JP4960404B2 - パターン検査装置及びパターン検査方法 - Google Patents
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Description
パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する光学画像取得部と、
前記パターンの設計データを2値或いは多値の画像データに展開して展開画像データを生成する展開画像生成部と、
前記2値或いは多値の展開画像データに対して、パターンサイズを拡大する処理とパターンサイズを縮小する処理とのうちの一方を行ってから他方を行うひずみ処理を行い、ひずみ画像データを生成するひずみ画像データ生成部と、
画素毎に、前記展開画像データと前記ひずみ画像データとの差異を示す非類似指数を算出する非類似指数算出部と、
前記展開画像データに対してデータ処理を行い、前記光学画像データと比較するための基準画像データを生成する基準画像データ生成部と、
画素毎に、複数の判定条件の中から前記非類似指数に応じた判定条件で、前記光学画像データと前記基準画像データとを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とする。
パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する工程と、
前記パターンの設計データを2値或いは多値の画像データに展開して展開画像データを生成する工程と、
前記2値或いは多値の展開画像データに対して、パターンサイズを拡大する処理とパターンサイズを縮小する処理とのうちの一方を行ってから他方を行うひずみ処理を行い、ひずみ画像データを生成する工程と、
画素毎に、前記展開画像データと前記ひずみ画像データとの差異を示す非類似指数を算出する工程と、
前記展開画像データに対してデータ処理を行い、前記光学画像データと比較するための基準画像データを生成する工程と、
画素毎に、複数の判定条件の中から前記非類似指数に応じた判定条件で、前記光学画像データと前記基準画像データとを比較し、結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す概念図である。図1において、マスクやウェハ等の基板を試料として、かかる試料の欠陥を検査するパターン検査装置100は、光学画像取得部150と制御回路160を備えている。光学画像取得部150は、XYθテーブル102、光源103、拡大光学系104、フォトダイオードアレイ105、センサ回路106、レーザ測長システム122、オートローダ130、照明光学系170、及びストライプパターンメモリ146を備えている。制御回路160では、コンピュータとなる制御計算機110が、データ伝送路となるバス120を介して、位置回路107、比較部の一例となる比較回路108、展開回路111、基準画像生成回路112、オートローダ制御回路113、テーブル制御回路114、ひずみ画像生成回路140、非類似指数算出回路142、複雑度算出回路144、記憶装置の一例となる磁気ディスク装置109、磁気テープ装置115、フレキシブルディスク装置(FD)116、CRT117、パターンモニタ118、及びプリンタ119に接続されている。また、XYθテーブル102は、X軸モータ、Y軸モータ、θ軸モータにより駆動される。図1では、本実施の形態1を説明する上で必要な構成部分について記載している。パターン検査装置100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。
(1) R(n)=√{(B(n)−A(n))2}
実施の形態1では、展開画像データを光学画像データと同じ画素サイズで生成する場合について説明したが、これに限るものではない。実施の形態2では、基準画像を高精度に生成するために、展開画像データの解像度を光学画像データよりも高くして生成する場合について説明する。
実施の形態1,2では、複雑度Z(n)を独立して、比較回路108に出力しているが、これに限るものではなく、実施の形態3では、基準画像データ中に複雑度Z(n)を埋め込む構成について説明する。
100 パターン検査装置
101 フォトマスク
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105 フォトダイオードアレイ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
111 展開回路
112 基準画像生成回路
115 磁気テープ装置
140 ひずみ画像生成回路
142 非類似指数算出回路
144 複雑度算出回路
146 ストライプパターンメモリ
148 サイズ合わせ回路
149 埋め込み回路
150 光学画像取得部
160 制御回路
Claims (7)
- パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する光学画像取得部と、
前記パターンの設計データを2値或いは多値の画像データに展開して展開画像データを生成する展開画像生成部と、
前記2値或いは多値の展開画像データに対して、パターンサイズを拡大する処理とパターンサイズを縮小する処理とのうちの一方を行ってから他方を行うひずみ処理を行い、ひずみ画像データを生成するひずみ画像データ生成部と、
画素毎に、前記展開画像データと前記ひずみ画像データとの差異を示す非類似指数を算出する非類似指数算出部と、
前記展開画像データに対してデータ処理を行い、前記光学画像データと比較するための基準画像データを生成する基準画像データ生成部と、
画素毎に、複数の判定条件の中から前記非類似指数に応じた判定条件で、前記光学画像データと前記基準画像データとを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。 - 前記ひずみ画像データ生成部は、前記展開画像データに対して、パターンサイズを拡大する処理と拡大されたパターンサイズを縮小する処理とを行なうことにより、前記ひずみ画像データを生成することを特徴とする請求項1記載のパターン検査装置。
- 前記ひずみ画像データ生成部は、前記展開画像データに対して、パターンサイズを縮小する処理と縮小されたパターンサイズを拡大する処理とを行なうことにより、前記ひずみ画像データを生成することを特徴とする請求項1記載のパターン検査装置。
- 前記非類似指数に応じて複数の判定条件の中から1つを識別するための識別値を算出する識別値算出部をさらに備え、
前記比較部は、前記識別値を入力して、前記識別値に対応する判定条件で比較することを特徴とする請求項1〜3いずれか記載のパターン検査装置。 - 前記識別値を前記基準画像データの中に埋め込む埋め込み処理部をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜4いずれか記載のパターン検査装置。
- 前記展開画像データは、前記光学画像データの画素サイズよりも小さい画素サイズで生成され、
前記ひずみ画像データ生成部は、前記光学画像データの画素サイズよりも小さい画素サイズの状態で前記展開画像データに対してひずみ処理を行うことで、前記光学画像データの画素サイズよりも小さい画素サイズの状態での前記ひずみ画像データを生成し、
前記非類似指数算出部は、前記光学画像データの画素サイズよりも小さい画素サイズの状態の前記展開画像データと前記ひずみ画像データとから前記非類似指数を算出し、
前記パターン検査装置は、さらに、
前記光学画像データの画素サイズよりも小さい画素サイズの状態で算出された前記非類似指数を前記光学画像データの画素サイズに相当する非類似指数に変換する非類似指数変換部をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜5いずれか記載のパターン検査装置。 - パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する工程と、
前記パターンの設計データを2値或いは多値の画像データに展開して展開画像データを生成する工程と、
前記2値或いは多値の展開画像データに対して、パターンサイズを拡大する処理とパターンサイズを縮小する処理とのうちの一方を行ってから他方を行うひずみ処理を行い、ひずみ画像データを生成する工程と、
画素毎に、前記展開画像データと前記ひずみ画像データとの差異を示す非類似指数を算出する工程と、
前記展開画像データに対してデータ処理を行い、前記光学画像データと比較するための基準画像データを生成する工程と、
画素毎に、複数の判定条件の中から前記非類似指数に応じた判定条件で、前記光学画像データと前記基準画像データとを比較し、結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とするパターン検査方法。
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JP2009108144A JP4960404B2 (ja) | 2009-04-27 | 2009-04-27 | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
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JP2009108144A JP4960404B2 (ja) | 2009-04-27 | 2009-04-27 | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
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JP2010256716A JP2010256716A (ja) | 2010-11-11 |
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JP2009108144A Active JP4960404B2 (ja) | 2009-04-27 | 2009-04-27 | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
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2009
- 2009-04-27 JP JP2009108144A patent/JP4960404B2/ja active Active
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