基準輪郭線情報を取得し、補正輪郭点情報と、基準輪郭線情報とを用いて、３以上の各補正輪郭点と、３以上の各補正輪郭点に対応する基準輪郭線上の点である対応点との距離を取得し、距離を基準輪郭線上の任意の点から対応点までの経路長により取得する関数であり、距離を近似する曲線である理想輪郭線を示す関数である理想輪郭線情報を取得し、理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい補正輪郭点を削除する処理と、削除後の３以上の各補正輪郭点と３以上の各補正輪郭点に対応する対応点との距離を用いて理想輪郭線情報を取得する処理とを１以上繰り返し、理想輪郭線情報を取得する理想輪郭線取得部と、基準輪郭線情報と、理想輪郭線情報とを用いて、基準輪郭線上の任意の点から任意の経路長にある３以上の点である対象点から、対象点に対応する理想輪郭線上の点までの距離を取得し、対象点から取得した距離にある点を取得し、取得した点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得部とをさらに備え、出力部は、理想輪郭点情報を出力する情報処理装置である。
このような構成により、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、さらに精度良く取得することができる。
また、本第四の発明の情報処理装置は、電子ビーム描画装置がパターン図形に応じて描画した図形の輪郭線上の点である３以上の描画図形輪郭点を示す情報である描画図形輪郭点情報と、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各描画図形輪郭点に対する畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である基準輪郭線を示す情報である基準輪郭線情報とを受け付ける受付部と、描画図形輪郭点情報と、基準輪郭線情報とを用いて、３以上の各描画図形輪郭点と、３以上の各描画図形輪郭点に対応する基準輪郭線上の点である対応点との距離を取得し、距離を基準輪郭線上の任意の点から対応点までの経路長により取得する関数であり、距離を近似する曲線である理想輪郭線を示す関数である理想輪郭線情報を取得し、理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい描画図形輪郭点を削除する処理と、削除後の３以上の各描画図形輪郭点と３以上の各描画図形輪郭点に対応する対応点との距離を用いて理想輪郭線情報を取得する処理とを１以上繰り返し、理想輪郭線情報を取得する理想輪郭線取得部と、基準輪郭線情報と、理想輪郭線情報とを用いて、基準輪郭線上の任意の点から任意の経路長にある３以上の点である対象点から、対象点に対応する理想輪郭線上の点までの距離を取得し、対象点から取得した距離にある点を取得し、取得した点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得部と、理想輪郭点情報を出力する出力部とを備える情報処理装置である。
このような構成により、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、より精度良く取得することができる。
また、本第五の発明の情報処理装置は、第四の発明に対して、描画図形輪郭点情報は、電子ビーム描画装置がパターン図形に応じて描画した図形を撮影した画像を用いて取得される図形の輪郭線である実観測輪郭線上の点である３以上の実測輪郭点を示す情報である実観測輪郭点情報であり、３以上の各実観測輪郭点に対応する基準輪郭線の座標系の点を取得し、取得した点である３以上の補正輪郭点を示す情報である補正輪郭点情報を取得する補正輪郭点取得部をさらに備え、理想輪郭線取得部は、基準輪郭線情報と、補正輪郭点情報とを用いて、理想輪郭線情報を取得する情報処理装置である。
このような構成により、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、さらに精度良く取得することができる。
本発明による情報処理装置等によれば、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、より精度良く取得することができる。
実施の形態１における情報処理装置１のブロック図 同スムージング処理と外れ値除去処理の概要図 同理想輪郭点を算出する処理の概要図 同情報処理装置１の全体動作について説明するフローチャート 同情報処理装置１の全体動作について説明するフローチャート 同理想輪郭点情報の取得処理について説明するフローチャート 同パターン図形の例を示す図 同実観測輪郭線の例を示す図 同実観測輪郭線情報の例を示す図 同補正輪郭点情報の例を示す図 同補正輪郭線の例を示す図 同対象点までの経路長と補正輪郭点までの距離とを示す図 同補正輪郭点を示す図 同理想輪郭線を示す図 同補正輪郭点除去後の理想輪郭線を示す図 同理想輪郭線を示す図 同対象点までの経路長と理想輪郭点までの距離とを示す図 同理想輪郭点情報の例を示す図 同情報処理装置１のブロック図 同情報処理装置１のブロック図 上記実施の形態におけるコンピュータシステムの概観図 上記実施の形態におけるコンピュータシステムのブロック図
以下、本発明による情報処理装置等の実施形態について図面を参照して説明する。なお、実施の形態において同じ符号を付した構成要素は同様の動作を行うので、再度の説明を省略する場合がある。また、本実施の形態において説明する各情報の形式、内容などは、あくまで例示であり、各情報の持つ意味を示すことができれば、形式、内容などは問わない。
（実施の形態１）
本実施の形態において、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を出力する情報処理装置１について説明する。
図１は、本実施の形態における情報処理装置１のブロック図である。情報処理装置１は、受付部１１、変換情報取得部１２、補正輪郭点取得部１３、理想輪郭線取得部１４、理想輪郭点取得部１５、出力部１６を備える。
受付部１１は、パターン情報、実観測輪郭線情報、描画図形輪郭点情報、基準輪郭線情報などを受け付ける。以下、これらの情報について、順次、説明する。また、ここで、電子ビーム描画装置がパターン図形に応じて描画した図形を、以下、適宜、描画図形とする。また、当該描画図形を撮影した画像を、以下、撮影画像とする。また、撮影画像内の描画図形を、以下、適宜、撮影描画図形とする。また、電子ビーム描画装置がパターン図形に応じて描画する図形をシミュレートした図形を、以下、適宜、シミュレート図形とする。また、パターン図形とは、電子ビーム描画装置に描画させる図形である。また、撮影画像の取得（描画図形の撮影）は、通常、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）が行う。
パターン情報とは、パターン図形を示す情報である。パターン情報は、例えば、いわゆるレイアウトデータや、パターンデータなどと呼ばれるデータである。また、パターン情報のデータ形式は、問わない。パターン情報のデータ形式は、通常、いわゆるマスク設計データや、レイアウト設計データなどと呼ばれるデータ形式である。パターン情報の具体的なデータ形式は、例えば、ＧＤＳ−２や、ＯＡＳＩＳ、ＭＥＢＥＳなどである。なお、パターン情報は、通常、１つのパターン図形を示す。
また、実観測輪郭線情報とは、実観測輪郭線を示す情報である。実観測輪郭線とは、撮影描画図形の輪郭線である。また、実観測輪郭線情報は、実観測輪郭線を構成する３以上の点の座標を有する情報である。当該３以上の点は、通常、実観測輪郭線を構成するすべての点である。また、当該３以上の点は、例えば、実観測輪郭線を構成する程度にサンプリングされた実観測輪郭線上の点であってもよい。実観測輪郭線を構成する点を、以下、適宜、実観測輪郭点とする。実観測輪郭点は、実観測輪郭線上の点であるとも言える。また、撮影描画図形の輪郭線は、例えば、撮影画像を構成する画素により示される。言い換えると、撮影描画図形の輪郭線を構成する点は、通常、撮影画像を構成する画素により示される。従って、実観測輪郭線情報が有する３以上の座標は、通常、当該画素の座標である。また、実観測輪郭線情報が有する３以上の座標は、通常、整数である。なお、実観測輪郭線情報を取得する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。
また、描画図形輪郭点情報とは、３以上の描画図形輪郭点を示す情報である。描画図形輪郭点とは、描画図形輪郭線を構成する点である。また、描画図形輪郭線とは、描画図形の輪郭線である。また、描画図形輪郭点は、描画図形輪郭線上の点であるとも言える。また、描画図形輪郭点は、通常、補正を行う必要のない程度に正確な描画図形の輪郭線上の点である。当該補正は、例えば、位置ずれや、大きさ、歪みなどの補正である。また、当該補正は、例えば、座標変換（線形変換）でもある。つまり、描画図形輪郭点は、例えば、補正輪郭点である。補正輪郭点とは、補正が行われた実観測輪郭点である。また、描画図形輪郭点は、例えば、補正を行う必要がない程度に正確な実観測輪郭点である。
また、描画図形輪郭線は、通常、補正を行う必要のない程度に正確な描画図形の輪郭線である。つまり、描画図形輪郭線は、例えば、補正輪郭線である。補正輪郭線とは、補正が行われた実観測輪郭線である。また、描画図形輪郭線は、例えば、補正を行う必要がない程度に正確な実観測輪郭線である。
なお、補正を行う必要がない程度に正確な実観測輪郭点を、以下、適宜、正確実観測輪郭点とする。また、補正を行う必要がない程度に正確な実観測輪郭線を、以下、適宜、正確実観測輪郭線とする。また、補正が必要な実観測輪郭点を、以下、適宜、要補正実観測輪郭点とする。また、補正が必要な実観測輪郭線を、以下、適宜、要補正実観測輪郭線とする。また、受付部１１が受け付ける実観測輪郭線情報が示す実観測輪郭線は、通常、要補正実観測輪郭線である。
また、描画図形輪郭点情報は、３以上の描画図形輪郭点の座標を有する情報である。当該３以上の描画図形輪郭点は、描画図形輪郭線を構成する描画図形輪郭点のうちのいずれか３以上の描画図形輪郭点である。また、描画図形輪郭点情報は、例えば、描画図形輪郭線を構成する３以上のすべての描画図形輪郭点の座標を有していてもよい。当該座標は、ｘ座標とｙ座標の２つの数値からなる。また、当該数値は、通常、整数であるが、小数であってもよい。
また、基準輪郭線情報とは、基準輪郭線を示す情報である。基準輪郭線とは、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である。具体的に、基準輪郭線は、例えば、電子ビームの強度を示す１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である。また、当該強度は、パターン図形内の全体に電子ビームが入射されたときの当該電子ビームの強度（電子ビーム描画装置によるパターン図形に応じた図形の描画時の強度）である。また、基準輪郭線情報は、例えば、基準輪郭線を構成する３以上のすべての点の座標を有する情報である。また、基準輪郭線情報を、以下、適宜、アンカー輪郭線情報とする。また、基準輪郭線を、以下、適宜、アンカー輪郭線とする。
なお、電子ビーム描画装置の構成や、電子ビーム描画装置が行う処理や動作などについては、公知であるので、詳細な説明を省略する。
また、３以上の実観測輪郭点を示す情報を、以下、適宜、実観測輪郭点情報とする。当該３以上の実観測輪郭点は、実観測輪郭線を構成する実観測輪郭点のうちのいずれか３以上の実観測輪郭点である。また、実観測輪郭点情報は、例えば、実観測輪郭線を構成する３以上のすべての実観測輪郭点の座標を有していてもよい。当該座標は、ｘ座標とｙ座標の２つの数値からなる。また、当該数値は、通常、整数であるが、小数であってもよい。
また、描画図形輪郭線を示す情報を、以下、適宜、描画図形輪郭線情報とする。描画図形輪郭線情報は、描画図形輪郭線を構成する３以上の点の座標を有する情報である。当該３以上の点は、通常、描画図形輪郭線を構成するすべての点である。また、当該３以上の点は、例えば、描画図形輪郭線を構成する程度にサンプリングされた描画図形輪郭線上の点であってもよい。また、描画図形輪郭線情報が有する３以上の座標は、ｘ座標とｙ座標の２つの数値からなる。また、当該数値は、通常、整数であるが、小数であってもよい。
また、本実施の形態において、座標は、ベクトルであってもよい。また、受付部１１が受け付ける実観測輪郭線情報は、例えば、実観測輪郭点情報であってもよい。また、受付部１１が受け付ける描画図形輪郭点情報は、例えば、描画図形輪郭線情報であってもよい。
受付部１１は、通常、パターン情報と、実観測輪郭線情報とを受け付ける。また、受付部１１は、例えば、描画図形輪郭点情報と、基準輪郭線情報とを受け付けてもよい。また、受付部１１は、例えば、実観測輪郭線情報と、基準輪郭線情報とを受け付けてもよい。
また、受け付けとは、タッチパネルや、キーボードなどの入力デバイスから入力された情報の取得、光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなどの記録媒体に格納されている情報の取得、有線もしくは無線の通信回線を介して送信された情報の受信などを含む概念である。
また、受付部１１における情報や指示などの入力手段は、メニュー画面によるものや、キーボードなど、何でもよい。受付部１１は、メニュー画面の制御ソフトウェアや、キーボード等の入力手段のデバイスドライバなどで実現され得る。
変換情報取得部１２は、変換情報を取得する。変換情報とは、実観測輪郭点を、対応する他の点に変換する情報である。言い換えると、変換情報とは、実観測輪郭点の座標を用いて、対応する他の点の座標を算出するための情報である。また、変換情報は、実観測輪郭点を補正するための情報（実観測輪郭点に対する補正を行うための情報）であるとも言える。つまり、変換情報は、実観測輪郭点を用いて、補正輪郭点を算出するための情報であるとも言える。
また、変換情報は、通常、１以上のパラメータを有する情報である。当該１以上のパラメータを有する情報は、例えば、ベクトルである。また、変換情報は、例えば、関数であってもよい。また、当該関数は、通常、当該ベクトルを有する関数である。また、ベクトルである変換情報を、以下、適宜、変換ベクトルとする。また、関数である変換情報を、以下、適宜、変換関数とする。
また、以下において、点を取得することとは、点の座標を取得することである。また、同様に、以下において、点を算出することとは、点の座標を算出することである。また、以下において、線を取得することとは、線を示す情報を取得することである。また、同様に、以下において、線を算出することとは、線を示す情報を算出することである。線を示す情報は、例えば、線を構成する２以上のすべての点の座標を有する情報や、線を示す関数などである。また、取得には、通常、算出も含まれる。
変換情報取得部１２は、通常、パターン情報と、実観測輪郭線情報とを用いて、変換情報を取得する。この場合、変換情報取得部１２は、通常、変換情報と共に、基準輪郭線情報を取得する。
具体的に、変換情報取得部１２は、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各補正輪郭点に対する畳み込みの値と、当該畳み込み値に関する閾値（以下、適宜、畳み込み閾値とする）との差の二乗和を最小化する変換情報と、当該閾値とを算出する。そして、変換情報取得部１２は、当該算出した閾値を用いて、基準輪郭線情報を取得する。なお、当該閾値を用いて基準輪郭線情報を取得する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。
ここで、変換情報が、変換ベクトルであるとする。また、当該変換ベクトルを、αとする。また、ｉ番目の実観測輪郭点の座標を、ｘＭ ｉとする。また、畳み込み閾値を、Ｔとする。また、実観測輪郭点の座標と変換情報とを用いて、補正輪郭点の座標を算出する関数を、Ｍとする。また、補正輪郭点の座標を用いて、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の補正輪郭点に対する畳み込み値を算出する関数を、Ｉとする。変換情報取得部１２は、例えば、数式１より算出される値を最小化するαおよびＴを算出する。
Figure 2015191149
なお、数式１におけるαおよびＴを算出する解法は、例えば、非線型最小二乗法である。非線形最小二乗法は、例えば、ガウス・ニュートン法やLevenberg-Marquardt法などである。また、数式１における関数Ｉは、数式２である。数式２は、パターン情報が示すパターン図形により示される領域ｐａｔｔｅｒｎ内における任意の点拡がり関数の点ｘに対する畳み込み値を算出する関数である。また、数式２において、ｘは、点ｘの座標である。また、ｒは、領域ｐａｔｔｅｒｎ内の点の座標である。
Figure 2015191149
また、数式２における関数ｐは、例えば、数式３である。数式３は、ある点における電子ビームの散乱（強度分布）を示す関数であり、点拡がり関数（Point Spread Function：PSF）である。また、数式３において、ｕは、原点（ｘ，ｙ）＝（０，０）から点ｕに向かうベクトルの大きさ（長さ）である。つまり、ｕは、原点から、数式２における「ｒ−ｘ」により得られる座標に向かうベクトルの大きさである。また、数式３において、σは、電子ビームの散乱の度合を示すパラメータである。
Figure 2015191149
なお、関数ｐが数式３である場合、数式２は、パターン情報が示すパターン図形内の領域（電子ビームの照射領域）ｐａｔｔｅｒｎの全体に電子ビームが入射したときの点ｘに与える影響（エネルギー）の大きさを算出する関数である。当該影響の大きさは、電子ビームの強度であるとも言える。
また、関数ｐは、以下の条件のすべてを満たす点拡がり関数であれば、何でもよい。
（１）単調に減少する。
（２）ｘ−＞∞のとき、ｐ（ｘ）が０に収束する。
（３）ｐ（ｒ）×ｒの０〜∞の区間での積分が、ある定数に収束する。
また、変換情報取得部１２は、例えば、算出したαを有する関数である数式１におけるＭを、変換情報として取得してもよい。
補正輪郭点取得部１３は、実観測輪郭線情報と、変換情報とを用いて、補正輪郭点情報を取得する。当該実観測輪郭線情報は、受付部１１が受け付けた実観測輪郭線情報である。また、当該変換情報は、変換情報取得部１２が取得した変換情報である。また、当該変換情報は、例えば、補正輪郭点取得部１３が予め保持している変換情報であってもよい。なお、変換情報取得部１２が取得した変換情報を、以下、適宜、取得変換情報とする。また、補正輪郭点取得部１３が予め保持している変換情報を、以下、適宜、保持変換情報とする。
また、補正輪郭点取得部１３は、３以上の各実観測輪郭点に対応する３以上の補正輪郭点を算出する。つまり、補正輪郭点取得部１３は、１つの実観測輪郭点に対して、当該実観測輪郭点に対応する１つの補正輪郭点を、３以上の実観測輪郭点ごとに算出する。
例えば、取得変換情報を用いる場合、補正輪郭点取得部１３は、例えば、変換情報取得部１２が変換情報の取得に用いた３以上の実観測輪郭点の座標を、実観測輪郭線情報から取得する。そして、補正輪郭点取得部１３は、当該３以上の各実観測輪郭点の座標に対して取得変換情報を適用し、３以上の補正輪郭点の座標を算出する。
ここで、取得変換情報が、例えば、変換ベクトルである場合、補正輪郭点取得部１３は、例えば、３以上の各実観測輪郭点の座標に当該変換ベクトルが有する１以上のパラメータを適用し、３以上の補正輪郭点の座標を算出する。当該「パラメータを適用する」とは、例えば、パラメータを用いた予め決められた計算を行うことなどである。
また、取得変換情報が、変換関数である場合、補正輪郭点取得部１３は、当該３以上の各実観測輪郭点の座標を、当該変換関数に代入し、３以上の補正輪郭点の座標を算出する。そして、補正輪郭点取得部１３は、当該算出した３以上の補正輪郭点の座標を有する補正輪郭点情報を取得する。
また、保持変換情報を用いる場合、補正輪郭点取得部１３は、例えば、実観測輪郭線情報から、予め決められた間隔ごとの３以上の実観測輪郭点の座標を取得する。そして、補正輪郭点取得部１３は、取得した３以上の実観測輪郭点の座標と、保持変換情報とを用いて、３以上の補正輪郭点の座標を算出する。当該補正輪郭点の座標を算出する方法や手順などは、取得変換情報を用いる場合と同様であるので、説明を省略する。そして、補正輪郭点取得部１３は、当該算出した３以上の補正輪郭点の座標を有する補正輪郭点情報を取得する。
理想輪郭線取得部１４は、理想輪郭線情報を取得する。理想輪郭線情報とは、理想輪郭線を示す情報である。また、理想輪郭線とは、３以上の補正輪郭点を近似する曲線でもある。また、理想輪郭線は、例えば、描画図形の輪郭線であり、ノイズや位置ずれなどの誤差を含まない理想的な輪郭線であるとも言える。
理想輪郭線情報は、通常、基準輪郭線上の対象点から当該対象点に対応する理想輪郭点までの距離を、基準点から当該対象点までの経路長により算出する関数である。対象点とは、基準輪郭線上の点（基準輪郭点）であり、理想輪郭点までの距離を算出する対象となる点である。また、基準点とは、基準輪郭線上の任意の点（基準輪郭点）であり、対象点までの経路長を算出する基準となる点である。また、経路長とは、基準輪郭線の長さである。つまり、例えば、基準輪郭線上の点ａから、基準輪郭線上の点ｂまでの経路長とは、点ａから点ｂまでの基準輪郭線の長さである。
また、理想輪郭線情報は、例えば、理想輪郭点の座標を算出する関数であってもよい。当該関数は、例えば、理想輪郭点のｙ座標を、理想輪郭点のｘ座標により算出する関数や、理想輪郭点のｘ座標を、理想輪郭点のｙ座標により算出する関数であってもよい。
また、理想輪郭線情報は、例えば、理想輪郭線を構成する３以上の点の座標を有する情報であってもよい。当該３以上の点は、通常、理想輪郭線を構成するすべての点である。また、当該３以上の点は、例えば、理想輪郭線を構成する程度にサンプリングされた理想輪郭線上の点であってもよい。理想輪郭線を構成する点を、以下、適宜、理想輪郭点とする。理想輪郭点は、例えば、理想輪郭線上の点であるとも言える。また、理想輪郭線情報が有する座標は、ｘ座標とｙ座標の２つの数値からなる。また、当該数値は、通常、整数であるが、小数であってもよい。
理想輪郭線取得部１４は、通常、補正輪郭点情報と、基準輪郭線情報とを用いて、理想輪郭線情報を取得する。当該補正輪郭点情報は、補正輪郭点取得部１３が取得した補正輪郭点情報である。また、当該基準輪郭線情報は、変換情報取得部１２が取得した基準輪郭線情報である。また、当該補正輪郭点情報は、例えば、受付部１１が受け付けた描画図形輪郭点情報であってもよい。また、当該基準輪郭線情報は、例えば、受付部１１が受け付けた基準輪郭線情報であってもよい。
この場合、理想輪郭線取得部１４は、基準輪郭線上の対象点から当該対象点に対応する理想輪郭点までの距離を、基準点から当該対象点までの経路長により算出する関数である理想輪郭線情報を取得する。例えば、理想輪郭線取得部１４は、まず、３以上の各補正輪郭点と、当該補正輪郭点に対応する基準輪郭線上の点との距離を算出する。当該１つの補正輪郭点に対応する基準輪郭点を、以下、適宜、第一対応点とする。そして、理想輪郭線取得部１４は、算出した距離を、基準輪郭線上の任意の点から第一対応点までの経路長により算出する関数であり、当該距離を近似する曲線を示す関数を、理想輪郭線情報として算出する。当該処理を、以下、適宜、スムージング処理とする。そして、理想輪郭線取得部１４は、算出した理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい補正輪郭点を除去する。この処理を、以下、適宜、外れ値除去処理とする。また、補正輪郭点を除去するとは、例えば、当該補正輪郭点の座標を、補正輪郭点情報から削除することである。また、当該外れ値除去処理は、例えば、スミルノフ・グラブス検定などの手法を用いて行う。そして、理想輪郭線取得部１４は、除去後の補正輪郭点に対して、上記、スムージング処理を適用する。そして、理想輪郭線取得部１４は、再度、取得した理想輪郭線情報を用いて、外れ値除去処理を行い、除去の対象となる補正輪郭点がなくなるまで、スムージング処理と、外れ値除去処理とを１以上繰り返す。
また、上記、スムージング処理などの詳細な手順は、例えば、以下のとおりである。
（１）理想輪郭線取得部１４は、３以上の各補正輪郭点と、基準輪郭線上の基準輪郭点である第一対応点とを、１つずつ対応付ける。
（２）理想輪郭線取得部１４は、３以上の各補正輪郭点に対し、第一対応点との距離を算出する。
（３）理想輪郭線取得部１４は、（２）で算出した３以上の距離を近似する曲線を示す関数であり、当該距離を、基準輪郭線上の任意の点から対応点までの経路長により算出する関数を、理想輪郭線情報として算出する。
（４）理想輪郭線取得部１４は、３以上の各補正輪郭点に対し、（３）で算出した理想輪郭線情報（関数）を用いて、当該理想輪郭線情報により示される理想輪郭線上の対応する点を算出する。当該１つの補正輪郭点に対応する理想輪郭線上の点を、以下、適宜、第二対応点とする。
（５）理想輪郭線取得部１４は、３以上の各補正輪郭点に対し、（４）で算出した第二対応点との距離を算出する。
（６）理想輪郭線取得部１４は、（５）で算出した距離が予め決められた条件を満たすほど大きい補正輪郭点を削除する。そして、理想輪郭線取得部１４は、削除の対象となる補正輪郭点が存在しない場合、処理を終了する。
（７）理想輪郭線取得部１４は、（３）に戻る。つまり、理想輪郭線取得部１４は、（６）での削除後の３以上の補正輪郭点に対して、（３）の処理を適用する。
なお、上記（１）において、補正輪郭点と第一対応点とを対応付けるとは、補正輪郭点の座標と第一対応点との座標とを対応付けることである。また、補正輪郭点と基準輪郭点とを対応付ける方法や手順などは、問わない。理想輪郭線取得部１４は、通常、基準輪郭線上の３以上の点において、基準輪郭線に対する法線を取得する。そして、理想輪郭線取得部１４は、当該法線上に位置する補正輪郭点と基準輪郭点（第一対応点）とを対応付ける。
また、上記（３）において、３以上の距離を近似する曲線を算出する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。
また、上記の処理の概要図は、例えば、図２である。
また、理想輪郭線取得部１４は、例えば、補正輪郭点情報のみを用いて、理想輪郭線情報を取得してもよい。当該補正輪郭点情報は、補正輪郭点取得部１３が取得した補正輪郭点情報である。また、当該補正輪郭点情報は、例えば、受付部１１が受け付けた描画図形輪郭点情報であってもよい。
この場合、理想輪郭線取得部１４は、例えば、理想輪郭点の座標を算出する関数である理想輪郭線情報、または、理想輪郭線を構成する３以上のすべての理想輪郭点の座標を有する理想輪郭線情報を取得する。
理想輪郭点の座標を算出する関数である理想輪郭線情報を算出する場合、理想輪郭線取得部１４は、例えば、連続するｎ個の補正輪郭点ごとに、当該ｎ個の補正輪郭点を近似する直線または曲線を示す３以上の関数を算出する。当該ｎは、２以上、かつ、補正輪郭点情報が有する補正輪郭点の座標の数よりも小さいことが好適である。また、このとき、理想輪郭線取得部１４は、例えば、両端の２つの補正輪郭点を通過する関数を算出する。また、当該直線または曲線を示す関数を算出する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。そして、理想輪郭線取得部１４は、当該３以上の各関数に、算出に用いた補正輪郭点の座標により示される定義域または値域を対応付ける。通常、定義域が好適である。そして、理想輪郭線取得部１４は、３以上の定義域または値域が対応付いた３以上の関数である理想輪郭線情報を取得する。
また、理想輪郭線を構成する３以上のすべての理想輪郭点の座標を有する理想輪郭線情報を算出する場合、理想輪郭線取得部１４は、例えば、上記と同様に、定義域または値域が対応付いた３以上の関数を算出する。そして、理想輪郭線取得部１４は、算出した３以上の関数を用いて、当該関数により示される直線または曲線を構成する３以上の点の座標であり、対応付いている定義域または値域の範囲内の座標を算出する。そして、理想輪郭線取得部１４は、理想輪郭線を構成する３以上のすべての理想輪郭点の座標を有する理想輪郭線情報を取得する。
なお、補正輪郭点情報のみを用いて、理想輪郭線情報を取得する方法や手順などは、問わない。つまり、理想輪郭線取得部１４は、例えば、補正輪郭点情報のみを用いて、上記以外の方法により、理想輪郭線情報を取得してもよい。
理想輪郭点取得部１５は、理想輪郭点情報を取得する。理想輪郭点情報とは、３以上の理想輪郭点を示す情報である。また、理想輪郭点情報は、３以上の理想輪郭点の座標を有する情報である。当該３以上の理想輪郭点は、理想輪郭線を構成する理想輪郭点のうちのいずれか３以上の理想輪郭点である。また、理想輪郭点情報は、例えば、理想輪郭線を構成する３以上のすべての理想輪郭点の座標を有していてもよい。当該座標は、ｘ座標とｙ座標の２つの数値からなる。また、当該数値は、通常、整数であるが、小数であってもよい。
理想輪郭点取得部１５は、通常、理想輪郭線情報と、基準輪郭線情報とを用いて、理想輪郭点情報を取得する。当該理想輪郭線情報は、理想輪郭線取得部１４が取得した理想輪郭線情報である。また、当該理想輪郭線情報は、理想輪郭線を示す関数である。また、当該関数は、基準輪郭線上の任意の点からの経路長に関する関数である。また、当該基準輪郭線情報は、理想輪郭線取得部１４が、理想輪郭線情報の取得に用いた基準輪郭線情報である。つまり、例えば、理想輪郭線取得部１４が、受付部１１が受け付けた基準輪郭線情報を用いて理想輪郭線情報を取得した場合、理想輪郭点取得部１５は、受付部１１が受け付けた基準輪郭線情報を用いる。また、例えば、理想輪郭線取得部１４が、変換情報取得部１２が取得した基準輪郭線情報を用いて理想輪郭線を取得した場合、理想輪郭点取得部１５は、変換情報取得部１２が取得した基準輪郭線情報を用いる。
この場合、理想輪郭点取得部１５は、例えば、まず、基準輪郭線上の基準点から、任意の経路長にある３以上の点である対象点を算出する。当該３以上の対象点の間隔は、通常、等間隔であるが、そうでなくてもよい。つまり、理想輪郭点取得部１５は、通常、基準輪郭線上の基準点から、予め決められた経路長ごとに３以上の対象点を算出する。また、理想輪郭点取得部１５は、例えば、基準輪郭線上の基準点から、３以上の異なる任意の経路長ごとに、３以上の対象点を算出してもよい。そして、理想輪郭点取得部１５は、算出した３以上の各対象点に対応する距離を、理想輪郭線情報（関数）を用いて算出する。そして、理想輪郭点取得部１５は、算出した距離を、対象点に加算し、理想輪郭点を算出する。そして、理想輪郭点取得部１５は、３以上の理想輪郭点の座標を有する理想輪郭点情報を取得する。なお、当該処理の概要図は、例えば、図３である。
また、理想輪郭点取得部１５は、例えば、理想輪郭線情報を用いて、理想輪郭点情報を取得する。当該理想輪郭線情報は、理想輪郭線取得部１４が取得した理想輪郭線情報である。また、当該理想輪郭線情報は、理想輪郭線を構成する３以上のすべての理想輪郭点の座標を有する情報である。この場合、理想輪郭点取得部１５は、当該理想輪郭線情報から、予め決められた間隔ごとの３以上の理想輪郭点の座標を取得する。そして、理想輪郭点取得部１５は、当該取得した３以上の理想輪郭点の座標を有する理想輪郭点情報を取得する。
出力部１６は、通常、理想輪郭点情報を出力する。当該理想輪郭点情報は、理想輪郭点取得部１５が取得した理想輪郭点情報である。また、出力部１６は、例えば、補正輪郭点情報を出力する。当該補正輪郭点情報は、補正輪郭点取得部１３が取得した補正輪郭点情報である。また、出力部１６が出力する理想輪郭点情報および補正輪郭点情報は、通常、校正輪郭点情報である。つまり、出力部１６は、理想輪郭点情報および補正輪郭点情報を、通常、校正輪郭点情報として出力する。校正輪郭点情報とは、パターン図形の校正に用いる情報である。また、校正輪郭点情報は、３以上の座標を有する情報でもある。また、校正輪郭点情報は、描画図形の輪郭線を正確に示す情報であり、描画図形の輪郭線上の３以上の点の座標を有する情報であるとも言える。
また、出力とは、ディスプレイへの表示、プロジェクターを用いた投影、プリンタでの印字、音出力、外部の装置への送信、記録媒体への蓄積、他の処理装置や他のプログラムなどへの処理結果の引渡しなどを含む概念である。なお、送信や蓄積、処理結果の引渡しについては、出力対象が最終的にユーザに提示されるものとする。
また、出力部１６は、ディスプレイやスピーカーなどの出力デバイスを含むと考えてもよいし、含まないと考えてもよい。出力部１６は、出力デバイスのドライバソフトまたは、出力デバイスのドライバソフトと出力デバイスなどで実現され得る。
なお、変換情報取得部１２、補正輪郭点取得部１３、理想輪郭線取得部１４、理想輪郭点取得部１５は、通常、ＭＰＵやメモリ等から実現され得る。また、変換情報取得部１２などの処理手順は、通常、ソフトウェアで実現され、当該ソフトウェアはＲＯＭ等の記録媒体に記録されている。なお、変換情報取得部１２などは、ハードウェア（専用回路）で実現されてもよい。
次に、情報処理装置１の全体動作について、フローチャートを用いて説明する。なお、所定の情報におけるｉ番目の情報は、「情報［ｉ］」と記載するものとする。図４は、パターン情報と実観測輪郭線情報とを用いて、変換情報と基準輪郭線情報とを取得し、実観測輪郭点情報と変換情報とを用いて、補正輪郭点情報を取得し、補正輪郭点情報と基準輪郭点情報とを用いて理想輪郭点情報を取得し、当該理想輪郭点情報を出力する場合の情報処理装置１の全体動作を示すフローチャートである。
（ステップＳ４０１）変換情報取得部１２は、受付部１１が実観測輪郭線情報を受け付けたか否かを判断する。受け付けた場合は、ステップＳ４０２に進み、そうでない場合は、ステップＳ４０１に戻る。
（ステップＳ４０２）変換情報取得部１２は、受付部１１がパターン情報を受け付けたか否かを判断する。受け付けた場合は、ステップＳ４０３に進み、そうでない場合は、ステップＳ４０１に戻る。
（ステップＳ４０３）変換情報取得部１２は、ステップＳ４０１で受け付けた実観測輪郭線情報と、ステップＳ４０２で受け付けたパターン情報とを用いて、変換情報と、基準輪郭線情報とを取得する。
（ステップＳ４０４）補正輪郭点取得部１３は、ステップＳ４０１で受け付けた実観測輪郭線情報と、ステップＳ４０３で算出した変換情報とを用いて、補正輪郭点情報を取得する。
（ステップＳ４０５）理想輪郭線取得部１４は、ステップＳ４０３で取得した基準輪郭線情報と、ステップＳ４０４で取得した補正輪郭点情報とを用いて、補正輪郭点情報が示す３以上の各補正輪郭点に対し、当該３以上の各補正輪郭点と第一対応点との距離を算出する。
（ステップＳ４０６）理想輪郭線取得部１４は、補正輪郭点情報が示す３以上の各補正輪郭点と当該３以上の各補正輪郭点に対応する第一対応点との距離を近似する曲線を示す関数であり、基準輪郭線上の基準点から３以上の各第一対応点までの経路長により、当該第一対応点に対応する距離を算出する関数である理想輪郭線情報を取得する。
（ステップＳ４０７）理想輪郭線取得部１４は、補正輪郭点情報が示す３以上の各補正輪郭点に対し、当該３以上の各補正輪郭点と第二対応点との距離を算出する。
（ステップＳ４０８）理想輪郭線取得部１４は、ステップＳ４０７で算出した３以上の距離に対し、外れ値（予め決められた条件を満たすほど大きい距離）が存在するか否かを判断する。理想輪郭線取得部１４は、例えば、ステップＳ４０７で算出した３以上の各距離に対し、予め決められた条件を満たすほど大きいか否かを判断する。そして、予め決められた条件を満たすほど大きい場合、理想輪郭線取得部１４は、外れ値であると判断し、また、予め決められた条件を満たさない場合、理想輪郭線取得部１４は、外れ値でないと判断する。また、外れ値であると判断した数が１以上である場合、理想輪郭線取得部１４は、外れ値が存在すると判断する。また、外れ値であると判断した数が０である場合、理想輪郭線取得部１４は、外れ値が存在しないと判断する。そして、存在する場合は、ステップＳ４０９に進み、そうでない場合は、ステップＳ４１０に進む。
（ステップＳ４０９）理想輪郭線取得部１４は、ステップＳ４０８で外れ値であると判断された距離に対応する補正輪郭点を、補正輪郭点情報から削除する。そして、ステップＳ７０６に戻る。
（ステップＳ４１０）理想輪郭点取得部１５は、ステップＳ４０３で取得した基準輪郭線情報と、ステップＳ４０６で取得した理想輪郭線情報とを用いて、理想輪郭点情報を取得する。
（ステップＳ４１１）出力部１６は、ステップＳ４１０で取得した理想輪郭点情報を出力する。また、出力部１６は、例えば、ステップＳ４０４で取得した補正輪郭点情報を出力してもよい。そして、ステップＳ４０１に戻る。
図５は、受け付けた描画図形輪郭点情報、または、取得した補正輪郭点情報を用いて理想輪郭点情報を取得し、当該理想輪郭点情報を出力する場合の情報処理装置１の全体動作を示すフローチャートである。
（ステップＳ５０１）理想輪郭線取得部１４は、受付部１１が描画図形輪郭点情報を受け付けたか否かを判断する。受け付けた場合は、ステップＳ５０４に進み、そうでない場合は、ステップＳ５０２に進む。
（ステップＳ５０２）理想輪郭線取得部１４は、受付部１１が実観測輪郭点情報を受け付けたか否かを判断する。受け付けた場合は、ステップＳ５０３に進み、そうでない場合は、ステップＳ５０１に戻る。
（ステップＳ５０３）補正輪郭点取得部１３は、ステップＳ５０２で受け付けた実観測輪郭点情報と、予め保持している変換情報とを用いて、補正輪郭点情報を取得する。
（ステップＳ５０４）理想輪郭線取得部１４は、受付部１１が基準輪郭線情報を受け付けたか否かを判断する。受け付けた場合は、ステップＳ５０５に進み、そうでない場合は、ステップＳ５０１に戻る。
（ステップＳ５０５）ここで、ステップＳ５０１で受け付けた描画図形輪郭点情報およびステップＳ５０３で取得した補正輪郭点情報を、処理対象点情報とする。また、描画図形輪郭点情報が示す描画図形輪郭点および補正輪郭点情報が示す補正輪郭点を、処理対象点とする。理想輪郭線取得部１４は、処理対象点情報と、ステップＳ５０４で受け付けた基準輪郭線情報とを用いて、処理対象点情報が示す３以上の各処理対象点に対し、当該３以上の各処理対象点と第一対応点との距離を算出する。
（ステップＳ５０６）理想輪郭線取得部１４は、処理対象点情報が示す３以上の各処理対象点と、当該３以上の各処理対象点に対応する第一対応点との距離を近似する曲線を示す情報であり、基準輪郭線上の基準点から３以上の各第一対応点までの経路長により、当該第一対応点に対応する距離を算出する関数である理想輪郭線情報を取得する。
（ステップＳ５０７）理想輪郭線取得部１４は、処理対象点情報が示す３以上の各処理対象点に対し、当該３以上の各処理対象点と第二対応点との距離を算出する。
（ステップＳ５０８）理想輪郭線取得部１４は、ステップＳ５０７で算出した３以上の距離に対し、外れ値（予め決められた条件を満たすほど大きい距離）が存在するか否かを判断する。理想輪郭線取得部１４は、例えば、ステップＳ５０７で算出した３以上の各距離に対し、予め決められた条件を満たすほど大きいか否かを判断する。そして、予め決められた条件を満たすほど大きい場合、理想輪郭線取得部１４は、外れ値であると判断し、また、予め決められた条件を満たさない場合、理想輪郭線取得部１４は、外れ値でないと判断する。また、外れ値であると判断した数が１以上である場合、理想輪郭線取得部１４は、外れ値が存在すると判断する。また、外れ値であると判断した数が０である場合、理想輪郭線取得部１４は、外れ値が存在しないと判断する。そして、存在する場合は、ステップＳ５０９に進み、そうでない場合は、ステップＳ５１０に進む。
（ステップＳ５０９）理想輪郭線取得部１４は、ステップＳ５０８で外れ値であると判断された距離に対応する処理対象点を、処理対象点情報から削除する。そして、ステップＳ５０６に戻る。
（ステップＳ５１０）理想輪郭点取得部１５は、ステップＳ５０４で受け付けた基準輪郭線情報と、ステップＳ５０６で取得した理想輪郭線情報とを用いて、理想輪郭点情報を取得する。
（ステップＳ５１１）出力部１６は、ステップＳ５１０で取得した理想輪郭点情報を出力する。そして、ステップＳ５０１に戻る。
なお、図５のフローチャートにおいて、電源オフや処理終了の割り込みにより処理を終了してもよい。
また、図４のフローチャートのステップＳ４０６、および、図５のフローチャートのステップＳ５０６の理想輪郭点情報の取得処理について説明するフローチャートは、例えば、図６である。図６において、理想輪郭線情報は、関数ｂ（ｒ）であるものとする。
（ステップＳ６０１）理想輪郭点取得部１５は、基準輪郭線情報を用いて、基準輪郭線の長さを算出し、変数ｌｅｎｇｔｈにセットする。
（ステップＳ６０２）理想輪郭点取得部１５は、「ｌｅｎｇｔｈ／ｍ」を算出し、変数ｖにセットする。ここで、ｍは、基準輪郭線上の対象点の数である。また、ｖは、２つの対象点間の経路長（間隔）である。
（ステップＳ６０３）理想輪郭点取得部１５は、カウンタｉに１をセットする。
（ステップＳ６０４）理想輪郭点取得部１５は、「ｖ×（ｉ−１）」を算出し、変数ｒにセットする。ここで、ｒは、基準輪郭線上の基準点から対象点［ｉ］までの経路長である。
（ステップＳ６０５）理想輪郭点取得部１５は、ｂ（ｒ）を算出し、変数ｄにセットする。
（ステップＳ６０６）理想輪郭点取得部１５は、対象点［ｉ］における法線であり、長さがｄである法線を取得し、当該法線のｘ成分であるｄｘと、ｙ成分であるｄｙとを算出する。
（ステップＳ６０７）理想輪郭点取得部１５は、対象点［ｉ］に（ｄｘ，ｄｙ）を加算し、理想輪郭点［ｉ］にセットする。具体的に、理想輪郭点取得部１５は、対象点［ｉ］のｘ座標に、ｄｘを加算し、理想輪郭点［ｉ］のｘ座標とする。また、理想輪郭点取得部１５は、対象点［ｉ］のｙ座標にｄｙを加算し、理想輪郭点［ｉ］のｙ座標とする。
（ステップＳ６０８）理想輪郭点取得部１５は、ｉがｍであるか否かを判断する。ｍである場合は、上位処理にリターンし、そうでない場合は、ステップＳ６０９に進む。
（ステップＳ６０９）理想輪郭点取得部１５は、ｉを１インクリメントする。そして、ステップＳ６０４に戻る。
なお、上記で説明した情報処理装置１の全体動作は、あくまで一例である。つまり、情報処理装置１の全体動作は、上記の説明に限定されるものではない。
（具体例）
次に、情報処理装置１の動作の具体例について説明する。
（例１）
本例において、パターン情報と、実観測輪郭線情報を用いて、変換情報と基準輪郭線情報とを取得し、当該変換情報を用いて、補正輪郭点情報を取得する例について説明する。なお、本例において、パターン情報が示すパターン図形であり、電子ビーム描画装置に描画させるパターン図形は、図７であるものとする。
まず、受付部１１は、パターン情報と実観測輪郭線情報とを受け付ける。当該実観測輪郭線情報により示される実観測輪郭線は、例えば、図８である。また、当該実観測輪郭線情報は、例えば、図９である。当該実観測輪郭線情報は、レコードを一意に特定するためのＩＤと、３以上の実観測輪郭点の座標を有する。項目名「ｘ」は、実観測輪郭点のｘ座標であり、項目名「ｙ」は、実観測輪郭点のｙ座標である。
次に、変換情報取得部１２は、受付部１１が受け付けたパターン情報と実観測輪郭線情報とを用いて、数式１により算出される値を最小化するαとＴを算出する。当該αおよびＴを算出する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。
次に、補正輪郭点取得部１３は、算出したαにより表現される変換情報を、図９の各実観測輪郭点の座標に適用する。そして、補正輪郭点取得部１３は、補正輪郭点情報を算出する。当該補正輪郭点情報は、例えば、図１０である。また、図１０の３以上の各補正輪郭点情報が示す補正輪郭点により示される補正輪郭線は、例えば、図１１である。
（例２）
本例において、補正輪郭点情報または描画図形輪郭点情報と、基準輪郭線情報とを用いて、理想輪郭点情報を取得し、理想輪郭点情報を取得する例について説明する。なお、本例において、補正輪郭点情報を用いる例について説明する。つまり、描画図形輪郭点情報を用いる例については、本例において、「補正輪郭点」を、「描画図形輪郭点」と読み替えるものとする。また、描画図形輪郭点情報は、受付部１１が受け付ける。
まず、理想輪郭線取得部１４は、補正輪郭点取得部１３が取得した補正輪郭点情報により示される３以上の各補正輪郭点に対して、基準輪郭線上の第一対応点を算出する。そして、理想輪郭線取得部１４は、当該３以上の各補正輪郭点と、当該補正輪郭点に対応する第一対応点との距離を算出する。そして、理想輪郭線取得部１４は、基準輪郭線上の基準点から第一対応点までの経路長ｒを算出し、当該第一対応点に対応する補正輪郭点と、当該第一対応点とを対応付ける。この結果、理想輪郭線取得部１４は、例えば、図１２に示す情報を取得する。当該情報は、レコードを一意に特定するためのＩＤと、補正輪郭点の座標と、当該補正輪郭点に対応する第一対応点の基準点からの経路長（項目名：ｒ）と、当該補正輪郭点と第一対応点との距離（項目名：ｂ）とを有する。項目名「ｘ」は、補正輪郭点のｘ座標であり、項目名「ｙ」は、補正輪郭点のｙ座標である。また、図１２におけるｒとｄの関係を表すグラフは、例えば、図１３である。
次に、理想輪郭線取得部１４は、図１３のグラフを用いて、ｂを近似するｒの関数を算出する。当該関数をｂ（ｒ）とすると、ｂ（ｒ）により示される曲線は、例えば、図１４である。また、当該曲線は、理想輪郭線である。また、当該曲線を示す関数ｂ（ｒ）は、理想輪郭線情報である。
次に、理想輪郭線取得部１４は、図１４のグラフから、理想輪郭線情報との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい補正輪郭点を除去する。そして、理想輪郭線取得部１４は、当該除去後の補正輪郭点に対応するｂを近似する関数ｂ（ｒ）を算出する。当該除去後のｂ（ｒ）により示される曲線は、例えば、図１５である。理想輪郭線取得部１４は、外れ値である補正輪郭点を除去する処理と、当該除去後の補正輪郭点に対応するｂを近似する関数ｂ（ｒ）を算出する処理とを、いわゆる終了条件を満たすまで繰り返し、理想輪郭線情報を取得する。理想輪郭線取得部１４が最終的に取得した理想輪郭線情報ｂ（ｒ）により示される曲線は、例えば、図１６である。
次に、理想輪郭点取得部１５は、基準輪郭線上の基準点から、予め決められた経路長ごとの点である対象点を算出する。そして、理想輪郭点取得部１５は、理想輪郭線取得部１４が取得した理想輪郭線情報である関数ｂ（ｒ）と、算出した３以上の各対象点に対応する経路長ｒとを用いて、当該対象点から理想輪郭線までの距離ｂを算出する。そして、理想輪郭点取得部１５は、対象点までのｒと、当該対象点の座標と、当該対象点におけるｂとを対応付ける。この結果、理想輪郭点取得部１５は、例えば、図１７に示す情報を取得する。当該情報は、レコードを一意に特定するためのＩＤと、基準点から対象点までの経路長（項目名：ｒ）と、対象点の座標と、対象点から補正輪郭点までの距離（項目名：ｂ）とを有する。項目名「ｘ」は、対象点のｘ座標であり、項目名「ｙ」は、対象点のｙ座標である。
次に、理想輪郭点取得部１５は、図１７の３以上の各対象点に対して、基準輪郭線に対する法線を算出する。そして、理想輪郭点取得部１５は、当該算出した法線に対して、対象点に対応するｂを適用し、当該ｂのｘ成分、ｙ成分を算出する。そして、理想輪郭点取得部１５は、算出したｘ成分、ｙ成分を、図１７のｘ座標、ｙ座標のそれぞれに加算し、理想輪郭点の座標を算出する。そして、理想輪郭点取得部１５は、３以上の理想輪郭点の座標を有する理想輪郭点情報を取得する。当該理想輪郭点情報は、例えば、図１８である。
以上、本実施の形態による情報処理装置１によれば、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、より精度良く取得することができる。この結果、パターン図形の補正に用いるパラメータの校正を、より精度良く行うことができる。さらに、この結果、パターン図形の補正を、より精度良く行うことができる。
なお、本実施の形態において、情報処理装置１は、例えば、理想輪郭線取得部１４、理想輪郭点取得部１５を備えていなくてもよい。この場合の情報処理装置１のブロック図は、図１９である。また、この場合、受付部１１は、通常、パターン情報と実観測輪郭線情報とを受け付ける。また、変換情報取得部１２は、例えば、パターン情報と実観測輪郭線情報とを用いて、変換情報を取得する。また、補正輪郭点取得部１３は、例えば、実観測輪郭線情報と取得変換情報とを用いて、補正輪郭点情報を取得する。また、補正輪郭点取得部１３は、例えば、実観測輪郭線情報と、保持変換情報とを用いて、補正輪郭点情報を取得する。また、出力部１６は、補正輪郭点取得部１３が取得した補正輪郭点情報を出力する。
また、本実施の形態において、情報処理装置１は、例えば、変換情報取得部１２、補正輪郭点取得部１３を備えていなくてもよい。この場合の情報処理装置１のブロック図は、図２０である。また、この場合、受付部１１は、通常、描画図形輪郭点情報と、基準輪郭線情報とを受け付ける。また、理想輪郭線取得部１４は、例えば、描画図形輪郭点情報と、基準輪郭線情報とを用いて、理想輪郭線情報を取得する。また、理想輪郭点取得部１５は、基準輪郭線情報と、理想輪郭線情報とを用いて、理想輪郭点情報を取得する。また、出力部１６は、理想輪郭点取得部１５が取得した理想輪郭点情報を出力する。
また、上記各実施の形態における情報処理装置は、例えば、スタンドアロンの装置であってもよいし、サーバ・クライアントシステムにおけるサーバ装置であってもよい。
また、上記各実施の形態において、各処理または各機能は、単一の装置または単一のシステムによって集中処理されることによって実現されてもよいし、あるいは、複数の装置または複数のシステムによって分散処理されることによって実現されてもよい。
また、上記各実施の形態において、各構成要素は専用のハードウェアにより構成されてもよいし、あるいは、ソフトウェアにより実現可能な構成要素については、プログラムを実行することによって実現されてもよい。例えば、ハードディスクや半導体メモリ等の記録媒体に記録されたソフトウェア・プログラムをＣＰＵ等のプログラム実行部が読み出して実行することによって、各構成要素が実現され得る。
また、上記各実施の形態における情報処理装置を実現するソフトウェアは、例えば、以下のようなプログラムである。つまり、このプログラムは、コンピュータを、電子ビーム描画装置に描画させる図形であるパターン図形を示す情報であるパターン情報と、電子ビーム描画装置が前記パターン図形に応じて描画した図形を撮影した画像を用いて取得される当該図形の輪郭線である実観測輪郭線を示す情報である実観測輪郭線情報とを受け付ける受付部、前記パターン情報と、前記実観測輪郭線情報とを用いて、前記実観測輪郭線上の点である３以上の各実観測輪郭点を、当該３以上の各実観測輪郭点が補正された点である３以上の補正輪郭点に補正するための情報であり、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各補正輪郭点に対する畳み込みの値と、当該畳み込み値に関する閾値との差の二乗和を最小化する情報である変換情報を取得する変換情報取得部、前記実観測輪郭線情報と、前記変換情報とを用いて、前記３以上の各実観測輪郭点に対応する前記３以上の補正輪郭点を取得し、当該取得した３以上の補正輪郭点を示す情報である補正輪郭点情報を取得する補正輪郭点取得部、前記補正輪郭点情報を出力する出力部として機能させるためのプログラムである。
また、上記各実施の形態における情報処理装置を実現するソフトウェアは、例えば、以下のようなプログラムである。つまり、このプログラムは、上記のプログラムに対して、前記変換情報取得部は、前記パターン情報と、前記実観測輪郭線情報とを用いて、前記差の二乗和を最小化する変換情報と、前記畳み込み値に関する閾値とを取得し、当該閾値と、前記パターン情報とを用いて、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である基準輪郭線を示す情報である基準輪郭線情報を取得し、コンピュータを、前記補正輪郭点情報と、前記基準輪郭線情報とを用いて、前記３以上の各補正輪郭点と、当該３以上の各補正輪郭点に対応する基準輪郭線上の点である対応点との距離を取得し、当該距離を基準輪郭線上の任意の点から当該対応点までの経路長により取得する関数であり、当該距離を近似する曲線である理想輪郭線を示す関数である理想輪郭線情報を取得し、当該理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい補正輪郭点を削除する処理と、当該削除後の３以上の各補正輪郭点と当該３以上の各補正輪郭点に対応する対応点との距離を用いて前記理想輪郭線情報を取得する処理とを１以上繰り返し、理想輪郭線情報を取得する理想輪郭線取得部、前記基準輪郭線情報と、前記理想輪郭線情報とを用いて、前記基準輪郭線上の任意の点から任意の経路長にある３以上の点である対象点から、当該対象点に対応する前記理想輪郭線上の点までの距離を取得し、前記対象点から当該取得した距離にある点を取得し、当該取得した点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得部としてさらに機能させ、前記出力部は、前記理想輪郭点情報を出力するプログラムである。
また、上記各実施の形態における情報処理装置を実現するソフトウェアは、例えば、以下のようなプログラムである。つまり、このプログラムは、コンピュータを、電子ビーム描画装置がパターン図形に応じて描画した図形の輪郭線上の点である３以上の描画図形輪郭点を示す情報である描画図形輪郭点情報と、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各描画図形輪郭点に対する畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である基準輪郭線を示す情報である基準輪郭線情報とを受け付ける受付部、前記描画図形輪郭点情報と、前記基準輪郭線情報とを用いて、前記３以上の各描画図形輪郭点と、当該３以上の各描画図形輪郭点に対応する基準輪郭線上の点である対応点との距離を取得し、当該距離を基準輪郭線上の任意の点から当該対応点までの経路長により取得する関数であり、当該距離を近似する曲線である理想輪郭線を示す関数である理想輪郭線情報を取得し、当該理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい描画図形輪郭点を削除する処理と、当該削除後の３以上の各描画図形輪郭点と当該３以上の各描画図形輪郭点に対応する対応点との距離を用いて前記理想輪郭線情報を取得する処理とを１以上繰り返し、理想輪郭線情報を取得する理想輪郭線取得部、前記基準輪郭線情報と、前記理想輪郭線情報とを用いて、前記基準輪郭線上の任意の点から任意の経路長にある３以上の点である対象点から、当該対象点に対応する前記理想輪郭線上の点までの距離を取得し、前記対象点から当該取得した距離にある点を取得し、当該取得した点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得部、前記理想輪郭点情報を出力する出力部として機能させるためのプログラムである。
なお、上記プログラムにおいて、上記プログラムが実現する機能には、ハードウェアでしか実現できない機能は含まれない。
また、上記プログラムは、サーバなどからダウンロードされることによって実行されてもよいし、所定の記録媒体（例えば、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなど）に記録されたプログラムが読み出されることによって実行されてもよい。また、このプログラムは、プログラムプロダクトを構成するプログラムとして用いられてもよい。
また、上記プログラムを実行するコンピュータは、単数であってもよいし、複数であってもよい。つまり、集中処理を行ってもよいし、あるいは分散処理を行ってもよい。
また、図２１は、前述のプログラムを実行して、前述の実施の形態の情報処理装置等を実現するコンピュータシステム９の概観図である。前述の実施の形態は、コンピュータハードウェア、およびその上で実行されるコンピュータプログラムで実現され得る。
図２１において、コンピュータシステム９は、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０１１を含むコンピュータ９０１と、キーボード９０２と、マウス９０３と、モニタ９０４とを備える。
図２２は、コンピュータシステム９のブロック図である。図２２において、コンピュータ９０１は、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０１１に加えて、ＭＰＵ９０１３と、ブートアッププログラム等のプログラムを記憶するためのＲＯＭ９０１４と、ＭＰＵ９０１３に接続され、アプリケーションプログラムの命令を一時的に記憶するとともに一時記憶空間を提供するためのＲＡＭ９０１５と、アプリケーションプログラム、システムプログラム、およびデータを記憶するためのハードディスク９０１５と、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０１１、ＭＰＵ９０１２等を相互に接続するバス９０１６とを備える。ここでは図示しないが、コンピュータ９０１は、さらに、ＬＡＮへの接続を提供するネットワークカードを備えていてもよい。
コンピュータシステム９に、前述の実施の形態の情報処理装置等の機能を実行させるプログラムは、ＣＤ−ＲＯＭ９１０１に記憶されて、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０１１に挿入され、さらにハードディスク９０１５に転送されてもよい。これに代えて、プログラムは、図示しないネットワークを介してコンピュータ９０１に送信され、ハードディスク９０１５に記憶されてもよい。プログラムは実行の際にＲＡＭ９０１４にロードされる。プログラムは、ＣＤ−ＲＯＭ９１０１またはネットワークから直接、ロードされてもよい。
プログラムは、コンピュータ９０１に、前述の実施の形態の情報処理装置等の機能を実行させるオペレーティングシステム（ＯＳ）、またはサードパーティープログラム等は、必ずしも含まなくてもよい。プログラムは、制御された態様で適切な機能（モジュール）を呼び出し、所望の結果が得られるようにする命令の部分のみを含んでいればよい。コンピュータシステム９がどのように動作するかは周知であり、詳細な説明は省略する。
本発明は、以上の実施の形態に限定されることなく、種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることは言うまでもない。
以上のように、本発明にかかる情報処理装置は、電子ビーム描画装置が描画した図形の輪郭線上の３以上の点を示す情報を、より精度良く取得することができるという効果を有し、ＭＰＣを行う装置等として有用である。
１ 情報処理装置
１１ 受付部
１２ 変換情報取得部
１３ 補正輪郭点取得部
１４ 理想輪郭線取得部
１５ 理想輪郭点取得部
１６ 出力部

Claims (11)

  1. 電子ビーム描画装置に描画させる図形であるパターン図形を示す情報であるパターン情報と、電子ビーム描画装置が前記パターン図形に応じて描画した図形を撮影した画像を用いて取得される当該図形の輪郭線である実観測輪郭線を示す情報である実観測輪郭線情報とを受け付ける受付部と、
    前記パターン情報と、前記実観測輪郭線情報とを用いて、前記実観測輪郭線上の点である３以上の各実観測輪郭点を、当該３以上の各実観測輪郭点が補正された点である３以上の補正輪郭点に補正するための情報であり、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各補正輪郭点に対する畳み込みの値と、当該畳み込み値に関する閾値との差の二乗和を最小化する情報である変換情報を取得する変換情報取得部と、
    前記実観測輪郭線情報と、前記変換情報とを用いて、前記３以上の各実観測輪郭点に対応する前記３以上の補正輪郭点を取得し、当該取得した３以上の補正輪郭点を示す情報である補正輪郭点情報を取得する補正輪郭点取得部と、
    前記補正輪郭点情報を出力する出力部とを備える情報処理装置。
  2. 前記補正輪郭点情報を用いて、前記３以上の補正輪郭点を近似する曲線上の点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得部をさらに備え、
    前記出力部は、
    前記理想輪郭点情報を出力する請求項１記載の情報処理装置。
  3. 前記変換情報取得部は、
    前記パターン情報と、前記実観測輪郭線情報とを用いて、前記差の二乗和を最小化する変換情報と、前記畳み込み値に関する閾値とを取得し、当該閾値と、前記パターン情報とを用いて、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である基準輪郭線を示す情報である基準輪郭線情報を取得し、
    前記補正輪郭点情報と、前記基準輪郭線情報とを用いて、前記３以上の各補正輪郭点と、当該３以上の各補正輪郭点に対応する基準輪郭線上の点である対応点との距離を取得し、当該距離を基準輪郭線上の任意の点から当該対応点までの経路長により取得する関数であり、当該距離を近似する曲線である理想輪郭線を示す関数である理想輪郭線情報を取得し、当該理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい補正輪郭点を削除する処理と、当該削除後の３以上の各補正輪郭点と当該３以上の各補正輪郭点に対応する対応点との距離を用いて前記理想輪郭線情報を取得する処理とを１以上繰り返し、理想輪郭線情報を取得する理想輪郭線取得部と、
    前記基準輪郭線情報と、前記理想輪郭線情報とを用いて、前記基準輪郭線上の任意の点から任意の経路長にある３以上の点である対象点から、当該対象点に対応する前記理想輪郭線上の点までの距離を取得し、前記対象点から当該取得した距離にある点を取得し、当該取得した点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得部とをさらに備え、
    前記出力部は、
    前記理想輪郭点情報を出力する請求項１記載の情報処理装置。
  4. 電子ビーム描画装置がパターン図形に応じて描画した図形の輪郭線上の点である３以上の描画図形輪郭点を示す情報である描画図形輪郭点情報と、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各描画図形輪郭点に対する畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である基準輪郭線を示す情報である基準輪郭線情報とを受け付ける受付部と、
    前記描画図形輪郭点情報と、前記基準輪郭線情報とを用いて、前記３以上の各描画図形輪郭点と、当該３以上の各描画図形輪郭点に対応する基準輪郭線上の点である対応点との距離を取得し、当該距離を基準輪郭線上の任意の点から当該対応点までの経路長により取得する関数であり、当該距離を近似する曲線である理想輪郭線を示す関数である理想輪郭線情報を取得し、当該理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい描画図形輪郭点を削除する処理と、当該削除後の３以上の各描画図形輪郭点と当該３以上の各描画図形輪郭点に対応する対応点との距離を用いて前記理想輪郭線情報を取得する処理とを１以上繰り返し、理想輪郭線情報を取得する理想輪郭線取得部と、
    前記基準輪郭線情報と、前記理想輪郭線情報とを用いて、前記基準輪郭線上の任意の点から任意の経路長にある３以上の点である対象点から、当該対象点に対応する前記理想輪郭線上の点までの距離を取得し、前記対象点から当該取得した距離にある点を取得し、当該取得した点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得部と、
    前記理想輪郭点情報を出力する出力部とを備える情報処理装置。
  5. 前記描画図形輪郭点情報は、
    電子ビーム描画装置がパターン図形に応じて描画した図形を撮影した画像を用いて取得される当該図形の輪郭線である実観測輪郭線上の点である３以上の実測輪郭点を示す情報である実観測輪郭点情報であり、
    前記３以上の各実観測輪郭点に対応する前記基準輪郭線の座標系の点を取得し、当該取得した点である３以上の補正輪郭点を示す情報である補正輪郭点情報を取得する補正輪郭点取得部をさらに備え、
    前記理想輪郭線取得部は、
    前記基準輪郭線情報と、前記補正輪郭点情報とを用いて、前記理想輪郭線情報を取得する請求項４記載の情報処理装置。
  6. 受付部と、変換情報取得部と、補正輪郭点取得部と、出力部とを用いて行われる情報処理方法であって、
    前記受付部が、
    電子ビーム描画装置に描画させる図形であるパターン図形を示す情報であるパターン情報と、電子ビーム描画装置が前記パターン図形に応じて描画した図形を撮影した画像を用いて取得される当該図形の輪郭線である実観測輪郭線を示す情報である実観測輪郭線情報とを受け付ける受付ステップと、
    前記変換情報取得部が、
    前記パターン情報と、前記実観測輪郭線情報とを用いて、前記実観測輪郭線上の点である３以上の各実観測輪郭点を、当該３以上の各実観測輪郭点が補正された点である３以上の補正輪郭点に補正するための情報であり、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各補正輪郭点に対する畳み込みの値と、当該畳み込み値に関する閾値との差の二乗和を最小化する情報である変換情報を取得する変換情報取得ステップと、
    前記補正輪郭点取得部が、
    前記実観測輪郭線情報と、前記変換情報とを用いて、前記３以上の各実観測輪郭点に対応する前記３以上の補正輪郭点を取得し、当該取得した３以上の補正輪郭点を示す情報である補正輪郭点情報を取得する補正輪郭点取得ステップと、
    前記出力部が、
    前記補正輪郭点情報を出力する出力ステップとを備える情報処理方法。
  7. 理想輪郭線取得部と、理想輪郭点取得部とをさらに用いて行われる情報処理方法であって、
    前記変換情報取得ステップでは、
    前記変換情報取得部が、
    前記パターン情報と、前記実観測輪郭線情報とを用いて、前記差の二乗和を最小化する変換情報と、前記畳み込み値に関する閾値とを取得し、当該閾値と、前記パターン情報とを用いて、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である基準輪郭線を示す情報である基準輪郭線情報を取得し、
    前記理想輪郭線取得部が、
    前記補正輪郭点情報と、前記基準輪郭線情報とを用いて、前記３以上の各補正輪郭点と、当該３以上の各補正輪郭点に対応する基準輪郭線上の点である対応点との距離を取得し、当該距離を基準輪郭線上の任意の点から当該対応点までの経路長により取得する関数であり、当該距離を近似する曲線である理想輪郭線を示す関数である理想輪郭線情報を取得し、当該理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい補正輪郭点を削除する処理と、当該削除後の３以上の各補正輪郭点と当該３以上の各補正輪郭点に対応する対応点との距離を用いて前記理想輪郭線情報を取得する処理とを１以上繰り返し、理想輪郭線情報を取得する理想輪郭線取得ステップと、
    前記理想輪郭点取得部が、
    前記基準輪郭線情報と、前記理想輪郭線情報とを用いて、前記基準輪郭線上の任意の点から任意の経路長にある３以上の点である対象点から、当該対象点に対応する前記理想輪郭線上の点までの距離を取得し、前記対象点から当該取得した距離にある点を取得し、当該取得した点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得ステップとをさらに備え、
    前記出力ステップでは、
    前記出力部が、
    前記理想輪郭点情報を出力する請求項６記載の情報処理方法。
  8. 受付部と、理想輪郭線取得部と、理想輪郭点取得部と、出力部とを用いて行われる情報処理方法であって、
    前記受付部が、
    電子ビーム描画装置がパターン図形に応じて描画した図形の輪郭線上の点である３以上の描画図形輪郭点を示す情報である描画図形輪郭点情報と、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各描画図形輪郭点に対する畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である基準輪郭線を示す情報である基準輪郭線情報とを受け付ける受付ステップと、
    前記理想輪郭線取得部が、
    前記描画図形輪郭点情報と、前記基準輪郭線情報とを用いて、前記３以上の各描画図形輪郭点と、当該３以上の各描画図形輪郭点に対応する基準輪郭線上の点である対応点との距離を取得し、当該距離を基準輪郭線上の任意の点から当該対応点までの経路長により取得する関数であり、当該距離を近似する曲線である理想輪郭線を示す関数である理想輪郭線情報を取得し、当該理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい描画図形輪郭点を削除する処理と、当該削除後の３以上の各描画図形輪郭点と当該３以上の各描画図形輪郭点に対応する対応点との距離を用いて前記理想輪郭線情報を取得する処理とを１以上繰り返し、理想輪郭線情報を取得する理想輪郭線取得ステップと、
    前記理想輪郭点取得部が、
    前記基準輪郭線情報と、前記理想輪郭線情報とを用いて、前記基準輪郭線上の任意の点から任意の経路長にある３以上の点である対象点から、当該対象点に対応する前記理想輪郭線上の点までの距離を取得し、前記対象点から当該取得した距離にある点を取得し、当該取得した点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得ステップと、
    前記出力部が、
    前記理想輪郭点情報を出力する出力ステップとを備える情報処理方法。
  9. コンピュータを、
    電子ビーム描画装置に描画させる図形であるパターン図形を示す情報であるパターン情報と、電子ビーム描画装置が前記パターン図形に応じて描画した図形を撮影した画像を用いて取得される当該図形の輪郭線である実観測輪郭線を示す情報である実観測輪郭線情報とを受け付ける受付部、
    前記パターン情報と、前記実観測輪郭線情報とを用いて、前記実観測輪郭線上の点である３以上の各実観測輪郭点を、当該３以上の各実観測輪郭点が補正された点である３以上の補正輪郭点に補正するための情報であり、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各補正輪郭点に対する畳み込みの値と、当該畳み込み値に関する閾値との差の二乗和を最小化する情報である変換情報を取得する変換情報取得部、
    前記実観測輪郭線情報と、前記変換情報とを用いて、前記３以上の各実観測輪郭点に対応する前記３以上の補正輪郭点を取得し、当該取得した３以上の補正輪郭点を示す情報である補正輪郭点情報を取得する補正輪郭点取得部、
    前記補正輪郭点情報を出力する出力部として機能させるためのプログラム。
  10. 前記変換情報取得部は、
    前記パターン情報と、前記実観測輪郭線情報とを用いて、前記差の二乗和を最小化する変換情報と、前記畳み込み値に関する閾値とを取得し、当該閾値と、前記パターン情報とを用いて、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である基準輪郭線を示す情報である基準輪郭線情報を取得し、
    コンピュータを、
    前記補正輪郭点情報と、前記基準輪郭線情報とを用いて、前記３以上の各補正輪郭点と、当該３以上の各補正輪郭点に対応する基準輪郭線上の点である対応点との距離を取得し、当該距離を基準輪郭線上の任意の点から当該対応点までの経路長により取得する関数であり、当該距離を近似する曲線である理想輪郭線を示す関数である理想輪郭線情報を取得し、当該理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい補正輪郭点を削除する処理と、当該削除後の３以上の各補正輪郭点と当該３以上の各補正輪郭点に対応する対応点との距離を用いて前記理想輪郭線情報を取得する処理とを１以上繰り返し、理想輪郭線情報を取得する理想輪郭線取得部、
    前記基準輪郭線情報と、前記理想輪郭線情報とを用いて、前記基準輪郭線上の任意の点から任意の経路長にある３以上の点である対象点から、当該対象点に対応する前記理想輪郭線上の点までの距離を取得し、前記対象点から当該取得した距離にある点を取得し、当該取得した点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得部としてさらに機能させ、
    前記出力部は、
    前記理想輪郭点情報を出力する請求項９記載のプログラム。
  11. コンピュータを、
    電子ビーム描画装置がパターン図形に応じて描画した図形の輪郭線上の点である３以上の描画図形輪郭点を示す情報である描画図形輪郭点情報と、パターン図形により示される領域内における任意の点拡がり関数の３以上の各描画図形輪郭点に対する畳み込みの値の分布中における１以上の等値線のうちのいずれか１つの等値線である基準輪郭線を示す情報である基準輪郭線情報とを受け付ける受付部、
    前記描画図形輪郭点情報と、前記基準輪郭線情報とを用いて、前記３以上の各描画図形輪郭点と、当該３以上の各描画図形輪郭点に対応する基準輪郭線上の点である対応点との距離を取得し、当該距離を基準輪郭線上の任意の点から当該対応点までの経路長により取得する関数であり、当該距離を近似する曲線である理想輪郭線を示す関数である理想輪郭線情報を取得し、当該理想輪郭線情報により示される理想輪郭線との距離が予め決められた条件を満たすほど大きい描画図形輪郭点を削除する処理と、当該削除後の３以上の各描画図形輪郭点と当該３以上の各描画図形輪郭点に対応する対応点との距離を用いて前記理想輪郭線情報を取得する処理とを１以上繰り返し、理想輪郭線情報を取得する理想輪郭線取得部、
    前記基準輪郭線情報と、前記理想輪郭線情報とを用いて、前記基準輪郭線上の任意の点から任意の経路長にある３以上の点である対象点から、当該対象点に対応する前記理想輪郭線上の点までの距離を取得し、前記対象点から当該取得した距離にある点を取得し、当該取得した点である３以上の理想輪郭点を示す情報である理想輪郭点情報を取得する理想輪郭点取得部、
    前記理想輪郭点情報を出力する出力部として機能させるためのプログラム。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018078722A1 (ja) * 2016-10-25 2018-05-03 三菱電機株式会社 地図データ生成装置、端末装置、及び、地図データ生成方法
US11567413B2 (en) * 2019-02-25 2023-01-31 Asml Netherlands B.V. Method for determining stochastic variation of printed patterns

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10261562A (ja) * 1997-03-18 1998-09-29 Toshiba Corp 荷電粒子ビーム描画用の近接効果補正装置
JP2000114169A (ja) * 1998-06-12 2000-04-21 Matsushita Electronics Industry Corp パタ―ン形成方法
JP2005302445A (ja) * 2004-04-08 2005-10-27 Dainippon Printing Co Ltd Ｓｅｍ画像の白帯領域抽出処理方法およびｓｅｍ画像における特徴量算出方法
JP2006107209A (ja) * 2004-10-06 2006-04-20 Toshiba Corp パターン検査装置、近似曲線の作成方法、パターン検査方法およびプログラム
JP2007019522A (ja) * 2006-07-10 2007-01-25 Hitachi Ltd 微細パターン検査方法及び装置
JP2007059429A (ja) * 2005-08-22 2007-03-08 Nuflare Technology Inc データの検証方法
JP2009170743A (ja) * 2008-01-18 2009-07-30 Fujitsu Microelectronics Ltd 半導体装置のデータ作成方法、および電子線露光システム
JP2009205224A (ja) * 2008-02-26 2009-09-10 Dainippon Printing Co Ltd 画像処理方法及びその方法を用いた画像処理装置
JP2011017705A (ja) * 1999-08-26 2011-01-27 Ngr Inc パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体
US20110202893A1 (en) * 2010-02-16 2011-08-18 Ir Kusnadi Contour Self-Alignment For Optical Proximity Correction Model Calibration
JP2013045372A (ja) * 2011-08-25 2013-03-04 Dainippon Printing Co Ltd 画像評価方法、描画条件選択方法、画像評価プログラム、描画条件選択プログラム

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6724507B1 (en) * 1998-07-02 2004-04-20 Fuji Xerox Co., Ltd. Image processing method and image processing apparatus
EP1815428A1 (en) 2004-11-05 2007-08-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Multi-scale filter synthesis for medical image registration
US9309434B2 (en) 2010-10-20 2016-04-12 Basf Coatings Gmbh Scratch resistant refinish clearcoat
US8849054B2 (en) * 2010-12-23 2014-09-30 Samsung Electronics Co., Ltd Digital image stabilization
JP5810031B2 (ja) * 2012-04-27 2015-11-11 株式会社日立ハイテクノロジーズ 半導体回路パターン計測装置及び方法
JP5743955B2 (ja) * 2012-05-28 2015-07-01 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン検査装置およびパターン検査方法
JP5433822B1 (ja) * 2013-08-28 2014-03-05 楽天株式会社 情報処理装置、情報処理方法、情報処理装置用プログラム、および、記録媒体
US9646220B2 (en) * 2013-11-25 2017-05-09 GlobalFoundries, Inc. Methods and media for averaging contours of wafer feature edges

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10261562A (ja) * 1997-03-18 1998-09-29 Toshiba Corp 荷電粒子ビーム描画用の近接効果補正装置
JP2000114169A (ja) * 1998-06-12 2000-04-21 Matsushita Electronics Industry Corp パタ―ン形成方法
JP2011017705A (ja) * 1999-08-26 2011-01-27 Ngr Inc パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体
JP2005302445A (ja) * 2004-04-08 2005-10-27 Dainippon Printing Co Ltd Ｓｅｍ画像の白帯領域抽出処理方法およびｓｅｍ画像における特徴量算出方法
JP2006107209A (ja) * 2004-10-06 2006-04-20 Toshiba Corp パターン検査装置、近似曲線の作成方法、パターン検査方法およびプログラム
JP2007059429A (ja) * 2005-08-22 2007-03-08 Nuflare Technology Inc データの検証方法
JP2007019522A (ja) * 2006-07-10 2007-01-25 Hitachi Ltd 微細パターン検査方法及び装置
JP2009170743A (ja) * 2008-01-18 2009-07-30 Fujitsu Microelectronics Ltd 半導体装置のデータ作成方法、および電子線露光システム
JP2009205224A (ja) * 2008-02-26 2009-09-10 Dainippon Printing Co Ltd 画像処理方法及びその方法を用いた画像処理装置
US20110202893A1 (en) * 2010-02-16 2011-08-18 Ir Kusnadi Contour Self-Alignment For Optical Proximity Correction Model Calibration
JP2013045372A (ja) * 2011-08-25 2013-03-04 Dainippon Printing Co Ltd 画像評価方法、描画条件選択方法、画像評価プログラム、描画条件選択プログラム

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