JP5340252B2 - 反射防止膜及びその製造方法 - Google Patents
反射防止膜及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5340252B2 JP5340252B2 JP2010257148A JP2010257148A JP5340252B2 JP 5340252 B2 JP5340252 B2 JP 5340252B2 JP 2010257148 A JP2010257148 A JP 2010257148A JP 2010257148 A JP2010257148 A JP 2010257148A JP 5340252 B2 JP5340252 B2 JP 5340252B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- binder
- antireflection film
- less
- film
- paint
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/006—Anti-reflective coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/66—Additives characterised by particle size
- C09D7/67—Particle size smaller than 100 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/70—Additives characterised by shape, e.g. fibres, flakes or microspheres
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B2207/00—Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
- G02B2207/107—Porous materials, e.g. for reducing the refractive index
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
前記中空粒子の平均粒子径が15nm以上100nm以下であり、前記膜はボイドを有しており、前記バインダーに含有されている断面面積が1000nm2以上のボイドの個数が、バインダーの断面面積1μm2に対して10個/μm2以下であり、前記膜が有しているボイドの前記膜に対する含有量は5体積%以上25体積%以下であることを特徴とする。
中空シリカスラリーIPA分散液(日揮触媒化成株式会社製 スルーリア1110、平均フェレ径55nm・固形分濃度20.5wt%、)18.0gにシランアルコキシ加水分解縮合物A(ハネウェル社製 T−111 固形分濃度4.5wt%)27.4gを混合した塗料原液Aを作製した。
φ39mm厚さ2mmのガラス基板BK7上に、各塗料を0.2ml滴下し、スピンコーターで成膜を行った。それぞれの塗料における膜厚を115nmになるように各塗料に対して回転速度を変え成膜を行った。比較実験例1の塗料では5000rpm、実験例1は3000rpm、実験例2は1500rpmで成膜を行い、どの塗料においても30秒間回転させ成膜を行った。成膜温度は23℃であった。その後、成膜を行った基板を200℃、1hrで焼成を行い、本実施例の反射防止膜付き基板を得た。
実施例において作製された反射防止膜付き基板をレンズ反射率測定機(オリンパス株式会社製 USPM−RU)を用いて波長400nmから700nmの反射率を測定し、波長550nmの反射率より屈折率を求めた結果、どの反射防止膜においても屈折率は1.27であった。また、コットン布(旭化成ケミカルズ社製 クリント)で300g/cm2の荷重をかけ、20回往復させた後、同様に屈折率の測定を行った結果、屈折率は1.27であり、屈折率の変動はなく、また傷も観察されなかった。
中空シリカスラリーIPA分散液(日揮触媒化成株式会社製 スルーリア1110、平均フェレ径55nm・固形分濃度20.5wt%)18.0gに、シランアルコキシ加水分解縮合物B(ハネウェル社製 T−214 固形分濃度4.8wt%)25.7gを混合した塗料原液Bを作製した。
φ39mm厚さ2mmのガラス基板BK7上に本実施例の塗料を0.2ml滴下し、スピンコーターで成膜を行った。成膜温度は23℃であった。両塗料とも回転速度3000rpmで30秒間回転を行った後、200℃で1hr焼成を行い、本実施例の実験例3と比較実験例2の反射防止膜を得た。
本実施例において作製された反射防止膜つき基板を実施例1と同様に屈折率と耐摩耗性の評価を行った結果、初期の屈折率は1.27であり、耐摩耗性試験後の屈折率にも変動はなく、また傷も観察されなかった。
本比較例では塗料に含まれるバインダーにメタクリル樹脂を用いて評価を行った。
中空シリカスラリーMIBK分散液(日揮触媒化成株式会社製 スルーリア2320、平均フェレ径55nm・固形分濃度20.5wt%)18.0gにメチルイソブチルケトン(キシダ化学株式会社製 特級)7gを加え希釈を行ったものにメタクリル樹脂(旭化成ケミカルズ株式会社製 デルペット70NH)1.2gを混合した塗料原液を作製した。次にこの塗料原液10gをメチルイソブチルケトン(キシダ化学株式会社製 特級)20gで希釈した。前記により得られた塗料を実施例1と同様に粘度(測定温度23℃)を測定し結果、3.5mPa・sであった。
φ39mm厚さ2mmのガラス基板BK7上に、本比較例の塗料を0.2ml滴下し、スピンコーターで成膜を行った。成膜温度は23℃であった。回転速度3000rpmで30秒間回転を行った後、120℃で1hr焼成を行い、本比較例の反射防止膜を得た。
本比較例において作製された反射防止膜つき基板を実施例1と同様に屈折率と耐摩耗性の評価を行った結果、初期の屈折率は1.28であり、耐摩耗性試験後の屈折率にも変動はなく、また傷も観察されなかった。
中空シリカスラリーIPA分散液(日揮触媒化成株式会社製 スルーリア1110、平均フェレ径55nm・固形分濃度20.5wt%)12.0gに、中実シリカIPA分散液(日産化学工業株式会社製 IPA−ST 固形分濃度20wt%)を6.0gと、シランアルコキシ加水分解縮合物(ハネウェル社製 T−111 固形分濃度4.5wt%)27.4gを混合した塗料原液Eを作製した。次にこの塗料原液E10gを1−メトキシ−2−プロパノール(関東化学製 鹿特級)20gで希釈した。前記により得られた塗料(固形分濃度3.6wt%)を実施例1と同様に粘度(測定温度23℃)を測定した結果1.8mPa・sであった。
φ39mm厚さ2mmのガラス基板BK7上に本実施例の塗料を0.2ml滴下し、スピンコーターで成膜を行った。成膜温度は23℃であった。回転速度3000rpmで30秒間回転を行った後200℃で1hr焼成を行い、本実施例の反射防止膜を得た。
本実施例において作製された反射防止膜つき基板を実施例1と同様に屈折率と耐摩耗性の評価を行った結果、初期の屈折率は1.28であり、耐摩耗性試験後の屈折率にも変動はなく、また傷も観察されなかった。
12 バインダー
13 ボイド
14 空孔
15 シェル
16 基板
Claims (7)
- 中空粒子をバインダーで結合した膜であって、
前記中空粒子の平均粒子径が15nm以上100nm以下であり、
前記膜はボイドを有しており、前記バインダーに含有されている断面面積が1000nm2以上のボイドの個数が、バインダーの断面面積1μm2に対して10個/μm2以下であり、
前記膜が有しているボイドの前記膜に対する含有量は5体積%以上25体積%以下であることを特徴とする反射防止膜。 - 前記中空粒子のシェルの厚みが平均粒子径の10%以上50%以下であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
- 少なくとも中空粒子と、バインダーと、溶剤を含有した塗料であり、前記塗料の全固形分に対して、前記中空粒子の含有量が50wt%以上85wt%以下で、前記バインダーの含有量が15wt%以上40wt%以下であり、成膜温度における粘度が1.3mPa・s以上2mPa・s以下である前記塗料を基板上に塗工して成膜した後、乾燥する工程を有することを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜の製造方法。
- 前記バインダーがシランアルコキシ加水分解縮合物であることを特徴とする請求項3に記載の反射防止膜の製造方法。
- 前記成膜温度が20℃以上30℃以下であることを特徴とする請求項3または4に記載の反射防止膜の製造方法。
- 前記塗料に中実の金属酸化物粒子を含有することを特徴とする請求項3乃至5のいずれかの項に記載の反射防止膜の製造方法。
- 前記塗料をスピンコートで成膜することを特徴とする請求項3乃至6のいずれかの項に記載の反射防止膜の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010257148A JP5340252B2 (ja) | 2010-11-17 | 2010-11-17 | 反射防止膜及びその製造方法 |
US13/882,050 US9798045B2 (en) | 2010-11-17 | 2011-10-05 | Antireflection film and method of producing the same |
EP11779236.6A EP2632993B1 (en) | 2010-11-17 | 2011-10-05 | Antireflection film and method of producing the same |
PCT/JP2011/073461 WO2012066871A1 (en) | 2010-11-17 | 2011-10-05 | Antireflection film and method of producing the same |
CN201180054659.XA CN103210045B (zh) | 2010-11-17 | 2011-10-05 | 减反射膜及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010257148A JP5340252B2 (ja) | 2010-11-17 | 2010-11-17 | 反射防止膜及びその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012108320A JP2012108320A (ja) | 2012-06-07 |
JP2012108320A5 JP2012108320A5 (ja) | 2013-02-21 |
JP5340252B2 true JP5340252B2 (ja) | 2013-11-13 |
Family
ID=44908050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010257148A Active JP5340252B2 (ja) | 2010-11-17 | 2010-11-17 | 反射防止膜及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9798045B2 (ja) |
EP (1) | EP2632993B1 (ja) |
JP (1) | JP5340252B2 (ja) |
CN (1) | CN103210045B (ja) |
WO (1) | WO2012066871A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5913133B2 (ja) * | 2010-12-24 | 2016-04-27 | 宇部エクシモ株式会社 | 反射防止材料 |
JP6124624B2 (ja) * | 2013-03-06 | 2017-05-10 | キヤノン株式会社 | 光学素子およびそれを有する光学系 |
JP2014228614A (ja) * | 2013-05-21 | 2014-12-08 | 豊田通商株式会社 | 光透過性組成物及びそれを用いた光機能部材並びに光透過性組成物の製造方法 |
JP6124711B2 (ja) * | 2013-07-03 | 2017-05-10 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜及びそれを有する光学素子並びに光学系 |
CN103756395A (zh) * | 2014-01-22 | 2014-04-30 | 上海赛肯森材料科技有限公司 | 用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子及其制备方法和用途 |
JP6274924B2 (ja) * | 2014-03-14 | 2018-02-07 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜、光学部材及び光学部材の製造方法 |
WO2015190374A1 (ja) * | 2014-06-10 | 2015-12-17 | 富士フイルム株式会社 | 光学機能層形成用組成物、これを用いた固体撮像素子およびカメラモジュール、ならびに光学機能層のパターン形成方法、固体撮像素子及びカメラモジュールの製造方法 |
JP6532228B2 (ja) | 2014-12-10 | 2019-06-19 | キヤノン株式会社 | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
CN105113247B (zh) * | 2015-08-26 | 2017-07-07 | 浙江理工大学 | 一种乳胶粒减反射的涂层液及其制备方法和应用 |
JP6723705B2 (ja) * | 2015-08-31 | 2020-07-15 | キヤノン株式会社 | 光学部材および撮像機器 |
JP6758901B2 (ja) | 2016-05-02 | 2020-09-23 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜、並びにそれを用いた光学用部材および光学機器 |
CN107632330B (zh) * | 2016-07-14 | 2019-11-01 | 株式会社Lg化学 | 防反射膜 |
CN107652718B (zh) * | 2017-09-27 | 2020-03-31 | 广东星星光电科技有限公司 | 一种减反射镀膜液及其制备方法 |
JP7118615B2 (ja) * | 2017-10-12 | 2022-08-16 | キヤノン株式会社 | 光学素子、光学系および撮像装置 |
CN109188571B (zh) * | 2018-08-14 | 2019-12-03 | 西北工业大学 | 一种中空闭孔SiO2减反射膜及其制备方法 |
KR102551221B1 (ko) * | 2018-09-03 | 2023-07-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광학 부재 및 이를 포함하는 표시 장치 |
US20230110637A1 (en) * | 2020-02-28 | 2023-04-13 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Low-refractive-index film, laminate, optical element, windbreak material, and display device |
CN112175479B (zh) * | 2020-09-28 | 2021-07-09 | 厦门大学 | 一种激光回归反射无人汽车涂层的制备方法 |
JP6972271B1 (ja) * | 2020-10-09 | 2021-11-24 | キヤノン株式会社 | 透光部材およびシールド |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6210858B1 (en) * | 1997-04-04 | 2001-04-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-reflection film and display device using the same |
JP4046921B2 (ja) | 2000-02-24 | 2008-02-13 | 触媒化成工業株式会社 | シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材 |
JP4457557B2 (ja) | 2000-08-30 | 2010-04-28 | 株式会社ニコン | 光学薄膜の形成方法及び光学薄膜を備えた光学素子 |
TW574110B (en) * | 2001-10-25 | 2004-02-01 | Matsushita Electric Works Ltd | Composite thin film holding substrate, transparent conductive film holding substrate, and panel light emitting body |
JP3899011B2 (ja) * | 2001-10-25 | 2007-03-28 | 松下電工株式会社 | 面発光体 |
AU2003259447A1 (en) * | 2002-10-11 | 2004-05-04 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Electric device comprising phase change material |
JP2005134609A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法並びに偏光板及び表示装置 |
CN101002113B (zh) * | 2004-08-04 | 2011-01-19 | 富士胶片株式会社 | 制造光学薄膜的方法 |
JP5047488B2 (ja) | 2004-11-05 | 2012-10-10 | ペンタックスリコーイメージング株式会社 | シリカエアロゲル膜の製造方法 |
US20070103786A1 (en) * | 2005-11-07 | 2007-05-10 | Fujifilm Corporation | Optical film, anti-reflection film, polarizing plate and image display device |
US20070116902A1 (en) * | 2005-11-18 | 2007-05-24 | Fujifilm Corporation | Optical film, anti-reflection film, polarizing plate and image display device |
CN101529278A (zh) * | 2006-09-29 | 2009-09-09 | E.I.内穆尔杜邦公司 | 包含无纺片材的漫反射器 |
JP5157143B2 (ja) | 2006-12-01 | 2013-03-06 | 旭硝子株式会社 | 反射防止膜付き基体 |
JP2009073170A (ja) | 2007-08-31 | 2009-04-09 | Kaneka Corp | 中空粒子からなる被膜を有する被膜付基材 |
WO2009004957A1 (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-08 | Toray Industries, Inc. | ディスプレイ用フィルター |
JP5241199B2 (ja) * | 2007-10-29 | 2013-07-17 | 日揮触媒化成株式会社 | 繊維状中空シリカ微粒子の製造方法および反射防止被膜付基材 |
MY192479A (en) * | 2008-10-17 | 2022-08-23 | Showa Denko Materials Co Ltd | Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member |
JP2010122603A (ja) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 低屈折率層形成用組成物、光学積層体及び画像表示装置 |
JP5251701B2 (ja) | 2009-04-23 | 2013-07-31 | カシオ計算機株式会社 | サーバ装置、サーバベース・コンピューティング・システム、およびサーバ制御プログラム |
-
2010
- 2010-11-17 JP JP2010257148A patent/JP5340252B2/ja active Active
-
2011
- 2011-10-05 WO PCT/JP2011/073461 patent/WO2012066871A1/en active Application Filing
- 2011-10-05 CN CN201180054659.XA patent/CN103210045B/zh active Active
- 2011-10-05 EP EP11779236.6A patent/EP2632993B1/en active Active
- 2011-10-05 US US13/882,050 patent/US9798045B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130222916A1 (en) | 2013-08-29 |
CN103210045B (zh) | 2015-05-20 |
EP2632993A1 (en) | 2013-09-04 |
JP2012108320A (ja) | 2012-06-07 |
US9798045B2 (en) | 2017-10-24 |
WO2012066871A1 (en) | 2012-05-24 |
CN103210045A (zh) | 2013-07-17 |
EP2632993B1 (en) | 2020-12-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5340252B2 (ja) | 反射防止膜及びその製造方法 | |
JP5930897B2 (ja) | 光学部材の製造方法および光学部材 | |
JP6274924B2 (ja) | 反射防止膜、光学部材及び光学部材の製造方法 | |
JP4544952B2 (ja) | 反射防止積層体 | |
CN103518148B (zh) | 包含大粒度热解法二氧化硅的抗反射膜 | |
JP2017201338A (ja) | 反射防止膜、並びにそれを用いた光学用部材および光学機器 | |
JP6723705B2 (ja) | 光学部材および撮像機器 | |
JP7229691B2 (ja) | 光学膜とその製造方法 | |
WO2010134457A1 (ja) | 光学製品及び眼鏡プラスチックレンズ | |
JP2013033124A (ja) | 光学素子、それを用いた光学系および光学機器 | |
JP2017167271A (ja) | 光学部材及び光学部材の製造方法 | |
JP2018159892A (ja) | 撥水性反射防止膜付きレンズ及びその製造方法 | |
JP7118614B2 (ja) | 光学部材、撮像装置、及び光学部材の製造方法 | |
Chantarachindawong et al. | Hard coatings for CR-39 based on Al 2 O 3–ZrO 2 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (GPTMS) and tetraethoxysilane (TEOS) nanocomposites | |
US20160124121A1 (en) | Optical member and image pickup apparatus | |
JP2021157047A (ja) | 外殻の内側に空洞と内部粒子とを有する粒子、該粒子を含む塗布液、及び該粒子を含む透明被膜付基材 | |
KR101734559B1 (ko) | 디스플레이용 기판 부재 및 이의 제조 방법 | |
JP2017203910A (ja) | 光学膜 | |
JP2015099333A (ja) | 反射防止膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121210 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121228 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20121228 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20130131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130408 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130709 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130806 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5340252 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |