JP2015162506A - 撮像素子実装用基板及び撮像装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 金属板の上面で反射又は乱反射が発生することを抑制することができる撮像素子実装用基板を提供すること。【解決手段】 上面の中央部に撮像素子実装部11を有する金属板4と、金属板4の上面の外周部に接合された絶縁層から成る枠体2と、を有しており、金属板4の上面は、撮像素子実装部11の外周縁から枠体2の内壁に至る第1領域5を有しており、第1領域5に設けられた反射防止層7をさらに有している撮像素子実装用基板1である。反射防止層7により金属板4の上面において反射又は乱反射が発生することを抑制することができる。【選択図】図1

Description

本発明は、例えばCCD(Charge Coupled Device)型またはCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)型等の撮像素子が実装される撮像素子実装用基板お
よび撮像装置に関するものである。
従来からCCD型またはCMOS型等の撮像素子を撮像素子実装用基板に実装した撮像装置が知られている。このような撮像装置の一つに、複数の絶縁層から成る枠体と枠体の下面に接合された金属板とを有し、枠体の上面に撮像素子接続用パッドを有する撮像素子実装用基板とその上面に光学フィルタ、又は透明な物質から成る蓋体等を設けた撮像装置が知られている。このような撮像装置は、金属板上面および枠体内壁で形成された凹部に撮像素子が収納され、枠体上面や側面に設けられた外部回路接続用電極に外部回路等が電気的に接続される。
特開2006−303400
しかしながら、撮像素子実装用基板を構成する枠体の下面に金属板を設け、また金属板の上面に撮像素子を実装することで、撮像装置を使用した際に入射する光の一部が金属板の上面で反射又は乱反射を起こしやすかった。この反射又は乱反射した光が撮像素子の受光面に到達することで、画像にフレア等のノイズが発生し画質が低下することが懸念されていた。また、一般的に枠体と金属板との材料が異なるため、一括形成しての作成が困難となる。そのため、枠体と金属板との接合箇所から入射する光も反射又は乱反射の一因として懸念されていた。
本発明の目的は、撮像素子実装用基板に金属板を設けたとしても、金属板の上面で反射又は乱反射が発生することを抑制することができる撮像素子実装用基板および撮像装置を提供することにある。
本発明の一つの態様に係る撮像素子実装用基板は、上面の中央部に撮像素子実装部を有する金属板と、該金属板の上面の外周部に接合された絶縁層から成る枠体と、を有しており、前記金属板の上面は、前記撮像素子実装部の外周縁から前記枠体の内壁に至る第1領域を有しており、該第1領域に設けられた反射防止層をさらに備えている。
本発明の一つの態様に係る撮像装置は、上記構成の撮像素子実装用基板と、前記金属板の前記撮像素子実装部に、接着材を介して実装された撮像素子と、を備えている。
本発明の一つの態様に係る撮像素子実装用基板によれば、金属板の上面は、撮像素子実装部の外周縁から前記枠体の内壁に至る第1領域を有しており、該第1領域に設けられた反射防止層をさらに備えている。これにより、光の反射や乱反射を第1領域に設けられた反射防止層にて抑制することができる。従って、余分な光が撮像素子の受光部に入射することを抑制し、画像にフレア等のノイズが発生する事を抑制することができる。
本発明の一つの態様に係る撮像装置は、上述の撮像素子実装用基板を有するので画像にフレア等のノイズが発生する事を抑制することができる。
(a)は、本発明の第1の実施形態に係る撮像素子実装用基板および撮像装置の外観を示す上面図であり、(b)は、(a)のA−A線に対応する縦断面図である。 (a)は、本発明の第2の実施形態に係る撮像素子実装用基板、および撮像装置の外観を示す上面図であり、(b)は、(a)のA−A線に対応する縦断面図である。 (a)は、本発明の第3の実施形態に係る撮像素子実装用基板、および撮像装置の外観を示す上面図であり、(b)は、(a)のA−A線に対応する縦断面図である。 (a)は、本発明の第4の実施形態に係る撮像素子実装用基板、および撮像装置の外観を示す上面図であり、(b)は、(a)のA−A線に対応する縦断面図である。 は、本発明の第4の実施形態の撮像素子実装用基板を有する撮像モジュールを示す縦断面図である。 (a)は、本発明の第5の実施形態に係る撮像素子実装用基板、および撮像装置の外観を示す上面図であり、(b)は、(a)のA−A線に対応する縦断面図である。
以下、本発明のいくつかの例示的な実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の説明では、撮像素子実装用基板に撮像素子が実装され、撮像素子実装用基板の上面に蓋体が接合された構成を撮像装置とする。撮像素子実装用基板および撮像装置は、いずれの方向が上方若しくは下方とされてもよいものであるが、便宜的に、直交座標系xyzを定義するとともに、z方向の正側を上方として、上面若しくは下面の語を用いるものとする。
(第1の実施形態)
図1を参照して本発明の第1の実施形態における撮像装置21、及び撮像素子実装用基板1について説明する。本実施形態における撮像装置21は、撮像素子実装用基板1と撮像素子10とを備えている。
撮像素子実装用基板1は、上面の中央部に撮像素子実装部11を有する金属板4と、金属板4の上面の外周部に接合された絶縁層から成る枠体2と、を有しており、金属板4の上面は、撮像素子実装部11の外周縁から枠体2の内壁に至る第1領域5を有しており、第1領域5に設けられた反射防止層7をさらに有している。
撮像素子実装用基板1は、絶縁層から成る枠体2を有している。
図1に示す例では、絶縁層からなる枠体2は貫通孔を有する第1の枠体2bと第1の枠体2bよりも小さい貫通孔を有する第2の枠体2cとを有している。第2の枠体2cの上面に第1の枠体2bが設けられており、第1の枠体2bの貫通孔と第2の枠体2cの貫通孔とは連結し、枠体2の開口部2aを形成している。また、第1の枠体2bの内側側面と第2の枠体2cの上面とによって段差部が形成されており、この段差部に撮像素子接続用パッド3が設けられている。
枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cの材料は例えば、電気絶縁性セラ
ミックス、又は樹脂(プラスティックス)等が使用される。
枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cの材料として使用される電気絶縁性セラミックスとしては例えば、酸化アルミニウム質焼結体,ムライト質焼結体,炭化珪素質焼結体,窒化アルミニウム質焼結体,窒化珪素質焼結体,又はガラスセラミックス焼結体等が挙げられる。
枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cの材料として使用される樹脂としては例えば、エポキシ樹脂,ポリイミド樹脂,アクリル樹脂,フェノール樹脂,又はフッ素系樹脂等が挙げられる。フッ素系樹脂としては例えば、ポリエステル樹脂、又は四フッ化エチレン樹脂が挙げられる。
図1に示す例において、枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cは、前述した材料から成る絶縁層を複数上下に積層して形成されている。
枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cは、図1に示すように2層の絶縁層から形成されていても良いし、単層または3層以上の絶縁層から形成されていても良い。図1に示す例では、枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cはそれぞれ2層の絶縁層から形成されており、前述した段差部3には、複数の撮像素子接続用パッド3が設けられている。
枠体2の内部には、配線導体が設けられていても良いし、枠体2は、表面に露出した配線導体を有していても良い。また、その配線導体によって、外部回路接続用電極と撮像素子接続用パッド3とが電気的に接続されていても良い。また、枠体2を形成する第1の枠体2bおよび第2の枠体2cの内部に設けられたそれぞれの配線導体が、第1の枠体2bおよび第2の枠体2cの表面に露出した配線導体等によってそれぞれ電気的に接続されていても良い。
また、枠体2は上面もしくは側面に外部回路接続用電極が設けられていても良い。外部回路接続用電極は例えば、撮像装置21と外部回路基板又は外部装置等と電気的に接続する為に設けられる。
撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極及び配線導体は、枠体2が電気絶縁性セラミックスから成る場合には、タングステン(W),モリブデン(Mo),マンガン(Mn),銀(Ag)若しくは銅(Cu)またはこれらから選ばれる少なくとも1種以上の金属材料を含有する合金等から成る。また、撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極及び配線導体は、枠体2が樹脂から成る場合には、銅(Cu),金(Au),アルミニウム(Al),ニッケル(Ni),クロム(Cr),モリブデン(Mo)若しくはチタン(Ti)またはこれらから選ばれる少なくとも1種以上の金属材料を含有する合金等から成る。
撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極及び配線導体の露出表面に、めっき層が設けられることが好ましい。この構成によれば、撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、および配線導体の露出表面を保護して酸化を防止できる。また、この構成によれば、撮像素子接続用パッド3と撮像素子10とのワイヤボンディング等を介した電気的接続、又は外部回路接続用電極と外部回路基板との電気的接続を良好にできる。めっき層は、例えば、厚さ0.5〜10μmのNiめっき層を被着させるか、またはこのNiめっき層および厚さ0.5〜3μmの金(Au)めっき層を順次被着させてもよい。
撮像素子実装用基板1は、上面の中央部に撮像素子実装部11を有する金属板4を有し
ている。また、枠体2が金属板4の上面の外周部に接合されている。
図1に示す例では、撮像素子10が撮像素子実装部11に実装されており、この撮像素子10は、枠体2の内壁面と金属板4の上面とで形成される凹部に収納されている。
図1に示す例のように、金属板4の外周縁は平面視において、枠体2の外周縁よりも内側に位置していても良いし、平面視において枠体2の外周縁と重なる位置又は、枠体2の外周縁よりも外側に位置していても良い。また、金属板4の外周縁が枠体2の外周縁よりも外側に位置する場合、金属板4は、枠体2の外側に位置する外側領域に貫通孔または切り欠きを有していても良い。なお、貫通孔または切り欠きは、例えば、撮像装置21と外部装置とを固定する際の孔として用いられる。
金属板4は、例えば、枠体2が電気絶縁性セラミックスから成る場合、ステンレス(SUS)、Fe−Ni−Co合金、42アロイ,銅(Cu),又は銅合金等から成る。
また例えば、枠体2が約5×10−6/℃〜10×10−6/℃の熱膨張率を有する酸化アルミニウム質焼結体である場合、金属板4は約10×10−6/℃の熱膨張率を有するステンレス(SUS410)であることが好ましい。この場合には、撮像装置21の作動時に枠体2と金属板4との熱収縮差・熱膨張差が小さくなるので、枠体2にかかる熱応力を緩和することができる。
図1に示す例において金属板4は、ろう材、熱硬化性樹脂又は低融点ガラス等からなる接着部材(図示せず)により枠体2に接合されている。熱硬化性樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂等が用いられる。接着部材として、撮像素子10の実装時又は作動時の熱によって変性しないものを用いることによって、撮像素子10の実装時又は作動時に枠体2と金属板4とが剥離することを良好に抑制することができるので好ましい。
金属板4の上面は、撮像素子実装部11の外周縁から枠体2の内壁に至る第1領域5を有しており、第1領域5に反射防止層7が設けられている。
一般的に、金属板4は絶縁層からなる枠体2と比較すると、反射率が大きい。このことから、例えば、撮像素子10の受光部から外れた光、又は枠体2と金属板4との隙間から入ってきた光が金属板4の露出した面(第1領域5)で反射又は乱反射を起こしやすい。そのため、反射又は乱反射した余分な光が受光面へ到達する可能性が高くなり、受光面へ到達した余分な光が起因して画像にフレア等のノイズが発生しやすくなる。
図1に示す例のように、第1領域5に反射防止層7が設けられていることによって、撮像装置21を使用し光をレンズから受光した場合においても、金属板4の第1領域5を反射防止層7が覆っているため、光の反射又は乱反射を低減させることが可能となる。
反射防止層7の材料は例えば熱硬化性樹脂や黒色系メッキ層等が用いられる。反射防止層7を形成する熱硬化性樹脂としては例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、等が挙げられる。なお、これらの熱硬化性樹脂において、好ましくは反射率が低い物、また黒色度が大きい物、金属板4と熱膨張係数が近い物を適宜選択し用いられる。また、反射防止層7を形成する黒色系メッキ層として例えば、黒色アルマイトや黒色クロム、黒色ニッケル、等の金属材料が挙げられる。
また、反射防止層7は全光線反射率が30%以下であることが好ましい。反射防止層7の全光線反射率を30%以下とすることで、より光の反射や乱反射を低減させることがで
きる。またさらに、枠体2の全光線反射率と同程度にすることによって、反射又は乱反射の抑制が容易となる。またさらに、反射防止層7が黒色であることにより、より光の反射又は乱反射を低減させることができる。なお、反射防止層7の全光線反射率はJIS K
7375に記載してある測定方法にて求めることができる。
また、反射防止層7は第1領域5の一部に設けられても良いし、全部に設けられていても良い。また、図1(a)に示す例のように、撮像素子10を囲むように設けられ、かつ
