JP2015174795A - 反射防止膜、光学部材及び光学部材の製造方法 - Google Patents
反射防止膜、光学部材及び光学部材の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015174795A JP2015174795A JP2014052323A JP2014052323A JP2015174795A JP 2015174795 A JP2015174795 A JP 2015174795A JP 2014052323 A JP2014052323 A JP 2014052323A JP 2014052323 A JP2014052323 A JP 2014052323A JP 2015174795 A JP2015174795 A JP 2015174795A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- fine particles
- hollow fine
- antireflection film
- optical member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
- C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
- C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/006—Anti-reflective coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/445—Organic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/465—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase having a specific shape
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
- C03C2217/478—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G2650/28—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type
- C08G2650/46—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen
- C08G2650/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen containing fluorine, e.g. perfluropolyethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
- C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
- C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
- C08K7/26—Silicon- containing compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
【解決手段】 中空微粒子を有する第1の層を有する反射防止膜であり、前記第1の層は、前記中空微粒子と、バインダと、フッ素化合物を有し、前記第1の層は、屈折率が1.22乃至1.30であり、前記第1の層は、前記第1の層の表面とn−ヘキサデカンとの接触角が50°乃至70°であることを特徴とする反射防止膜。
【選択図】 図1
Description
前記反射防止膜は、中空微粒子を有する第1の層を有し、前記第1の層は、前記中空微粒子と、バインダと、フッ素化合物とを有し、前記第1の層は、屈折率が1.22乃至1.30であり、前記第1の層は、前記第1の層の表面とn−ヘキサデカンとの接触角が50°乃至70°であることを特徴とする光学部材に関する。
図1は、本発明の光学部材の一実施形態を示す模式図である。
本発明の光学部材は、基材17と、第1の層10を有する反射防止膜を有している。反射防止膜の第1の層10は、中空微粒子11と、バインダ12と、フッ素化合物14とを少なくとも有している。
中空微粒子を有する第1の層は、中空微粒子が複数積み重なっていても良いが、表面の中空微粒子は、基材の表面に沿って配列していることが好ましい。例えば、基材面に平行に又は並行して、中空微粒子が配列していることが好ましい。基材の表面と平行な面に配列している状態とは、反射防止膜の表面に配列される各中空微粒子の頂点の高さが基材の表面と平行な面に対して中空微粒子の半径以上にずれていない状態である。また、局所的な間隙を除いて基板の表面の方向の中空微粒子と中空微粒子の距離が中空微粒子の半径以下に隣接している状態のことである。
次に、本発明の光学部材の製造方法について説明する。
これらの屈折率層や機能性を有する層は、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法などを用いて形成することが可能である。以下に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例により限定されるものではない。
実施例1では、以下の方法で本発明の反射防止膜を作製して評価をした。
中空シリカ微粒子のスラリーIPA分散液(日揮触媒化成株式会社製 スルーリア1110、平均フェレ径55nm・固形分濃度20.50質量%、)6.0gに1−メトキシ−2−プロパノール(関東化学製 鹿特級)28.1gで希釈を行い、中空シリカ微粒子を含有する第1の塗工液(固形分濃度3.60質量%)を調製した。
シランアルコキシの加水分解縮合物(ハネウェル社製 アキュグラスT−11(111)固形分濃度4.50質量%)6.0gを2−エチル−1−ブタノール(東京化成工業株式会社製 等級EP)39.1g(固形分濃度0.69質量%)で希釈を行い、バインダを含有する第2の塗工液を調製した。
パーフルオロポリエーテル含有化合物(株式会社ハーベス製 デュラサーフDS−1101S135固形分濃度0.10質量%)1.0gをフッ素溶媒(株式会社ハーベス製 DS−S135)2.0gで希釈を行い、フッ素化合物を含有する第3の塗工液を調製した。
直径(φ)39mm厚さ2mmのガラス基材LAH55上に、中空シリカ微粒子と分散媒による第1の塗工液を0.2ml滴下し、スピンコーターを用いて3000rpmで30秒間の条件によって成膜を行った。第1の塗工液が成膜された基材に第2の塗工液を0.2ml滴下し、スピンコーターを用いて2000rpmで30秒間の条件によって成膜を行った。さらに、フッ素化合物を形成するために必要な成分を含有する第3の塗工液を0.2ml滴下し、スピンコーターを用いて3000rpmで10秒間の条件によって成膜を行った。その後、成膜を行った基材を温度150℃で、2時間焼成を行い、膜を形成し、基材上に反射防止膜を有する光学部材を得た。
実施例1の光学部材をレンズ反射率測定機(オリンパス株式会社製 USPM−RU)を用いて波長400nmから700nmの反射率を測定し、基材LAH−55の屈折率と最小反射率となる波長より屈折率を求めた。初期の屈折率は実施例1では1.25であった。
実施例2では、フッ素化合物を含有する第3の塗工液の濃度を変更する以外は、実施例1と同様に行った。
パーフルオロポリエーテル含有化合物(株式会社ハーベス製 デュラサーフDS−1101S135固形分濃度0.10質量%)1.0gをフッ素溶媒2.5gで希釈して、フッ素化合物を有する第3の塗工液を調製した。前記カッコ内の固形分濃度の数値は、調製した各塗料溶液の濃度を表す。
実施例1と同様に評価したところ、初期の屈折率は実施例2の光学部材では1.247であった。
実施例3では、フッ素化合物を含有する第3の塗工液の濃度を変更する以外は、実施例1と同様に光学部材を作製して評価を行った。
パーフルオロポリエーテル含有化合物(株式会社ハーベス製 デュラサーフDS−1101S135固形分濃度0.1質量%)1.0gをフッ素溶媒で希釈せずに、フッ素化合物を含有する第3の塗工液として用いた。前記カッコ内の固形分濃度の数値は、調製した各塗料溶液の濃度を表す。
実施例1と同様に評価したところ、実施例3の光学部材の初期の屈折率は、1.259であった。
実施例4は、フッ素化合物の溶媒を変更して変えた第3の塗工液を用いた以外は、実施例1と同様に光学部材を作製して評価を行った。
パーフルオロポリエーテル含有化合物(株式会社ハーベス製 デュラサーフDS−1101TH固形分濃度0.04質量%)1.0gをフッ素溶媒(株式会社ハーベス製 DS−TH)2.5gで希釈を行い、フッ素塗料を調製した。
実施例1と同様に評価したところ、実施例4の光学部材の初期の屈折率は、1.25であった。
比較例1では、フッ素化合物を含有する第3の塗工液を塗工しない以外は実施例1と同様に光学部材を作製して評価した。
実施例1と同様に評価したところ、比較例1の光学部材の初期の屈折率は、1.25であった。
比較例2では、フッ素化合物を含有する第3の塗工液の濃度を変更する以外は、実施例1と同様に光学部材を作製して評価を行った。
パーフルオロポリエーテル含有化合物(株式会社ハーベス製 デュラサーフDS−1101S135固形分濃度0.1質量%)1.0gをフッ素溶媒(株式会社ハーベス製 DS−S135)5.0gで希釈を行い、第3の塗工液を調製した。前記カッコ内の固形分濃度の数値は、調製した各塗料溶液の濃度を表す。
実施例1と同様に評価したところ、比較例2の光学部材の初期の屈折率は1.243であった。
実施例1乃至4と比較例1とを対比すると、中空微粒子層に後からフッ素化合物を含有する第3の塗工液を塗工することにより、皮脂による変色が抑制されていることが確認された。
12 バインダ
13 ボイド
14 フッ素化合物
16 酸化物層
17 基材
Claims (15)
- 中空微粒子を有する第1の層を有する反射防止膜であり、
前記第1の層は、前記中空微粒子と、バインダと、フッ素化合物を有し、
前記第1の層は、屈折率が1.22乃至1.30であり、
前記第1の層は、前記第1の層の表面とn−ヘキサデカンとの接触角が50°乃至70°である
ことを特徴とする反射防止膜。 - 前記第1の層は、前記第1の層の表面と水との接触角が80°乃至120°であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
- 前記フッ素化合物は、パーフルオロポリエーテル含有化合物又はテフロン(登録商標)であることを特徴とする請求項1又は2に記載の反射防止膜。
- 前記反射防止膜は、酸化物を有する第2の層を更に有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の反射防止膜。
- 前記酸化物は、ケイ素酸化物又は金属酸化物であることを特徴とする請求項4に記載の反射防止膜。
- 前記反射防止膜は、前記第1の層と、ケイ素酸化物の層と、金属酸化物の層とを少なくとも有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の反射防止膜。
- 基材と、前記基材上に反射防止膜とを有する光学部材であって、
前記反射防止膜は、中空微粒子を有する第1の層を有し、
前記第1の層は、前記中空微粒子と、バインダと、フッ素化合物とを有し、
前記第1の層は、屈折率が1.22乃至1.30であり、
前記第1の層は、前記第1の層の表面とn−ヘキサデカンとの接触角が50°乃至70°である
ことを特徴とする光学部材。 - 前記第1の層は、前記第1の層の表面と水との接触角が80°乃至120°であることを特徴とする請求項7に記載の光学部材。
- 前記フッ素化合物は、パーフルオロポリエーテル含有化合物又はテフロン(登録商標)であることを特徴とする請求項7又は8に記載の光学部材。
- 前記反射防止膜は、酸化物を有する第2の層を更に有することを特徴とする請求項7乃至9のいずれか一項に記載の光学部材。
- 前記酸化物は、ケイ素酸化物又は金属酸化物であることを特徴とする請求項10に記載の光学部材。
- 基材と、前記基材上に反射防止膜を有する光学部材の製造方法であって、
中空微粒子を分散している第1の塗工液を前記基板に塗工する第1の塗工工程と、
前記第1の塗工液を乾燥して前記中空微粒子の間に間隙を有する中空微粒子層を形成する第1の乾燥工程と、
バインダ又はバインダを生成するための成分を有する第2の塗工液を前記中空微粒子層に塗工する第2の塗工工程と、
前記第2の塗工液を乾燥して前記中空微粒子の間の前記間隙にバインダが介在している前駆体層を形成する第2の乾燥工程と、
フッ素化合物を有する第3の塗工液を前記前駆体層に塗工する第3の塗工工程と、
前記第3の塗工液を乾燥して前記前駆体層の間隙にフッ素化合物を付与して反射防止膜を形成する形成工程を有する
ことを特徴とする光学部材の製造方法。 - 前記第3の塗工液は、前記フッ素化合物の濃度が0.04質量%以上0.1質量%以下であることを特徴とする請求項12記載の光学部材の製造方法。
- 前記基材にケイ素酸化物の層又は金属酸化物の層の積層を形成し、前記積層の上に前記第1の層を形成することを特徴とする請求項12又は13に記載の光学部材の製造方法。
- 請求項1に記載の反射防止膜が、前記基材の上に形成されることを特徴とする請求項12乃至14のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014052323A JP6274924B2 (ja) | 2014-03-14 | 2014-03-14 | 反射防止膜、光学部材及び光学部材の製造方法 |
EP15000642.7A EP2918349B1 (en) | 2014-03-14 | 2015-03-05 | Antireflection film, optical member, and method of producing optical member |
CN201510116905.XA CN104914488B (zh) | 2014-03-14 | 2015-03-13 | 减反射膜、光学部件和光学部件的制备方法 |
US14/657,456 US9914850B2 (en) | 2014-03-14 | 2015-03-13 | Antireflection film, optical member, and method of producing optical member |
US15/882,729 US10364371B2 (en) | 2014-03-14 | 2018-01-29 | Antireflection film, optical member, and method of producing optical member |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014052323A JP6274924B2 (ja) | 2014-03-14 | 2014-03-14 | 反射防止膜、光学部材及び光学部材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015174795A true JP2015174795A (ja) | 2015-10-05 |
JP6274924B2 JP6274924B2 (ja) | 2018-02-07 |
Family
ID=52807492
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014052323A Active JP6274924B2 (ja) | 2014-03-14 | 2014-03-14 | 反射防止膜、光学部材及び光学部材の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9914850B2 (ja) |
EP (1) | EP2918349B1 (ja) |
JP (1) | JP6274924B2 (ja) |
CN (1) | CN104914488B (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017090691A (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-25 | 株式会社タムロン | 反射防止膜及び光学素子 |
JP2017167271A (ja) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | キヤノン株式会社 | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
JP2017203910A (ja) * | 2016-05-12 | 2017-11-16 | キヤノンファインテックニスカ株式会社 | 光学膜 |
JP2018017930A (ja) * | 2016-07-28 | 2018-02-01 | キヤノン株式会社 | 光学素子およびそれを有する光学系、撮像装置 |
JP2019061137A (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-18 | キヤノン株式会社 | 光学素子、光学機器、光学素子の製造方法および塗料 |
JP2021012379A (ja) * | 2016-05-12 | 2021-02-04 | キヤノン株式会社 | 光学膜 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3141934B1 (en) * | 2015-09-11 | 2020-10-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical member comprising an antireflective film including a porous layer and method for manufacturing the same |
CN107045221A (zh) * | 2016-12-28 | 2017-08-15 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板和液晶显示器 |
US20190033491A1 (en) * | 2017-07-28 | 2019-01-31 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer antireflective coated articles |
CN114907604A (zh) * | 2022-04-29 | 2022-08-16 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 减反膜及其制作方法以及显示面板 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001233611A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-28 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材 |
JP2004258267A (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止部材 |
WO2007058093A1 (ja) * | 2005-11-21 | 2007-05-24 | Konica Minolta Opto, Inc. | 光学フィルムの処理方法、光学フィルムの処理装置及び光学フィルムの製造方法 |
JP2008139581A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Asahi Glass Co Ltd | 反射防止膜付き基体 |
WO2012115057A1 (ja) * | 2011-02-21 | 2012-08-30 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 有機無機複合体を含むコーティング材、有機無機複合膜及び反射防止部材 |
JP2012237941A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-06 | Asahi Glass Co Ltd | 光学部品、光学装置 |
JP2013033124A (ja) * | 2011-08-02 | 2013-02-14 | Canon Inc | 光学素子、それを用いた光学系および光学機器 |
JP2013041275A (ja) * | 2011-07-21 | 2013-02-28 | Canon Inc | 光学部材の製造方法および光学部材 |
JP2013160799A (ja) * | 2012-02-01 | 2013-08-19 | Asahi Glass Co Ltd | 低反射膜付き物品の製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101002113B (zh) * | 2004-08-04 | 2011-01-19 | 富士胶片株式会社 | 制造光学薄膜的方法 |
US20090267270A1 (en) * | 2005-09-20 | 2009-10-29 | Konica Minolta Opto, Inc. | Process for producing film with concavo-convex pattern |
JP2007168429A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-07-05 | Fujifilm Corp | 反射防止フィルム、その製造方法、並びにそれを用いた偏光板、及びディスプレイ装置 |
JP5271575B2 (ja) * | 2007-03-20 | 2013-08-21 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
KR100940086B1 (ko) * | 2007-12-13 | 2010-02-02 | 한국화학연구원 | 과불소 폴리에테르 변성 실란 화합물과 이를 함유한 방오성 코팅제 조성물 및 이를 적용한 막 |
JP5437662B2 (ja) * | 2008-03-03 | 2014-03-12 | 学校法人慶應義塾 | 反射防止膜及びその形成方法 |
US20110200826A1 (en) * | 2009-07-23 | 2011-08-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Articles containing fluorinated hybrid compositions |
CN102483469B (zh) * | 2009-09-18 | 2014-08-27 | 东丽株式会社 | 防反射部件、和防反射部件的制造方法 |
JP5340252B2 (ja) * | 2010-11-17 | 2013-11-13 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜及びその製造方法 |
JP5943754B2 (ja) * | 2012-07-20 | 2016-07-05 | キヤノン株式会社 | 中空粒子の製造方法、反射防止膜の製造方法及び光学素子の製造方法 |
-
2014
- 2014-03-14 JP JP2014052323A patent/JP6274924B2/ja active Active
-
2015
- 2015-03-05 EP EP15000642.7A patent/EP2918349B1/en active Active
- 2015-03-13 US US14/657,456 patent/US9914850B2/en active Active
- 2015-03-13 CN CN201510116905.XA patent/CN104914488B/zh active Active
-
2018
- 2018-01-29 US US15/882,729 patent/US10364371B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001233611A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-28 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材 |
JP2004258267A (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止部材 |
WO2007058093A1 (ja) * | 2005-11-21 | 2007-05-24 | Konica Minolta Opto, Inc. | 光学フィルムの処理方法、光学フィルムの処理装置及び光学フィルムの製造方法 |
JP2008139581A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Asahi Glass Co Ltd | 反射防止膜付き基体 |
WO2012115057A1 (ja) * | 2011-02-21 | 2012-08-30 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 有機無機複合体を含むコーティング材、有機無機複合膜及び反射防止部材 |
JP2012237941A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-06 | Asahi Glass Co Ltd | 光学部品、光学装置 |
JP2013041275A (ja) * | 2011-07-21 | 2013-02-28 | Canon Inc | 光学部材の製造方法および光学部材 |
JP2013033124A (ja) * | 2011-08-02 | 2013-02-14 | Canon Inc | 光学素子、それを用いた光学系および光学機器 |
JP2013160799A (ja) * | 2012-02-01 | 2013-08-19 | Asahi Glass Co Ltd | 低反射膜付き物品の製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017090691A (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-25 | 株式会社タムロン | 反射防止膜及び光学素子 |
JP2017167271A (ja) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | キヤノン株式会社 | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
JP2017203910A (ja) * | 2016-05-12 | 2017-11-16 | キヤノンファインテックニスカ株式会社 | 光学膜 |
JP2021012379A (ja) * | 2016-05-12 | 2021-02-04 | キヤノン株式会社 | 光学膜 |
JP2018017930A (ja) * | 2016-07-28 | 2018-02-01 | キヤノン株式会社 | 光学素子およびそれを有する光学系、撮像装置 |
JP2019061137A (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-18 | キヤノン株式会社 | 光学素子、光学機器、光学素子の製造方法および塗料 |
JP7046544B2 (ja) | 2017-09-27 | 2022-04-04 | キヤノン株式会社 | 光学素子、光学機器、光学素子の製造方法および塗料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10364371B2 (en) | 2019-07-30 |
JP6274924B2 (ja) | 2018-02-07 |
US9914850B2 (en) | 2018-03-13 |
EP2918349B1 (en) | 2020-10-28 |
US20180148603A1 (en) | 2018-05-31 |
EP2918349A1 (en) | 2015-09-16 |
CN104914488B (zh) | 2017-04-12 |
US20150259569A1 (en) | 2015-09-17 |
CN104914488A (zh) | 2015-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6274924B2 (ja) | 反射防止膜、光学部材及び光学部材の製造方法 | |
JP5930897B2 (ja) | 光学部材の製造方法および光学部材 | |
US9798045B2 (en) | Antireflection film and method of producing the same | |
US10738197B2 (en) | Optical member and method for manufacturing the same | |
Sim et al. | Ultra‐High Optical Transparency of Robust, Graded‐Index, and Anti‐Fogging Silica Coating Derived from Si‐Containing Block Copolymers | |
JP6723705B2 (ja) | 光学部材および撮像機器 | |
JP6053262B2 (ja) | 光学素子、それを用いた光学系および光学機器 | |
US10234600B2 (en) | Optical member, method for manufacturing optical member, and optical device | |
JP7118614B2 (ja) | 光学部材、撮像装置、及び光学部材の製造方法 | |
JP2020016789A (ja) | 光学膜とその製造方法 | |
US10459123B2 (en) | Optical member, image pickup apparatus, and method for manufacturing optical member | |
JP2015099333A (ja) | 反射防止膜 | |
JP2018017930A (ja) | 光学素子およびそれを有する光学系、撮像装置 | |
JP2016085253A (ja) | 反射防止膜、及びそれを有する光学素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170310 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170920 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170926 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180109 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6274924 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |