JP2011180066A - 画像比較方法および画像比較プログラム - Google Patents
画像比較方法および画像比較プログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011180066A JP2011180066A JP2010046475A JP2010046475A JP2011180066A JP 2011180066 A JP2011180066 A JP 2011180066A JP 2010046475 A JP2010046475 A JP 2010046475A JP 2010046475 A JP2010046475 A JP 2010046475A JP 2011180066 A JP2011180066 A JP 2011180066A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- space
- line
- cad
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
【目的】本発明は、画像比較方法および画像比較プログラムに関し、実画像上のパターンと元CADデータのパターンとの比較を容易に行うと共に、同じようなパターンの幅のものが複数存在してもその対応関係を実画像上で容易に判別可能にすることを目的とする。
【構成】試料を撮影した実画像からパターンを構成するライン、スペースのエッジを抽出するステップと、抽出したライン、スペースのエッジをもとにライン、スペースの幅、長さのいずれか一方あるいは両者に対応するエッジ間の距離を測定するステップと、測定したライン、スペースのエッジ間の幅および長さのいずれか一方あるいは両方に、実画像のライン、スペースと元のCADデータから生成したCAD画像のライン、スペースとのいずれか一方あるいは両者の比からなる補正係数を演算して補正CAD画像を生成するステップと、生成した補正CAD画像を実画像に重畳して表示するステップとを有する。
【選択図】 図1
【構成】試料を撮影した実画像からパターンを構成するライン、スペースのエッジを抽出するステップと、抽出したライン、スペースのエッジをもとにライン、スペースの幅、長さのいずれか一方あるいは両者に対応するエッジ間の距離を測定するステップと、測定したライン、スペースのエッジ間の幅および長さのいずれか一方あるいは両方に、実画像のライン、スペースと元のCADデータから生成したCAD画像のライン、スペースとのいずれか一方あるいは両者の比からなる補正係数を演算して補正CAD画像を生成するステップと、生成した補正CAD画像を実画像に重畳して表示するステップとを有する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、顕微鏡を用いて被観察試料を撮影した画像上にCADデータから生成したCAD画像を重畳して表示する画像比較方法および画像比較プログラムに関するものである。
従来、CADデータから生成したCAD画像をマスクに露光して現像した当該マスク上のパターンや、更に、マスクを用いて露光して現像したウェハ上のパターンについて、走査型電子顕微鏡や光学顕微鏡などの顕微鏡を用いたパターン検査装置で実画像のパターンを取得(撮影)して測定する場合、マスク基板やウェハ基板の上に形成されたパターンがある部分をラインと呼び、パターンがない部分をスペースと呼び、これら測定した寸法値を実画像上の対応する箇所(ライン、スペース)に表示していた。
このため、実画像上のパターンを構成するラインあるいはスペースに同じような幅のものが存在すると、CAD画像上のいずれのパターンを構成するラインあるいはスペースの部分に対応しているのか判別し難いという問題があった。
本発明は、これらの問題を解決するため、顕微鏡を用いて被観察試料を撮影した実画像上に、CADデータから生成したCAD画像を重畳して表示する画像比較方法において、被観察試料を撮影した拡大された実画像を取得するステップと、取得した実画像からパターンを構成するラインあるいはスペースのエッジを抽出するステップと、抽出したラインあるいはスペースのエッジをもとにラインあるいはスペースの幅、長さのいずれか一方あるいは両者に対応するエッジ間の距離を測定するステップと、測定したラインあるいはスペースのエッジ間の幅および長さのいずれか一方あるいは両方に、実画像のライン、スペースと元のCADデータから生成したCAD画像のライン、スペースとのいずれか一方あるいは両者の比からなる補正係数を演算して補正CAD画像を生成するステップと、生成した補正CAD画像を、前記実画像に重畳して表示するステップとを有する。
この際、補正係数は、実画像のライン、スペースと、CAD画像のライン、スペースあるいはCAD画像の元データのライン、スペースの一方あるいは両者についてそれぞれの幅、長さの比あるいは比の平均とするようにしている。
また、実画像のライン、スペースのエッジ間の幅、長さが測定できない部分がある場合あるいは測定ができない場合、測定ができた部分の補正係数を測定ができない部分について適用、あるいは被観察試料上の基準パターンのライン、スペースをもとに算出した補正係数を適用するようにしている。
また、実画像および補正CAD画像のいずれか一方あるいは両者について、ライン、スペースの実測定あるいは元CADデータの幅、長さの値を表示するようにしている。
本発明は、被観察試料を撮影した拡大された実画像からパターンを構成するラインあるいはスペースのエッジを抽出し、抽出したラインあるいはスペースのエッジをもとにラインあるいはスペースの幅、長さを測定してこれらに補正係数を演算して補正CAD画像を生成し、実画像に重畳して表示することにより、実画像上のパターンと元CADデータのパターンとの比較を容易に行うことが可能となると共に、同じようなパターンの幅のものが複数存在してもその対応関係を実画像上で容易に判別が可能となる。
本発明は、被観察試料を撮影した拡大された実画像からパターンを構成するラインあるいはスペースのエッジを抽出し、抽出したラインあるいはスペースのエッジをもとにラインあるいはスペースの幅、長さを測定してこれらに補正係数を演算して補正CAD画像を生成し、実画像に重畳して表示し、実画像上のパターンと元CADデータのパターンとの比較を容易に行うことを可能にすると共に、同じようなパターンの幅のものが複数存在してもその対応関係を実画像上で容易に判別を可能にすることを実現した。
図1は、本発明のシステム構成図を示す。
図1において、測定SEM1は、試料(マスク)17の拡大画像を生成してパターン(ライン、スペースなどのパターン)の寸法を測定するものであって、電子線ビームを発生する電子銃11、電子銃11で発生された電子線ビームの軸を合わせるアライメント12、軸合わせされた電子線ビームを集束する集束レンズ13、集束された電子線ビームを試料17の上に細く絞る対物レンズ16、試料17の上で細く絞られた電子線ビームを平面走査(X方向およびY方向に走査)するための2段の偏向器14、更に、細く絞った電子線ビームで試料17の上を平面走査したときに放出された2次電子、光、反射された反射電子を検出する検出器15などから構成され、試料17の表面の画像(2次電子画像、反射電子画像)などを生成する公知のものである。
アライメント12は、電子銃11から放出された電子ビームの光軸を集束レンズ13、対物レンズ16から構成される光学系の軸に、軸合わせするための偏向器である。
ステージ18は、試料(マスクなど)17を搭載し、X方向、Y方向、Z方向に移動するものであって、図示外のレーザ干渉計によりその座標を検出しつつ試料17を所定の場所に正確に位置づけるための移動台である。
増幅器19は、2次電子、反射電子などを検出する検出器15などで検出された信号を増幅するものである。
PC(パソコン)2は、プログラムに従い各種制御、処理を行う公知のものであって、ここでは、SEM画像取得手段21、CAD画像表示手段22、結果表示手段23、CADデータ24、補正テーブル25、表示装置26、および入力装置27などから構成されるものである。
SEM画像取得手段21は、測定SEM1を制御し、試料(マスク)17上に細く電子線ビームを絞った状態で平面走査(X方向およびY方向に走査)してそのときに当該試料17から放出された、ここでは、2次電子を検出器15で検出して増幅器19で増幅した信号をもとにSEM画像(試料17の表面の拡大されたSEM画像)を生成して取得する公知技術である。
CAD画像表示手段22は、マスクなどの設計データであるCADデータ24をもとに当該CADデータ24で表現されるパターンの画像(CAD画像)を生成して表示するものである。
エッジ抽出手段23は、SEM画像中のパターンを構成するラインあるいはスペースのエッジを抽出(例えばラインからスペース、あるいはスペースからラインに向かってその輝度の中間点(微分してその変化が正から負あるいは負から正に反転する点(中間点)
をエッジとして抽出)する公知の技術である(図2から図5参照)。
をエッジとして抽出)する公知の技術である(図2から図5参照)。
CADデータ変換手段24は、SEM画像の抽出したエッジをもとに、補正係数を算出して補正CADデータに変換などするものである(図2から図5参照)。
結果表示手段25は、結果を表示するものであって、ここでは、SEM画像(実画像)上に、当該SEM画像から抽出したエッジをもとに補正係数を算出して補正CADデータを生成し、重畳して表示したりなどするものである(図2から図5参照)。
CADデータ26は、試料17である、ウェハ上のパターンを設計した元のCADデータである。
補正テーブル27は、SEM画像のCADデータに対する補正係数(補正値)を登録するものである(図4参照)。
表示装置28は、画像などを表示する表示装置である。
入力装置29は、データや指示を入力するものであって、マウス、キーボード、タッチペンなどの入力装置である。
次に、図2のフローチャートの順番に従い、図1のシステム構成の動作を詳細に説明する。
図2は、本発明の動作説明フローチャートを示す。
図2において、S1は、SEM画像を取得する。これは、利用者がこれから図1の測定SEM1のステージ18に装着してパターン(スペース、ラインなど)の寸法を測定する対象の試料(マスク)17から、SEM画像を取得する。具体的には、SEM画像取得手段21が、試料(マスク)17を搭載したステージ18を図示外のレーザ干渉計をもとに精密にX方向およびY方向の座標を計測しつつ、CADデータ26をもとに対応する試料(マスク)17の拡大されたSEM像を取得する位置に位置あわせする。この位置合わせした状態で、電子線ビームを細く絞って走査させ、そのときに放出された2次電子を検出器15で検出し、増幅器19で増幅した信号(SEM画像信号)を取得する。
S2は、SEM画像を表示する。これは、S1で取得したSEM画像信号を、表示装置28の画面上に表示する(例えば後述する図5のSEM画像参照)。
S3は、エッジを抽出する。これは、S2で表示装置28の画面上に表示したSEM画像について、公知の技術によりエッジを抽出(例えばパターンを構成するラインあるいはスペースのエッジを抽出)する。
S4は、補正値を算出する。これは、CADデータの対応するパターン(ライン、スペース)の幅、長さと、SEM画像(実画像)のパターン(ライン、スペース)の幅、長さ(ライン、スペースのエッジの間の距離(幅、長さ))との比からなる補正値(補正係数)を算出する(図4参照)。
S5は、補正CADデータに変換できるか判別する。これは、S4で補正値(補正係数)を算出でき、補正CADデータに変換できるか判別する。YESの場合には、S7に進む。NOの場合には、S6に進む。
S6は、S4で補正値(補正係数)を算出できなかったと判明、即ち、SEM画像のS/N比が悪いなどによりエッジ自身が抽出できなく、補正値(補正係数)を算出できなかったと判明したので、元CADデータから補正CADデータを作成と決定する。ここで、SEM画像からエッジが抽出できず、補正値(補正係数)を算出できなかった場合には、試料(ウェハ)17上の基準パターンの画像からエッジを抽出して当該エッジとCADデータ上の該当パターンとの比から補正値(補正係数)を算出しておく。そして、S7に進む。
S7は、補正CADデータに変換する。これは、SEM画像のエッジ(エッジを連結して生成したラインあるいはスペース)に、補正値(補正係数)を演算して補正CADデータに変換する。尚、S6の場合には、CADデータのエッジに、試料(ウェハ)17上の基準パターンのエッジとCADデータとの比から算出した補正値(補正係数)を演算して補正CADデータに変換する。
S8は、SEM画像上に補正CADデータを表示する(図5参照)。
以上により、SEM画像を取得して表示すると共に、SEM画像から抽出したエッジ(ライン、スペースの間の幅(エッジ間の幅)、長さ(エッジ間の長さ))と、CADデータ26の該当エッジとの比を補正値(補正係数)として算出し、SEM画像のエッジに当該補正値を演算して補正CADデータを算出し、SEM画像上に重畳して図5に示すように表示することが可能となる。これにより、実画像(SEM画像)上のパターンと、設計データであるCADデータ26のパターンとの相対比較を分かりやすく表示することが可能となる。
図3は、本発明の他の動作説明フローチャートを示す。
図3において、S11は、エッジデータの有るもの(補正CADデータに変換できたもの)を捜す。
S12は、補正係数Aを求める。これらS11、S12は、SEM画像(実画像)上でエッジが何らかの原因で抽出できなかったパターン(ライン、スペース)(例えばS/Nが悪くでエッジが抽出できなかったパターン(ライン、スペース))について、当該SEM画像上でエッジが抽出できた他のパターン(ライン、スペース)の当該エッジをもとに補正係数Aを求める(SEM画像のエッジと、CADデータの対応エッジとの比から補正係数を求める)。
S13は、エッジが求められないSEM画像上のパターンの元CADデータ×補正係数Aを算出する。これは、SEM画像上でエッジの求められない当該SEM画像上のパターンについて、当該パターンに対応する元CADデータ26に、S12で求めた補正係数Aを乗算して擬似的に補正CADデータを生成する。
S14は、補正CADデータをSEM画像上に表示する。
以上のように、SEM画像上に、エッジの抽出できなかったパターンについて、近傍のエッジを抽出できたパターンのエッジをもとに算出した補正係数Aを流用し、SEM画像上でエッジの抽出できなかったパターンに対応する元CADデータのパターンに当該補正係数Aを乗算して擬似的に補正CADデータを作成してSEM画像上に重畳表示することが可能となる。これにより、特に、S/N比が悪く成りがちな微細なパターン(ライン、スペース)についてたとえエッジが抽出できなくても近傍のエッジを抽出できたパターンの当該エッジをもとに算出した補正係数を流用して、エッジの抽出できないような微細なパターンの補正CADデータを作成(擬似作製)してSEM画像上に重畳して表示することが可能となり、SEM画像と元CADデータとの比較を容易に行うことができる。
図4は、本発明の補正テーブル例を示す。図示の補正テーブル25は、SEM画像上のパターンのエッジと、CADデータ26との比を補正係数として算出したものであって、ここでは、図示の下記の情報を対応づけて算出して登録するものである。
・パターン種別:
・CADデータ値(*1):
・SEMエッジ値(*2):
・補正CADデータ値:
・補正係数(*1/*2):
・その他:
ここで、パターン種別はライン(パターン(薄膜)の存在する部分のパターン)、スペース(パターン(薄膜)の存在しない部分のパターン)の区別を表す。CADデータ値(*1)はCADで設計した元の設計データ(例えばライン、スペースの幅、長さ)を表す。SEMエッジ値(*2)はCADデータ値をもとにパターンを作製したウェハについて、測定SEM1により取得したSEM画像上でエッジを抽出し、当該エッジを連結して表されるパターン(ライン、スペース)の幅、長さの値(測定した値)を表す。補正CADデータ値は、CADデータ値に補正係数を乗算した値を表す。補正係数(*1/*2)はCADデータ値とSEMエッジ値との比を表す。
・CADデータ値(*1):
・SEMエッジ値(*2):
・補正CADデータ値:
・補正係数(*1/*2):
・その他:
ここで、パターン種別はライン(パターン(薄膜)の存在する部分のパターン)、スペース(パターン(薄膜)の存在しない部分のパターン)の区別を表す。CADデータ値(*1)はCADで設計した元の設計データ(例えばライン、スペースの幅、長さ)を表す。SEMエッジ値(*2)はCADデータ値をもとにパターンを作製したウェハについて、測定SEM1により取得したSEM画像上でエッジを抽出し、当該エッジを連結して表されるパターン(ライン、スペース)の幅、長さの値(測定した値)を表す。補正CADデータ値は、CADデータ値に補正係数を乗算した値を表す。補正係数(*1/*2)はCADデータ値とSEMエッジ値との比を表す。
図5は、本発明の表示例を示す。
図5の(a)は、ライン/スペースの表示例を示す。図示の画像は、SEM画像上に、当該SEM画像のパターンのエッジを抽出し、当該抽出したエッジ(SEMエッジ値)と、元CADデータ値との比から補正係数を算出し、算出した補正係数をもとにSEM画像のエッジから生成したSEM画像の輪郭GDSデータ(補正CADデータ(黒線))を重畳表示したものである。
尚、図示しないが、SEM画像からエッジを抽出できないパターンについては、図3に従いSEM画像の近傍のエッジを抽出できたものの補正係数(あるいは更に、基準パターンのエッジから算出した補正係数)を流用し、これら流用した補正係数をもと元CADデータから生成したSEM画像の輪郭GDSデータ(補正CADデータ(黒線))を重畳表示するようにする。
以上により、SEM画像からエッジを抽出できた場合には当該エッジをもとに算出した補正係数、エッジを抽出できない場合には近傍のエッジを抽出できたものの補正係数、更に、近傍のエッジも抽出できないときは基準パターンのエッジをもとに算出した補正係数をもとに、SEM画像のエッジあるいは元CADデータのエッジに補正係数を演算して補正CADデータを生成し、SEM画像上に図示の黒線のように当該補正CADデータを重畳表示することが可能となる。
図5の(b)は、ホールの表示例を示す。図示の画像は、図5の(a)と同様に、SEM画像上に、補正CADデータを重畳表示したものである。補正係数は上記したと同様に算出すると共に、補正CADデータも上記したと同様に算出する。
本発明は、被観察試料を撮影した拡大された実画像からパターンを構成するラインあるいはスペースのエッジを抽出し、抽出したラインあるいはスペースのエッジをもとにラインあるいはスペースの幅、長さを測定してこれらに補正係数を演算して補正CAD画像を生成し、実画像に重畳して表示し、実画像上のパターンと元CADデータのパターンとの比較を容易に行うことを可能とすると共に、同じようなパターンの幅のものが複数存在してもその対応関係を実画像上で容易に判別を可能にする画像比較方法および画像比較プログラムに関するものである。
1:測定SEM
11:電子銃
12:アライメント
13:集束レンズ
14:偏向器
15:検出器
16:対物レンズ
17:試料(マスク)
18:ステージ
19:増幅器
2:PC(パソコン)
21:SEM画像取得手段
22:CAD画像表示手段
23:エッジ抽出手段
24:CADデータ変換手段
25:結果表示手段
26:CADデータ
27:補正テーブル
28:表示装置
29:入力装置
11:電子銃
12:アライメント
13:集束レンズ
14:偏向器
15:検出器
16:対物レンズ
17:試料(マスク)
18:ステージ
19:増幅器
2:PC(パソコン)
21:SEM画像取得手段
22:CAD画像表示手段
23:エッジ抽出手段
24:CADデータ変換手段
25:結果表示手段
26:CADデータ
27:補正テーブル
28:表示装置
29:入力装置
Claims (5)
- 顕微鏡を用いて被観察試料を撮影した実画像上に、CADデータから生成したCAD画像を重畳して表示する画像比較方法において、
被観察試料を撮影した拡大された実画像を取得するステップと、
前記取得した実画像からパターンを構成するラインあるいはスペースのエッジを抽出するステップと、
前記抽出したラインあるいはスペースのエッジをもとに当該ラインあるいはスペースの幅、長さのいずれか一方あるいは両者に対応するエッジ間の距離を測定するステップと、
前記測定したラインあるいはスペースのエッジ間の幅および長さのいずれか一方あるいは両方に、実画像のライン、スペースと元のCADデータから生成したCAD画像のライン、スペースとのいずれか一方あるいは両者の比からなる補正係数を演算して補正CAD画像を生成するステップと、
前記生成した補正CAD画像を、前記実画像に重畳して表示するステップと
を有する画像比較方法。 - 前記補正係数は、前記実画像のライン、スペースと、前記CAD画像のライン、スペースあるいは当該CAD画像の元データのライン、スペースの一方あるいは両者についてそれぞれの幅、長さの比あるいは比の平均としたことを特徴とする請求項1記載の画像比較方法。
- 前記実画像のライン、スペースのエッジ間の幅、長さが測定できない部分がある場合あるいは測定ができない場合、測定ができた部分の補正係数を測定ができない部分について適用、あるいは被観察試料上の基準パターンのライン、スペースをもとに算出した補正係数を適用することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の画像比較方法。
- 前記実画像および前記補正CAD画像のいずれか一方あるいは両者について、ライン、スペースの実測定あるいは元CADデータの幅、長さの値を表示することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の画像比較方法。
- 顕微鏡を用いて被観察試料を撮影した実画像上に、CADデータから生成したCAD画像を重畳して表示する画像比較プログラムにおいて、
コンピュータを、
被観察試料を撮影した拡大された実画像を取得する手段と、
前記取得した実画像からパターンを構成するラインあるいはスペースのエッジを抽出する手段と、
前記抽出したラインあるいはスペースのエッジをもとに当該ラインあるいはスペースの幅、長さのいずれか一方あるいは両者に対応するエッジ間の距離を測定する手段と、
前記測定したラインあるいはスペースのエッジ間の幅および長さのいずれか一方あるいは両方に、実画像のライン、スペースと元のCADデータから生成したCAD画像のライン、スペースとのいずれか一方あるいは両者の比からなる補正係数を演算して補正CAD画像を生成する手段と、
前記生成した補正CAD画像を、前記実画像に重畳して表示する手段と
して機能させる画像比較プログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010046475A JP2011180066A (ja) | 2010-03-03 | 2010-03-03 | 画像比較方法および画像比較プログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010046475A JP2011180066A (ja) | 2010-03-03 | 2010-03-03 | 画像比較方法および画像比較プログラム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011180066A true JP2011180066A (ja) | 2011-09-15 |
Family
ID=44691709
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010046475A Pending JP2011180066A (ja) | 2010-03-03 | 2010-03-03 | 画像比較方法および画像比較プログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011180066A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013089096A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 画像処理装置、輪郭線形成方法、及びコンピュータープログラム |
WO2013179956A1 (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン検査装置およびパターン検査方法 |
JP2015138731A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 株式会社ホロン | 画像補正方法および画像補正プログラム |
US10304159B2 (en) | 2015-11-06 | 2019-05-28 | Fujitsu Limited | Superimposed display method and superimposed display apparatus |
-
2010
- 2010-03-03 JP JP2010046475A patent/JP2011180066A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013089096A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 画像処理装置、輪郭線形成方法、及びコンピュータープログラム |
WO2013179956A1 (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン検査装置およびパターン検査方法 |
JP2013246062A (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-09 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン検査装置およびパターン検査方法 |
US9188554B2 (en) | 2012-05-28 | 2015-11-17 | Hitachi High-Technologies Corporation | Pattern inspection device and pattern inspection method |
JP2015138731A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 株式会社ホロン | 画像補正方法および画像補正プログラム |
US10304159B2 (en) | 2015-11-06 | 2019-05-28 | Fujitsu Limited | Superimposed display method and superimposed display apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4988274B2 (ja) | パターンのずれ測定方法、及びパターン測定装置 | |
TWI493280B (zh) | Pattern inspection device and pattern inspection method | |
US7518110B2 (en) | Pattern measuring method and pattern measuring device | |
JP5525421B2 (ja) | 画像撮像装置および画像撮像方法 | |
WO2013122022A1 (ja) | 画像評価装置及びパターン形状評価装置 | |
JP2009157543A (ja) | 画像生成方法及びその画像生成装置 | |
JP4925961B2 (ja) | パターン測定装置 | |
JP5966087B2 (ja) | パターン形状評価装置及び方法 | |
JP2009194272A (ja) | レビュー方法、およびレビュー装置 | |
WO2017130365A1 (ja) | オーバーレイ誤差計測装置、及びコンピュータープログラム | |
JP6088803B2 (ja) | 画像処理装置、自己組織化リソグラフィ技術によるパターン生成方法、及びコンピュータープログラム | |
JP2011180066A (ja) | 画像比較方法および画像比較プログラム | |
JPWO2011089913A1 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
US8559697B2 (en) | Mask inspection apparatus and image generation method | |
JP5460479B2 (ja) | パターン寸法測定装置及び輪郭線形成装置 | |
JP6088337B2 (ja) | パターン検査方法及びパターン検査装置 | |
JP5378266B2 (ja) | 測定領域検出方法および測定領域検出プログラム | |
JP2017058190A (ja) | 参照画像作成用の基準データ作成方法及びパターン検査装置 | |
JP6207893B2 (ja) | 試料観察装置用のテンプレート作成装置 | |
JP2007192752A (ja) | エッジ検出方法およびエッジ検出装置 | |
JP4389568B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP5221750B2 (ja) | パターン測定方法及びパターン測定装置 | |
JP2012042483A (ja) | 画像生成装置 | |
JP6138460B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2007334727A (ja) | 画像照合方法および画像照合プログラム |