JP5930897B2 - 光学部材の製造方法および光学部材 - Google Patents
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Description
反射防止膜の最表層に用いられる材料には屈折率が低く、透明な材料である、シリカやフッ化マグネシウム、フッ化カルシウムなどの無機材料やシリコーン樹脂や非晶質のフッ素樹脂などの有機材料を用いることが知られている。
近年、更に反射率を低く抑えるために、空気の屈折率1.0を利用する低屈折膜を反射防止膜に用いることが知られている。シリカやフッ化マグネシウムの層内に空隙を形成することによって屈折率を下げることができる。例えば、屈折率1.38のフッ化マグネシウムの薄膜内に30%(体積)の空隙を設けることによって屈折率を1.27まで下げることが可能となる。
空隙を形成する方法として、シリカやフッ化マグネシウム微粒子をバインダーとともに成膜し、微粒子間に空隙を形成し、低屈折率の反射防止膜を得ることが知られている(特許文献2)。
また、その他の空隙を形成する方法としては、中空シリカ粒子を用い、粒子内に空隙を形成する方法が知られている。この中空粒子を用いることによって反射防止膜を形成する方法である(特許文献3)。
一方、反射防止膜のような光学部材に中空シリカ粒子を用いた場合、透明性や外観に問題が発生することが知られている。中空シリカ粒子と混合する有機溶剤や有機高分子との親和性が悪く、塗料化時に凝集し、散乱を発生するためである。この課題を解決するために有機高分子を含まない塗料によって膜を形成し、凝集を抑制することによって散乱のない低屈折膜を用いた反射防止膜を形成する方法が知られている(特許文献4)。
前記基材表面に対して平行方向に整列された粒子11が複数段積み重なって形成された層を有し、前記層は、前記粒子11と前記粒子11の間にバインダー12が充填されている。粒子11はバインダー12で結合されており、バインダー12には複数の空隙(ボイド)13が形成されている。16は基材である。
の範囲であることが好ましい。
の膜厚周期でより充填した状態となる。1層目は粒子が球形であるため光学有効膜厚としては実験的に3/5a程度となる。そのため、2層目以降の粒子が最も充填した状態の膜厚としては、
となり、最も1000nm2以上のボイドが発生しにくく、散乱が小さくなる。そのため、(式1)の範囲の膜厚で用いることがより散乱を小さくできるため好ましい。
基材上に粒子と分散媒による分散液を塗工した後、バインダーを形成するために必要な成分を含有する溶液を塗工し、乾燥させて光学部材を製造した。実施例1〜3ではバインダーを形成するために必要な成分を含有する溶液の固形分濃度を変えて評価を行った。
実施例1から3についてそれぞれ以下のように調製した。
中空シリカスラリーIPA分散液(日揮触媒化成株式会社製 スルーリア1110、平均フェレ径55nm・固形分濃度20.5wt%、)6.0gに1−メトキシ−2−プロパノール(関東化学製 鹿特級)28.1gで希釈を行った。それにより、分散液(固形分濃度3.6wt%)を調整した。
シランアルコキシ加水分解縮合物(ハネウェル社製 アキュグラスT−11(111) 固形分濃度4.5wt%)6gを1−メトキシ−2−プロパノール(関東化学製 鹿特級)29.5g(固形分濃度0.76wt% 実施例1)、48.0g(固形分濃度0.5wt% 実施例2)、21.0g(固形分濃度1.0wt% 実施例3)でそれぞれ希釈を行なった。それにより各溶液を調整した。前記カッコ内の固形分濃度の数値は、調整した各溶液の濃度を表す。
φ39mm厚さ2mmのガラス基材BK7上に、本実施例の、粒子と分散媒による分散液を0.2ml滴下し、スピンコーターを用いて3000rpmで30秒間の条件によって成膜を行った。粒子と分散媒による分散液が成膜された基材に各実施例のバインダーを形成するために必要な成分を含有する溶液を0.2ml滴下し、スピンコーターを用いて3000rpmで30秒間の条件によって成膜を行った。その後、成膜を行った基材を200℃、1hrで焼成を行い、膜を形成し、実施例1から3の光学部材を得た。
実施例1〜3において作製された光学部材をレンズ反射率測定機(オリンパス株式会社製 USPM−RU)を用いて波長400nmから700nmの反射率を測定し、基材の屈折率と最小反射率となる波長より屈折率を求めた。初期の屈折率は実施例1では1.25、実施例2では1.23、実施例3では1.27であった。
本比較例では塗料の経時変化により分散状態の違う塗料を用いて作製した2次元充填度の異なる反射防止膜ついて評価を行った。
中空シリカスラリーIPA分散液(日揮触媒化成株式会社製 スルーリア1110、平均フェレ径50nm・固形分濃度20.5wt%、)18.0gにシランアルコキシ加水分解縮合物A(ハネウェル社製 アキュグラスT−11(111) 固形分濃度4.5wt%)13.7gを混合した塗料原液Bを作製した。
φ39mm厚さ2mmのガラス基材BK7上に、塗料を0.2ml滴下し、スピンコーターを用いて3000rpmで30秒間の条件によって成膜を行った。その後、成膜を行った基材を200℃、1hrで焼成を行い、膜を形成し、比較例1の光学部材を得た。
比較例1において作製された光学部材を実施例1と同様に屈折率と耐摩耗性の評価を行った結果、初期の屈折率は1.23であり、耐摩耗性試験後の屈折率にも変動はなく、また傷も観察されなかった。
粒子と分散媒による分散液とバインダーを形成するために必要な成分を含有する溶液をそれぞれ以下のように調製した。
中空シリカスラリーIPA分散液(日揮触媒化成株式会社製 スルーリア1110、平均フェレ径50nm・固形分濃度20.5wt%、)6.0gに2−n−ブトキシエタノール(キシダ化学製 特級)22gで希釈を行なった。それにより粒子と分散媒による分散液(固形分濃度4.4wt%)を調整した。
シランアルコキシ加水分解縮合物(ハネウェル社製 アキュグラスT−11(111) 固形分濃度4.5wt%)6gを2−n−ブトキシエタノール(キシダ化学製 特級)29.5gで希釈を行い、溶液(固形分濃度0.76wt%)を調整した。
φ39mm厚さ2mmのガラス基材BK7上に、粒子と分散媒による分散液を調製10分後(実施例4)、3時間後(実施例5)、4℃で1週間放置後(実施例6)、の各分散液を室温、液温とも23℃で0.2ml滴下し、スピンコーターを用いて2000rpmで90秒間の条件によって成膜を行った。この各分散液各粒子と分散媒による分散液が成膜された基材に、調製後3時間放置したバインダーを形成するために必要な成分を含有する溶液を0.2ml滴下し、スピンコーターを用いて2000rpmで90秒間の条件によって成膜を行った。その後、成膜を行った基材を200℃、1hrで焼成を行い、膜を形成し、実施例4、5、6の光学部材を得た。また、分散液を調整後4℃で1ヶ月保存した液(比較例2)も作製した。この液についても室温、液温とも23℃で0.2ml滴下し、スピンコーターを用いて2000rpmで90秒間の条件によって成膜を行った。この液が成膜された基材に、調製後3時間放置したバインダーを形成するために必要な成分を含有する溶液を0.2ml滴下し、スピンコーターを用いて2000rpmで90秒間の条件によって成膜を行った。その後、成膜を行った基材を200℃、1hrで焼成を行い、膜を形成し、比較例2の光学部材を得た。
実施例4〜6、比較例2において作製された光学部材を実施例1と同様に屈折率と耐摩耗性の評価を行った結果、初期の屈折率は1.23であり、耐摩耗性試験後の屈折率にも変動はなく、また傷も観察されなかった。
実施例7〜24
本実施例では粒子と分散媒による分散液の固形分濃度とスピンコート条件を変更し、膜厚の異なる反射防止膜ついて評価を行った。
中空シリカスラリーIPA分散液(日揮触媒化成株式会社製 スルーリア1110、平均フェレ径50nm・固形分濃度20.5wt%、)6.0gに2−n−ブトキシエタノール(キシダ化学製 特級)で希釈を行なった。それにより固形分濃度3.6wt%、3.8wt%、4.0wt%、4.2wt%、4.4wt%の分散液を調整した。
シランアルコキシ加水分解縮合物(ハネウェル社製 アキュグラスT−11(111) 固形分濃度4.5wt%)6gを2−エチル−1−ブタノール(東京化成工業(株)製 EP)27.8gで希釈を行い、固形分濃度0.8wt%の溶液を調整した。
膜厚の異なる反射防止膜を得るために分散液の濃度とスピンコート回転数を変えて、その他は実施例1と同じように、実施例7〜24を行った。各実施例の分散液濃度及び、スピンコート回転数を表1に示す。
本実施例において作製された光学部材を実施例1と同様にレンズ反射率測定機(オリンパス株式会社製 USPM−RU)を用いて波長400nmから700nmの反射率を測定し、基材の屈折率と最小反射率となる波長より屈折率及び膜厚を求めた。また耐摩耗性、散乱についても実施例1と同様に評価を行った。これらの結果を表2に示す。
12 バインダー
13 ボイド
14 空孔
15 シェル
16 基材
Claims (19)
- 基材上に、粒子と分散媒を含有しバインダーを形成する成分を含有しない分散液を塗工する工程と、
前記分散液を塗工する工程の後に、バインダーを形成する成分を含有し前記粒子を含有しない溶液を塗工して、先に塗工された分散液に含まれる粒子の間に前記溶液を浸透させて前記粒子間にバインダーが充填された単一の層を形成する工程と、
前記層を乾燥させて反射防止膜を作製する工程と、を有することを特徴とする光学部材の製造方法。 - 前記バインダーを形成する成分はシランアルコキシ加水分解縮合物であることを特徴とする請求項1記載の光学部材の製造方法。
- 前記分散液および前記溶液は、スピンコート法で塗工されることを特徴とする請求項1または2記載の光学部材の製造方法。
- 前記分散媒は、1−メトキシ−2−プロパノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、およびブチルセロソルブのいずれかを含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学部材の製造方法。
- 前記粒子は、シリカを含む中空粒子であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光学部材の製造方法。
- 前記分散液を塗工する工程は、前記基材に設けられた単層又は複数層を介して基材上に塗工されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光学部材の製造方法。
- 前記基材に設けられた前記単層又は前記複数層の層は、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、アルミナ、シリカ、またはフッ化マグネシウムを有することを特徴とする請求項6記載の光学部材の製造方法。
- 基材上に反射防止膜が形成された光学部材であって、
前記反射防止膜は、粒子間にバインダーが充填された単一の層を有し、前記バインダーに覆われていない粒子の表面が前記単一の層の表面に出ている部分があり、前記層は、前記粒子の2次元充填度が0.8以上0.88以下であることを特徴とする光学部材。 - 前記バインダーは空隙を含み、前記空隙の、前記層に対する体積比は、5体積%以上25体積%以下であることを特徴とする請求項8に記載の光学部材。
- 前記粒子は、シリカを含む中空粒子であることを特徴とする請求項8又は9に記載の光学部材。
- 前記層の厚さdは、前記中空粒子の平均粒子半径をaとした時、下記式を満たすことを特徴とする請求項10に記載の光学部材。
- 前記層の厚さは、80nm以上200nm以下であることを特徴とする請求項10または11記載の光学部材。
- 前記中空粒子の平均粒子径が15nm以上100nm以下であることを特徴とする請求項10乃至12のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記中空粒子のシェルの厚みが平均粒子径の10%以上50%以下であることを特徴とする請求項請求項10乃至13のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記反射防止膜は、前記基材に設けられた単層又は複数層を介して基材上に形成されていることを特徴とする請求項10乃至14のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記反射防止膜上に、撥水性又は撥油性を有する層が単層又は複数層設けられたことを特徴とする請求項10乃至15のいずれか1項記載の光学部材。
- 前記反射防止膜は、前記バインダーを15質量%以上50質量%以下含有し、前記中空粒子を50質量%以上85重量%以下含有していることを特徴とする請求項8乃至16のいずれか一項に記載の光学部材。
- 前記反射防止膜の屈折率が1.23以上1.27以下であることを特徴とする請求項8乃至17のいずれか一項に記載の光学部材。
- 前記粒子は、中空粒子であり、
前記中空粒子の平均粒子径が15nm以上100nm以下であり、
前記反射防止膜は、前記バインダーを15質量%以上50質量%以下含有し、前記中空粒子を50質量%以上85重量%以下含有し、
前記反射防止膜の屈折率が1.23以上1.27以下であることを特徴とする請求項8に記載の光学部材。
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