JP5860646B2 - 位置ずれマップ作成装置、パターン検査システム、及び位置ずれマップ作成方法 - Google Patents
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Description
複数の図形パターンと複数の位置計測用パターンとが形成された被検査試料から取得された複数の光学画像と被検査試料用の設計データから作成された複数の参照画像との間での対応する両画像間でのそれぞれの位置ずれ量を記憶する記憶装置と、
各位置ずれ量に基づいて、第1の位置ずれマップを作成する第1の位置ずれマップ作成部と、
第1の位置ずれマップに対し、高周波成分と低周波成分の両方を残す所定の関数を用いたワイドパスフィルタ処理をおこなって第2の位置ずれマップを作成するワイドパスフィルタ処理部と、
第1の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第3の位置ずれ量マップを作成する第1のローパスフィルタ処理部と、
座標計測装置で計測された複数の位置計測用パターンの各パターンの位置と設計データにおける複数の位置計測用パターンの位置との間での対応する両位置間でのそれぞれの位置ずれ量に基づいて、第4の位置ずれマップを作成する第2の位置ずれマップ作成部と、
第4の位置ずれマップを入力し、第4の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第5の位置ずれマップを作成する第2のローパスフィルタ処理部と、
第2の位置ずれマップのマップ値から第3の位置ずれマップの対応するマップ値を差し引いた差分に第5の位置ずれマップの対応するマップ値を加算することによって第2と第3と第5の位置ずれマップを合成して第6の位置ずれマップを作成する合成部と、
を備えたことを特徴とする。
校正基板における各位置ずれ量に基づいて、第7の位置ずれマップを作成する第3の位置ずれマップ作成部と、
第7の位置ずれマップに対し、高周波成分と低周波成分の両方を残す所定の関数を用いたワイドパスフィルタ処理をおこなって第8の位置ずれマップを作成する第2のワイドパスフィルタ処理部と、
第7の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第9の位置ずれ量マップを作成する第3のローパスフィルタ処理部と、
座標計測装置で計測された校正基板における複数の校正用パターンの各パターンの位置と校正基板の設計データにおける複数の校正用パターンの位置との間での対応する両位置間でのそれぞれの位置ずれ量に基づいて、第10の位置ずれマップを作成する第4の位置ずれマップ作成部と、
第10の位置ずれマップを入力し、第10の位置ずれマップに対し、高周波成分と低周波成分の両方を残す所定の関数を用いたワイドパスフィルタ処理をおこなって第11の位置ずれマップを作成する第3のワイドパスフィルタ処理部と、
被検査試料における複数の位置計測用パターンの座標情報と、被検査試料における複数の位置計測用パターンの座標に対応する前記第10の位置ずれマップの各値とを入力し、第12の位置ずれマップを作成する第5の位置ずれマップ作成部と、
第12の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第13の位置ずれ量マップを作成する第4のローパスフィルタ処理部と、
をさらに備え、
合成部は、さらに、合成された第6の位置ずれマップのマップ値に第8と第13の位置ずれマップのそれぞれ対応するマップ値を減算し、第9と第11の位置ずれマップのそれぞれ対応するマップ値を加算すると好適である。
複数の図形パターンと複数の位置計測用パターンとが形成された被検査試料を用いて、被検査試料に形成された複数の図形パターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、
被検査試料用の設計データを用いて、光学画像を分割した複数の分割画像に対応する複数の参照画像を作成する参照画像作成部と、
複数の分割画像と複数の参照画像との間でそれぞれ対応する両画像同士の位置合わせを行う位置合わせ部と、
位置合わせされた両画像同士を画素毎に比較し、欠陥の有無を判定する比較部と、
複数の分割画像と複数の参照画像との間でそれぞれ対応する両画像同士の位置合わせをおこなった際の両画像間でのそれぞれの位置ずれ量を記憶する記憶装置と、
各位置ずれ量に基づいて、第1の位置ずれマップを作成する第1の位置ずれマップ作成部と、
第1の位置ずれマップに対し、高周波成分と低周波成分の両方を残す所定の関数を用いたワイドパスフィルタ処理をおこなって第2の位置ずれマップを作成するワイドパスフィルタ処理部と、
第1の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第3の位置ずれ量マップを作成する第1のローパスフィルタ処理部と、
座標計測装置で計測された複数の位置計測用パターンの各パターンの位置と設計データにおける複数の位置計測用パターンの位置との間での対応する両位置間でのそれぞれの位置ずれ量に基づいて、第4の位置ずれマップを作成する第2の位置ずれマップ作成部と、
第4の位置ずれマップを入力し、第4の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第5の位置ずれマップを作成する第2のローパスフィルタ処理部と、
第2の位置ずれマップのマップ値から第3の位置ずれマップの対応するマップ値を差し引いた差分に第5の位置ずれマップの対応するマップ値を加算することによって第2と第3と第5の位置ずれマップを合成して第6の位置ずれマップを作成する合成部と、
を備えたことを特徴とする。
複数の図形パターンと複数の位置計測用パターンとが形成された被検査試料から取得された複数の光学画像と被検査試料用の設計データから作成された複数の参照画像との間での対応する両画像間でのそれぞれの位置ずれ量を記憶する記憶装置から各位置ずれ量を読み出し、各位置ずれ量に基づいて、第1の位置ずれマップを作成する工程と、
第1の位置ずれマップに対し、高周波成分と低周波成分の両方を残す所定の関数を用いたワイドパスフィルタ処理をおこなって第2の位置ずれマップを作成する工程と、
第1の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第3の位置ずれ量マップを作成する工程と、
座標計測装置で計測された複数の位置計測用パターンの各パターンの位置と設計データにおける複数の位置計測用パターンの位置との間での対応する両位置間でのそれぞれの位置ずれ量が定義された第4の位置ずれマップを入力し、第4の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第5の位置ずれマップを作成する工程と、
第2の位置ずれマップのマップ値から第3の位置ずれマップの対応するマップ値を差し引いた差分に第5の位置ずれマップの対応するマップ値を加算することによって第2と第3と第5の位置ずれマップを合成して第6の位置ずれマップを作成し、出力する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査システムと位置計測装置の構成を示す概念図である。図1において、パターン検査システム500は、パターン検査装置100と位置ずれマップ作成装置200とを備えている。位置ずれマップ作成装置200は、パターン検査装置100と外部の位置計測装置300(座標計測装置)からの情報を用いて、試料のパターン形成領域全面における高精度な位置ずれマップを作成する。パターン検査装置100は、試料、例えばマスクに形成されたパターンの形状欠陥を検査する。位置計測装置300は、試料に形成された位置計測用パターンの位置を計測する。
図11は、実施の形態1におけるx位置、y位置、及び位置ずれ量の関係をBスプライン関数で表したグラフの一例を示す図である。Bスプライン関数の区分多項式の次数、区間数を調節することで高精度に位置ずれ量を近似できる。
実施の形態1では、気温や気圧等の変動によって生じるレーザ測長システム122の測定誤差を排除した位置ずれマップを作成したが、実施の形態2では、さらに精度を高めた位置ずれマップを作成する場合について説明する。以下、特に説明しない点は実施の形態1と同様である。
14 位置計測用パターン
20 検査ストライプ
22 被検査領域
30 校正マスク
36 校正用パターン
50,60,70,80,81 位置ずれマップ作成部
52,72,82 WP用係数算出部
54,62,74,83 LP用係数算出部
56,76,84 WPフィルタ処理部
58,64,78,85 LPフィルタ処理部
66 合成部
100 検査装置
101 フォトマスク
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105 フォトダイオードアレイ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
112 参照回路
113 オートローダ制御回路
114 テーブル制御回路
115 磁気テープ装置
116 FD
117 CRT
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 エッジ数判定回路
121 バス
122 レーザ測長システム
123 ストライプパターンメモリ
130 オートローダ
140,142,146,148 記憶装置
150 光学画像取得部
160 制御系回路
170 照明光学系
200 位置ずれマップ作成装置
210 制御計算機
211 メモリ
212 外部I/F回路
214 モニタ
300 位置計測装置
500 パターン検査装置システム
Claims (5)
- 複数の図形パターンと複数の位置計測用パターンとが形成された被検査試料から取得された複数の光学画像と前記被検査試料用の設計データから作成された複数の参照画像との間での対応する両画像間でのそれぞれの位置ずれ量を記憶する記憶装置と、
各位置ずれ量に基づいて、第1の位置ずれマップを作成する第1の位置ずれマップ作成部と、
第1の位置ずれマップに対し、高周波成分と低周波成分の両方を残す所定の関数を用いたワイドパスフィルタ処理をおこなって第2の位置ずれマップを作成するワイドパスフィルタ処理部と、
第1の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第3の位置ずれ量マップを作成する第1のローパスフィルタ処理部と、
座標計測装置で計測された前記複数の位置計測用パターンの各パターンの位置と設計データにおける複数の位置計測用パターンの位置との間での対応する両位置間でのそれぞれの位置ずれ量に基づいて、第4の位置ずれマップを作成する第2の位置ずれマップ作成部と、
第4の位置ずれマップを入力し、第4の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第5の位置ずれマップを作成する第2のローパスフィルタ処理部と、
前記第2の位置ずれマップのマップ値から前記第3の位置ずれマップの対応するマップ値を差し引いた差分に前記第5の位置ずれマップの対応するマップ値を加算することによって前記第2と第3と第5の位置ずれマップを合成して第6の位置ずれマップを作成する合成部と、
を備えたことを特徴とする位置ずれマップ作成装置。 - 前記各所定の関数として、それぞれ、B−スプライン関数を用いることを特徴とする請求項1記載の位置ずれマップ作成装置。
- 前記記憶装置は、さらに、複数の校正用パターンが形成された校正基板から取得された複数の光学画像と校正基板用の設計データから作成された複数の参照画像との間での対応する両画像間でのそれぞれの位置ずれ量を記憶し、
校正基板における各位置ずれ量に基づいて、第7の位置ずれマップを作成する第3の位置ずれマップ作成部と、
第7の位置ずれマップに対し、高周波成分と低周波成分の両方を残す所定の関数を用いたワイドパスフィルタ処理をおこなって第8の位置ずれマップを作成する第2のワイドパスフィルタ処理部と、
第7の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第9の位置ずれ量マップを作成する第3のローパスフィルタ処理部と、
座標計測装置で計測された前記複数の校正用パターンの各パターンの位置と設計データにおける複数の校正用パターンの位置との間での対応する両位置間でのそれぞれの位置ずれ量に基づいて、第10の位置ずれマップを作成する第4の位置ずれマップ作成部と、
第10の位置ずれマップを入力し、第10の位置ずれマップに対し、高周波成分と低周波成分の両方を残す所定の関数を用いたワイドパスフィルタ処理をおこなって第11の位置ずれマップを作成する第3のワイドパスフィルタ処理部と、
被検査試料における複数の位置計測用パターンの座標情報と、被検査試料における複数の位置計測用パターンの座標に対応する前記第10の位置ずれマップの各値とを入力し、第12の位置ずれマップを作成する第5の位置ずれマップ作成部と、
第12の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第13の位置ずれ量マップを作成する第4のローパスフィルタ処理部と、
をさらに備え、
前記合成部は、さらに、合成された第6の位置ずれマップのマップ値に第8と第13の位置ずれマップのそれぞれ対応するマップ値を減算し、第9と第11の位置ずれマップのそれぞれ対応するマップ値を加算することを特徴とする請求項1又は2記載の位置ずれマップ作成装置。 - 複数の図形パターンと複数の位置計測用パターンとが形成された被検査試料を用いて、被検査試料に形成された複数の図形パターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、
被検査試料用の設計データを用いて、前記光学画像を分割した複数の分割画像に対応する複数の参照画像を作成する参照画像作成部と、
前記複数の分割画像と前記複数の参照画像との間でそれぞれ対応する両画像同士の位置合わせを行う位置合わせ部と、
位置合わせされた両画像同士を画素毎に比較し、欠陥の有無を判定する比較部と、
前記複数の分割画像と前記複数の参照画像との間でそれぞれ対応する両画像同士の位置合わせをおこなった際の両画像間でのそれぞれの位置ずれ量を記憶する記憶装置と、
各位置ずれ量に基づいて、第1の位置ずれマップを作成する第1の位置ずれマップ作成部と、
第1の位置ずれマップに対し、高周波成分と低周波成分の両方を残す所定の関数を用いたワイドパスフィルタ処理をおこなって第2の位置ずれマップを作成するワイドパスフィルタ処理部と、
第1の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第3の位置ずれ量マップを作成する第1のローパスフィルタ処理部と、
座標計測装置で計測された前記複数の位置計測用パターンの各パターンの位置と設計データにおける複数の位置計測用パターンの位置との間での対応する両位置間でのそれぞれの位置ずれ量に基づいて、第4の位置ずれマップを作成する第2の位置ずれマップ作成部と、
第4の位置ずれマップを入力し、第4の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第5の位置ずれマップを作成する第2のローパスフィルタ処理部と、
前記第2の位置ずれマップのマップ値から前記第3の位置ずれマップの対応するマップ値を差し引いた差分に前記第5の位置ずれマップの対応するマップ値を加算することによって前記第2と第3と第5の位置ずれマップを合成して第6の位置ずれマップを作成する合成部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査システム。 - 複数の図形パターンと複数の位置計測用パターンとが形成された被検査試料から取得された複数の光学画像と前記被検査試料用の設計データから作成された複数の参照画像との間での対応する両画像間でのそれぞれの位置ずれ量を記憶する記憶装置から各位置ずれ量を読み出し、各位置ずれ量に基づいて、第1の位置ずれマップを作成する工程と、
第1の位置ずれマップに対し、高周波成分と低周波成分の両方を残す所定の関数を用いたワイドパスフィルタ処理をおこなって第2の位置ずれマップを作成する工程と、
第1の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第3の位置ずれ量マップを作成する工程と、
座標計測装置で計測された前記複数の位置計測用パターンの各パターンの位置と設計データにおける複数の位置計測用パターンの位置との間での対応する両位置間でのそれぞれの位置ずれ量が定義された第4の位置ずれマップを入力し、第4の位置ずれマップに対し、低周波成分を残す所定の関数を用いたローパスフィルタ処理をおこなって第5の位置ずれマップを作成する工程と、
前記第2の位置ずれマップのマップ値から前記第3の位置ずれマップの対応するマップ値を差し引いた差分に前記第5の位置ずれマップの対応するマップ値を加算することによって前記第2と第3と第5の位置ずれマップを合成して第6の位置ずれマップを作成し、出力する工程と、
を備えたことを特徴とする位置ずれマップ作成方法。
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