JP2007263899A - パターン形状計測装置及びパターン形状計測方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】計測対象パターンを入力する計測対象パターン入力部11と、計測対象パターンの輪郭線を抽出する輪郭線抽出部12と、輪郭線の重心を算出する重心算出部13を有する。また、輪郭線と重心との距離を算出する距離算出部14と、計測対象パターンと比較するためのリファレンスパターンの輪郭線とそのリファレンスパターンの輪郭線の重心との距離を算出する距離算出部15と、距離算出部14が算出した距離と距離算出部15が算出した距離との差分を算出する差分算出部16と、差分からラフネス値を算出するラフネス値算出部17とを有する。
【選択図】図1
Description
従来、フォトマスク品質における重要項目として、欠陥・寸法精度・アライメントの3項目が特に重視されており、半導体の微細化が進む現在ではそれぞれの項目を計測するための高精度なフォトマスク専用検査装置が開発され使用されている。
しかし、フォトマスクパターンの微細化による高精度化への要求は、前記3項目以外のあらゆる品質項目(パターン形状、パターンデータ保証、耐久性、クリーン度等)においても同様になりつつあり、特にパターン形状の精度については直接LSI回路の精度および性能に関わることから、かなり重視されるようになってきた。
この違いはマスク上で数十〜数百ナノメートル程度の大きさであることがほとんどであるが、近年の超LSIの微細化の進展によって、これが半導体回路の特性に影響を与えることが懸念され始めている。すなわち、微細なパターンであるほど、パターン自体に対して前記のパターン形状の違いが相対的に大きくなり、特性値に影響するようになっている。
これまで、エッジラフネスといえば直線パターンに適用する概念だと考えられていたが、ホールパターンやドットパターンのような閉図形に対しても定量的に評価する必要性が高まってきている。
また別の方法としては、ホール又はドットのパターン画像から画像処理手法によって輪郭線を取得し、測定者がラフネスを測定することが可能なパターンの直線部分を指定して、指定部分の輪郭線のバラツキからエッジラフネスを算出していた(特許文献1参照)。
また、画像処理方法によって輪郭線を取得し、測定者がラフネスを測定することができるパターンの直線部分を指定する方法では次の3つの問題がある。
2つ目の問題は、ホール又はドットパターンは直線部分とコーナー部分とから構成されるが、指定する範囲にコーナー部分がかかってしまうと、ラフネスの値は実際よりも大きな値となってしまうことである。直線部分とコーナー部分との切り分けは非常に難しく、直線部分だけを的確に指定するのは大変困難である。
3つ目の問題は、パターンの直線部分を指定する作業自体が煩雑である点である。計測するパターンが1つだけであれば問題ないが、通常は多くのパターンに対して計測を行う必要があるため、パターン毎に直線部分を指定する作業を行うと計測に多くの時間がかかってしまう。
このように、従来技術ではホール又はドットパターン形状のラフネスを正確かつ迅速に評価することは困難であった。
これにより、測定者が計測対象パターンの計測する箇所を指定しなくても、計測対象パターン入力手段に計測対象パターンを入力するだけで、計測対象パターンのラフネス値を数値として算出することができ、迅速かつ高精度なラフネス計測が可能となる
図1は、本発明の第1の実施形態によるパターン形状計測装置10aの構成の一例を示すブロック図である。このパターン形状計測装置10aは、計測対象パターン入力部11(計測対象パターン入力手段)、輪郭線抽出部12(輪郭線抽出手段)、重心算出部13(重心算出手段)、距離算出部14(第1の距離算出手段)、距離算出部15(第2の距離算出手段)、差分算出部16(差分算出手段)、ラフネス値算出部17(ラフネス値算出手段)、表示部18を有する。
図6は、距離算出部15が算出する、リファレンスパターンにおける輪郭線a2、重心b2、重心距離c21、c22、・・・の一例を示す図である。図6では、隣り合う放射線のなす角度θ21、θ22、・・・が、45度である場合を示している。
図7は、差分算出部16が、距離算出部14から取得する計測対象パターンにおける重心距離(図7の実線の曲線g1)と、距離算出部15から取得するリファレンスパターンにおける重心距離(図7の点線の曲線g2)とを示すグラフである。図7において、横軸はデータ番号を示しており、縦軸は重心距離(単位:nm)を示している。
ここでは、図5において、θ11、θ12、・・・を3度に設定することにより、計測対象パターンの重心b1から120本の放射線を等間隔に設定し、それぞれの放射線に1から120までのデータ番号を付している。
図7に示すように、計測対象パターンにおける重心距離g1と、リファレンスパターンにおける重心距離g2とを比較すると、全体的にはほとんど同じであるが、計測対象パターンがラフネス成分を多く含んでいるため、所々に違いがある。
ここでは、図6において、θ21、θ22、・・・を3度に設定することにより、計測対象パターンの重心b2から120本の放射線を等間隔に設定し、それぞれの放射線に1から120までのデータ番号を付している。
表示部18は、LCD(Liquid Crystal Display)などの表示機器であり、ラフネス値算出部17から出力されるラフネス値を表示機器の画面上に表示する。
輪郭線抽出部12は、ステップS1で取得した計測対象パターンから輪郭線(図3参照)を抽出する(ステップS2)。
重心算出部13は、ステップS2で抽出した輪郭線の重心(図4参照)を算出する(ステップS3)。
距離算出部14は、ステップS2で抽出した輪郭線と、ステップS3で算出した重心とに基づいて、計測対象パターンにおける重心距離(図5参照)を算出する(ステップS4)。
始めに、パターン形状計測装置10aの使用者は、ラフネスを測定する対象であるリファレンスパターンを入力する(ステップP1)。これにより、距離算出部15は、計測対象パターンを取得する。ここでは、リファレンスパターンとして、図9のステップS1における計測対象パターンを入力している。
そして、ステップP2で抽出した輪郭線の内部を塗り潰す(ステップP3)。これにより、図11に示すような塗り潰しパターンd1が生成される。
そして、図12(a)に示すように、塗り潰しパターンd1の凸状の輪郭(突起状の欠陥)e1を除去するためのオープニング処理を行う(ステップP4)。このオープニング処理としては、一般的に用いられている画像処理が使用される。これにより、塗り潰しパターンの凸状の輪郭e1(図12(a))は、直線状の輪郭e2(図12(b))に修正される。
なお、オープニング処理及びクロージング処理は2値画像の膨張・収縮処理の組み合わせによって実現され、膨張・収縮処理の繰り返し数により除去できる凹凸の大きさが変化する。本実施形態では、計測したいラフネスの凹凸がなくなるようにオープニング処理及びクロージング処理の回数を設定している。
そして、ステップP6で抽出した輪郭線に基づいて、その輪郭線の重心座標を算出する(ステップP7)。このステップP7の処理は、図9のステップS3の処理と同じである。次に、ステップP7で算出した重心座標に基づいて、重心距離情報を生成する(ステップP8)。このステップP8の処理は、図9のステップS4の処理と同じである。
そして、ラフネス値算出部17は、ステップS6で算出した差分の情報に基づいて、ラフネス値を算出する(ステップS7)。
始めに、パターン形状計測装置10aの使用者は、計測対象パターンと比較するためのラフネスのないリファレンスパターンを入力する(ステップT1)。これにより、計測対象パターン入力部11は、リファレンスパターンを取得する。
そして、ステップT1で取得したリファレンスパターンの輪郭線を抽出する(ステップT2)。このステップT2の処理は、図9のステップS2の処理と同じである。次に、ステップT2で抽出した輪郭線に基づいて、重心座標を算出する(ステップT3)。このステップT3の処理は、図9のステップS3の処理と同じである。
そして、ステップT2で抽出した輪郭線と、ステップT3で算出した重心座標とに基づいて、重心距離情報を算出する(ステップT4)。このステップT4の処理は、図9のステップS4の処理と同じである。
設計パターンの角の丸みは、CAD(Computer Aided Design)ソフトを用いて付加する。ホール又はドットパターンは、大きさや縦横比によってその角の丸み具合が異なるため、エッジラフネスを計測するパターンの角を予め計測して丸み具合を確認する。パターンの角は単純な円の弧に近い形状の場合もあれば、楕円の弧の形状になっている場合もある。CADソフトを用いて設計パターンの角に丸みを付加する際には、この角の丸み具合の情報を利用する。例えば、パターンの角が円弧に近い場合は、コーナーの半径の情報を入力し、パターンの角が楕円の弧に近い場合は、コーナーの縦・横の長さを入力することで、実際のパターンと同様な角の丸みを持つ設計パターンを生成する。
図15は、本発明の第2の実施形態によるパターン形状計測装置10bの構成の一例を示すブロック図である。このパターン形状計測装置10bは、計測対象パターン入力部11、輪郭線抽出部12、重心算出部13、距離算出部21、フーリエ変換部22、高周波数成分抽出部23、逆フーリエ変換部24、ラフネス値算出部25、表示部15を有する。
計測対象パターン入力部11、輪郭線抽出部12、重心算出部13、表示部15については、本発明の第1の実施形態によるパターン形状計測装置10a(図1)と同じであるので、それらの説明を省略する。
高周波数成分抽出部23は、フーリエ変換部22から出力される周波数の情報から、高周波数成分を抽出し、逆フーリエ変換部24へ出力する。
逆フーリエ変換部24は、高周波数成分抽出部23から出力される周波数の情報について逆フーリエ変換を行うことにより周波数を距離に変換し、その情報をラフネス値算出部25へ出力する。
ラフネス値算出部25は、逆フーリエ変換部24から出力される距離の情報に基づいて、ラフネス値を算出し、そのラフネス値を表示部18へ出力する。ラフネス値は、逆フーリエ変換部24から出力される距離の情報について標準偏差の3σを計算することにより算出することができる。
ステップR3の後、距離算出部21は、ステップR2で抽出した輪郭線と、ステップR3で算出した重心とに基づいて、計測対象パターンにおける2のn乗個の重心距離を算出する(ステップR4)。
そして、フーリエ変換部22は、ステップR4で算出した2のn乗個の重心距離について、フーリエ変換を行うことにより、距離を周波数に変換する(ステップR5)。次に、高周波数成分抽出部23は、ステップR5で変換した周波数から、高周波成分のみを抽出する(ステップS6)。これにより、周波数が高い計測対象パターンについてラフネス値を算出することができる。
そして、逆フーリエ変換部24は、ステップR5で抽出した高周波成分の周波数について、逆フーリエ変換を行うことにより、周波数を距離に変換する(ステップR7)。これにより、計測対象パターンの全体的な形状を表す情報を除いたラフネス部分だけの情報を取得することができる。次に、ラフネス値算出部25は、ステップR7で変換した距離に基づいて、ラフネス値を算出する(ステップR8)。
また、第1の実施形態では、計測対象パターン入力部11から計測対象パターンを入力し、距離算出部15にリファレンスパターンを入力する必要があったが、第2の実施形態では、計測対象パターン入力部11に計測対象パターンだけを入力すればよく、リファレンスパターンを入力する必要がないため、パターン形状計測装置10bの使用者の負担をより軽減することができる。
Claims (6)
- 計測対象パターンを入力する計測対象パターン入力手段と、
前記計測対象パターンの輪郭線を抽出する輪郭線抽出手段と、
前記輪郭線の重心を算出する重心算出手段と、
前記輪郭線と前記重心との距離を算出する第1の距離算出手段と、
前記計測対象パターンと比較するためのリファレンスパターンの輪郭線とそのリファレンスパターンの輪郭線の重心との距離を算出する第2の距離算出手段と、
前記第1の距離算出手段が算出した距離と前記第2の距離算出手段が算出した距離との差分を算出する差分算出手段と、
前記差分からラフネス値を算出するラフネス値算出手段と、
を有することを特徴とするパターン形状計測装置。 - 計測対象パターンを入力する計測対象パターン入力過程と、
前記計測対象パターンの輪郭線を抽出する第1の輪郭線抽出過程と、
前記輪郭線の重心を算出する重心算出過程と、
前記輪郭線と前記重心との距離を算出する第1の距離算出過程と、
前記計測対象パターンと比較するためのリファレンスパターンの輪郭線とそのリファレンスパターンの輪郭線の重心との距離を算出する第2の距離算出過程と、
前記第1の距離算出過程で算出した距離と前記第2の距離算出過程で算出した距離との差分を算出する差分算出過程と、
前記差分からラフネス値を算出するラフネス値算出過程と、
を有することを特徴とするパターン形状計測方法。 - 前記第2の距離算出過程は、
前記計測対象パターンの輪郭線の内部を塗り潰すことにより塗り潰しパターンを生成する塗り潰しパターン生成過程と、
前記塗り潰しパターンに対して突起状の欠陥を除去するためのオープニング処理を行うオープニング処理過程と、
前記塗り潰しパターンに対して欠け状の欠陥を除去するためのクロージング処理を行うクロージング処理過程と、
前記オープニング処理及び前記クロージング処理を行った後の塗り潰しパターンから輪郭線を抽出する第2の輪郭線抽出過程と、
前記第2の輪郭線抽出過程で抽出した輪郭線の重心を算出する第2の重心算出過程と、
前記第2の輪郭線抽出過程で抽出した輪郭線と前記第2の重心算出過程で算出した重心との距離を算出する第3の距離算出過程と、
を含むことを特徴とする請求項2に記載のパターン形状計測方法。 - 前記第2の距離算出過程は、
エッジラフネスのないリファレンスパターンを入力するリファレンスパターン入力過程と、
前記リファレンスパターン入力過程で入力したリファレンスパターンの輪郭線を抽出する第3の輪郭線抽出過程と、
前記第3の輪郭線抽出過程で抽出した輪郭線の重心を算出する第3の重心算出過程と、
前記第3の輪郭線抽出過程で抽出した輪郭線と前記第3の重心算出過程で算出した重心との距離を算出する第4の距離算出過程と、
を含むことを特徴とする請求項2に記載のパターン形状計測方法。 - 前記リファレンスパターン入力過程で入力したリファレンスパターンの角に丸みを付ける丸み付加手段を更に有し、
前記第3の輪郭線抽出過程は、前記丸み付加手段が角に丸みを付けたリファレンスパターンの輪郭線を抽出することを特徴とする請求項4に記載のパターン形状計測方法。 - 計測対象パターンを入力する計測対象パターン入力過程と、
前記計測対象パターンの輪郭線を抽出する輪郭線抽出過程と、
前記輪郭線の重心を算出する重心算出過程と、
前記重心と前記輪郭線との距離を2のn(nは正の整数)乗個算出する距離算出過程と、
前記距離算出過程で算出した2のn乗個の距離についてフーリエ変換を行うことにより距離を周波数に変換するフーリエ変換過程と、
前記周波数分析過程での分析結果に基づいて高周波成分を抽出する高周波成分抽出過程と、
前記高周波成分抽出過程で抽出した高周波成分について逆フーリエ変換を行うことにより周波数を距離に変換する逆フーリエ変換過程と、
前記逆フーリエ変換過程で変換した距離からラフネス値を算出するラフネス値算出過程と、
を有することを特徴とするパターン形状計測方法。
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