、一連に連結していることが好ましい。反射防止層7が撮像素子10を囲むように設けられていることで、どのような入射角の光に対しても反射又は乱反射を防止することができる。また、反射防止層7が一連に連結して設けられていることによって、反射防止層7同士の隙間を低減させることができる為、より光の反射又は乱反射を低減させることができる。
また、図1に示す例では、反射防止層7は撮像素子10の側面から離れて設けている。反射防止層7を撮像素子10の外縁部から離れて設けることによって撮像素子10を実装する際に、撮像素子10が反射防止層7に一部だけ乗り上げる等して傾くことを抑制することができる。
また、図1に示す例では、反射防止層7は枠体2と接している。反射防止層7を枠体2と接するように設けることによって、枠体2と金属板4との接合部から入射する光を吸収することができるため、より反射又は乱反射を低減させることができる。
次に、図1を用いて、撮像装置21について説明する。図1に示す例において、撮像装置21は撮像素子実装用基板1と、金属板4の撮像素子実装部11に、接着材19を介して実装された撮像素子10と、を有している。また、撮像装置21は撮像素子実装用基板1の上面に接合された蓋体12を有している。
撮像素子10は例えば、CCD型又はCMOS型等の撮像素子が用いられる。図1に示す例においては、撮像素子10の各電極は、接続部材13(ボンディングワイヤ)によって撮像素子接続用パッド3に電気的に接続されている。接続部材13は、ボンディングワイヤ以外にも金バンプまたはハンダ等が使用される。また、撮像素子10は例えば、銀エポキシや熱硬化性樹脂等の接着剤19により金属板4と接着される。
蓋体12は、例えば、ガラス又は光学フィルタ等が使用され、熱硬化性樹脂又は低融点ガラス等の接合部材14により、枠体2の上面に接合される。
本発明の撮像装置21は、上記構成の撮像素子実装用基板1と、金属平板4の撮像素子実装部11に実装された撮像素子10と、撮像素子実装用基板1の枠体2の上面に接合された蓋体12とを有していることにより、画質にフレア等のノイズが発生することを低減した撮像装置21を提供することができる。
次に、本実施形態の撮像素子実装用基板1の製造方法の一例について説明する。
なお、下記で示す製造方法の一例は、多数個取り配線基板を用いた製造方法である。
(1)まず、枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cを構成するセラミックグリーンシートを形成する。例えば、酸化アルミニウム(Al)質焼結体である枠体2を得る場合には、Alの粉末に焼結助材としてシリカ(SiO),マグネシア(MgO)またはカルシア(CaO)等の粉末を添加し、さらに適当なバインダー、溶剤および可塑剤を添加し、次にこれらの混合物を混錬してスラリー状となす。その後、
従来周知のドクターブレード法またはカレンダーロール法等の成形方法によって多数個取り用のセラミックグリーンシートを得る。
なお、枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cが、例えば樹脂から成る場合は、所定の形状に成形できるような金型を用いて、トランスファーモールド法またはインジェクションモールド法等で成形することによって枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cを形成することができる。
また、枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cは、例えばガラスエポキシ樹脂のように、ガラス繊維から成る基材に樹脂を含浸させたものであってもよい。この場合には、ガラス繊維から成る基材にエポキシ樹脂の前駆体を含浸させ、このエポキシ樹脂前駆体を所定の温度で熱硬化させることによって枠体2を形成する第1の枠体2b及び第2の枠体2cを形成できる。
(2)次に、スクリーン印刷法等によって、上記(1)の工程で得られたセラミックグリーンシートに撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極及び配線導体となる部分に金属ペーストを塗布又は充填する。この金属ペーストは、枠体2となるセラミックグリーンシートと同時に焼成することによって、撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、配線導体等が形成される。
この金属ペーストは、前述した金属材料から成る金属粉末に適当な溶剤およびバインダーを加えて混練することによって、適度な粘度に調整して作製される。なお、金属ペーストは、枠体2との接合強度を高めるために、ガラス、セラミックスを含んでいても構わない。
(3)次に、前述のグリーンシートを金型等によって加工する。第1の枠体2b及び第2の枠体2cとなるグリーンシートの中央部に、貫通孔を形成する。
(4)次に、各絶縁層となるセラミックグリーンシートを積層して加圧することにより枠体2となるセラミックグリーンシート積層体を作製する。また、本工程では、例えば、第1の枠体2bおよび第2の枠体2cとなるグリーンシート積層体を別個に作製した後に、両者を積層して加圧することにより、枠体2となるグリーンシート積層体を作製しても良い。また、その際、第1の枠体2bおよび第2の枠体2cの表面に配線導体を露出させておき、第1の枠体2bと、第2の枠体2cとを積層して加圧することで、それぞれの配線導体を電気的に接続させても良い。
(5)次に、このセラミックグリーンシート積層体を約1500〜1800℃の温度で焼成して、枠体2が複数配列された多数個取り配線基板を得る。なお、この工程によって、前述した金属ペーストは、撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、または配線導体となる。
(6)次に、焼成して得られた多数個取り配線基板を複数の枠体2に分断する。この分断においては、枠体2の外縁となる箇所に沿って多数個取り配線基板に分割溝を形成しておき、この分割溝に沿って破断させて分割する方法、またはスライシング法等により枠体2の外縁となる箇所に沿って切断する方法等を用いることができる。なお、分割溝は、焼成後にスライシング装置により多数個取り配線基板の厚みより小さく切り込むことによって形成することができるが、多数個取り配線基板用のセラミックグリーンシート積層体にカッター刃を押し当てたり、スライシング装置によりセラミックグリーンシート積層体の厚みより小さく切り込んだりすることによって形成してもよい。
(7)次に、枠体2の下面に接合される金属板4を用意する。金属板4は、金属からなる板材に、従来周知のスタンピング金型を用いた打ち抜き加工やエッチング加工等により、外形または任意で設ける貫通孔及び切り欠きを形成することによって作製される。しかる後、金属板4がFe−Ni−Co合金や42アロイ,Cu,銅合金等の金属から成る場合には、その表面にニッケルめっき層および金めっき層を被着してもよい。これにより、金属板4の表面の酸化腐食を有効に防止することができる。
(8)次に、金属板4の上面の第1領域に反射防止層7を設ける。この工程では、例えばペースト状の熱硬化性樹脂をスクリーン印刷法やディスペンス法等で金属板4の上面に塗布しトンネル式の雰囲気炉またはオーブン等で乾燥させることで設ける事ができる。
また、例えば反射防止層7が黒色系メッキ層から成る場合は、電解めっき法または無電解めっき法等により金属板4の表面に黒色系メッキ層を被着させることで設ける事ができる。
(9)次に、接着部材を介して、金属板4を枠体2に接合する。この工程では、ペースト状の熱硬化性樹脂(接着部材)をスクリーン印刷法やディスペンス法等で枠体2または金属板4のいずれか一方の接合面に塗布しトンネル式の雰囲気炉またはオーブン等で乾燥させた後、枠体2と金属板4とを重ねた状態でトンネル式の雰囲気炉またはオーブン等に通炉させ約150℃で約90分間、加熱することで接着部材を完全に熱硬化させ、枠体2と金属板4とを強固に接着させる。
接着部材は、例えばビスフェノールA型液状エポキシ樹脂,ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂,フェノールノボラック型液状樹脂等からなる主剤に、球状の酸化珪素等から成る充填材,テトラヒドロメチル無水フタル酸等の酸無水物などを主とする硬化剤および着色剤としてカーボン紛末等を添加し遠心攪拌機等を用いて混合,混練してペースト状とすることによって得られる。
また、接着部材としては、この他にも例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールA変性エポキシ樹脂,ビスフェノールF型エポキシ樹脂,フェノールノボラック型エポキシ樹脂,クレゾールノボラック型エポキシ樹脂,特殊ノボラック型エポキシ樹脂,フェノール誘導体エポキシ樹脂,ビスフェノール骨格型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂にイミダゾール系やアミン系,リン系,ヒドラジン系,イミダゾールアダクト系,アミンアダクト系,カチオン重合系,ジシアンジアミド系等の硬化剤を添加したもの等を使用することができる。
また、接着部材は、樹脂以外にも低融点ガラスを用いることができる。低融点ガラスは、例えば、酸化鉛56〜66質量%、酸化硼素4〜14質量%、酸化珪素1〜6質量%および酸化亜鉛1〜11質量%を含むガラス成分に、フィラーとして酸化ジルコニウムシリカ系化合物を4〜15質量%添加したものが用いられる。これらの組成を有するガラス粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合してガラスペーストを得る。このガラスペーストを従来周知のスクリーン印刷法により枠体2や金属板4のいずれか一方の接合面に塗布し、これを約430℃の温度で焼成することによって前述の枠体2または金属板4の表面に接着部材が固着される。この後、金属板4と枠体2とを重ねた状態でトンネル式の雰囲気炉またはオーブン等に通炉させ約470℃に加熱することで接着部材を溶融して固着させ、枠体2と金属板4とを強固に接合して撮像素子実装用基板1を作製する。
上記(1)〜(9)の工程によって、撮像素子実装用基板1が得られる。
このようにして形成された撮像素子実装用基板1の撮像素子実装部11に撮像素子10を実装し、撮像装置21を作製することができる。
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図2を参照しつつ説明する。なお、図2の撮像装置21は蓋体12を省略している。
本実施形態における撮像装置21において、第1の実施形態の撮像装置21と異なる点は、上面視において、反射防止層7が枠体2の下面にも設けられている点、金属板4の外周縁が枠体2の外周縁よりも外側に位置している点である。
図2に示す例において、金属板4の上面の外周部まで延びており、枠体2の下面と、金属板4の上面とが、反射防止層7で接着されている。この構成により、枠体2と金属板4との間から侵入する光をより確実に低減させることができ、光の反射又は乱反射を低減させることが可能となる。
また、接着機能を有する反射防止層7によって、枠体2の下面と金属板4の上面とを接着させているので、枠体2と金属板4との間に接着剤を設ける必要がなくなる。例えば、反射防止層7が接着機能を有さない場合、金属板4の外周部に反射防止層7と、これとは別体の接着剤とを設ける必要あり、不要な隙間が形成される。そのため、反射防止層7が接着機能を有することにより、不要な隙間が無くなり、より枠体2と金属板4との間から侵入する光を確実に低減させることができ、光の反射又は乱反射を低減させることが可能となる。また、反射防止層7に接着機能を有させることにより、反射防止層7と、枠体2・金属板3の接着部材とを別体として設ける必要性が無くなり、作業工程を減らすことが可能となる。
また、反射防止層7は枠体2の内壁面の下端部を覆っていることが好ましい。この構成により、枠体2と金属板4との間の隙間を低減させ、第1領域5において反射又は乱反射を低減させることができる。さらに、反射防止層7に接着機能を有させることによって、枠体2と金属板4との接合強度を強化させることができる。
接着機能を有する反射防止層7の材料は例えば熱硬化性樹脂等が用いられる。接着機能を有する反射防止層7を形成する熱硬化性樹脂としては例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、等が挙げられる。
接着機能を有する反射防止層7で枠体2と金属板4とを接着させるためには、例えば金属板4に接着機能を有する反射防止層7(樹脂材料)をスクリーン印刷法やディスペンス法等で金属板4の上面に塗布する。その後トンネル式の雰囲気炉またはオーブン等で乾燥させた後、枠体2と金属板4とを重ねた状態でトンネル式の雰囲気炉またはオーブン等に通炉させ約150℃で約90分間、加熱することで反射防止層7を完全に熱硬化させ、枠体2と金属板4とを強固に接着させることができる。また、オーブン等に通路させる工程において、例えば枠体2の上面に重石等を設ける等して加熱することにより、反射防止層7が内壁面の下端部を覆うように設ける事ができる。
図2に示す例では、金属板4の外周縁が上面視において枠体2の外周縁よりも外側に位置している。金属板4の外周縁が上面視において枠体2の外周縁よりも外側に位置していることにより、枠体2の外周縁においても、反射防止層7が枠体2の外側面の下端部を覆うこととなる。これにより、隙間から不要な光が入ることを抑制し、より第1領域5での
反射又は乱反射を低減させることができる。
(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21につい
て、図3を参照しつつ説明する。なお、図3の撮像装置21は蓋体12を省略している。
本実施形態における撮像装置21において、第1の実施形態の撮像装置21と異なる点は、反射防止層7が金属板4の上面の全体に設けられている点である。
図3に示す例において、反射防止層7は、金属板4の上面の全体に設けられている。
また、撮像装置21は上記した撮像素子実装用基板1と、反射防止層7の上面の中央部に、接着材19を介して実装された撮像素子10と、を有している。
図3に示す例のように、反射防止層7を金属板4の上面の全体に設ける事で、金属板4に反射防止層7を設ける工程において、厚みのコントロールが容易となり、より平坦に反射防止層7を設けることが可能となる。反射防止層7を平坦に設ける事で、枠体2と金属板4とを接着させる工程において、枠体2の傾きを低減させることが可能となる。その結果、レンズが金属板4に対してより平行に設けられるため、撮像装置21を使用する際、撮像素子10への入射角の誤差が生じにくくなり、その結果、反射又は乱反射を低減させることができる。また、撮像素子10を実装する工程において、撮像素子10が傾いて実装することを低減させることもできる為、画像の質を向上させることが可能となり、さらに反射又は乱反射した光を受光面に入射させることを低減させることができる。
また、図3に示す例のように反射防止層7を金属板4の上面の全体に設ける事で、撮像素子10と反射防止層7との間に距離をあける必要がなくなる。そのため、金属板4の表面が露出している部分を低減させることが可能となるため、反射又は乱反射を低減させることができる。
本実施形態における反射防止層7の材料は、例えば熱硬化性樹脂等が用いられる。接着機能を有する反射防止層7を形成する熱硬化性樹脂としては例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、等が挙げられる。
(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図4、図5を参照しつつ説明する。なお、図4の撮像装置21は蓋体12を省略している。
本実施形態における撮像装置21において、第3の実施形態の撮像装置21と異なる点は、反射防止層7が第1領域5において、溝を有している点である。
図4、図5に示す例において、第1領域5上の反射防止層7の上面には、溝7aが設けられている。
図5を用いて、撮像モジュール30について説明する。図5に示す例において、撮像モジュール30は、本実施形態の撮像素子実装用基板1と、撮像素子実装用基板1に実装された撮像素子10と、撮像素子実装用基板1の上面に接合された蓋体12と、レンズ筐体31とを有している。
レンズ筐体31は平面視において、撮像素子10と重なる位置に設けられたレンズと、レンズを保持する筐体とから形成されている。ここで、筐体は例えば樹脂等から成る。また、図5に示す例では、レンズ筐体31は、その内壁が枠体2の外側面に当接するようにして、外部回路基板20上に接続されているが、撮像素子接続用基板1の上面に接続されていても良い。
一般的に、撮像素子10は作動時に発熱する。撮像素子10の作動時に繰り返して熱が発生すると、金属板4は熱膨張、熱収縮を繰り返す。この時、例えば熱硬化性樹脂から成る反射防止層7が金属板4の上面に被着して設けられているとき、反射防止層7も金属板4に追従する形でX軸方向に膨張・収縮を繰り返す。このとき、第3の実施形態の撮像素子実装用基板1では反射防止層7の体積は変化しないため、反射防止層7は膨張時には厚みが小さくなり、収縮時には厚みが大きくなるおそれがある。撮像装置21は図5に示すようなレンズ筐体31を設けた撮像モジュール30として機器に実装される。このとき、レンズ筐体31に設けられたレンズと撮像素子10の上面との距離である光学距離は一定であることが好ましいが、反射防止層7が前述した膨張・収縮およびそれに追従し厚みの変化が生じることで、この光学距離が変化し、撮像した画像の質が低下する可能性がある。
このとき、図4、図5に示す例のように、第1領域5上の反射防止層7の上面に、溝7aを設ける事で意図的に、X方向に膨張・収縮をしやすい個所(溝7a)を設ける事ができる。反射防止層7に溝7aを設ける事で、溝7aで金属板4の熱膨張、熱収縮の変形を吸収する事ができ、溝7aを設けない場合と比較すると、撮像素子実装部11直上の反射防止層7の厚みの変化、及び枠体2直上の反射防止層7の厚みの変化を低減させることが可能となる。よって、レンズと撮像素子10との光学距離の変化を低減させることができ、画像の質の低下を抑制することができる。
また、一般的に反射防止層7と金属板4とは、熱膨張係数が異なる。例えば、反射防止層7がエポキシ系樹脂から成る場合には、反射防止層7の熱膨張係数は4.0×10−6/℃であり、金属板4が、ステンレス(SUS410)から成る場合には、金属板4の熱膨張係数は、10×10−6/℃である。
このような金属板4の上面に、上述したような熱膨張係数を有する反射防止層7を接合した状態で、撮像素子10の実装工程や枠体2との接着工程において熱負荷を加えると、金属板4に熱応力による変形が生じることが懸念されている。とくに、近年の撮像装置21の低背化の要求により、金属板4の厚みも小さくなってきておりその懸念が顕著になってきている。また、金属板4に変形が生じることで、不要な光が入射した際、金属板4が平坦な時と比較してより複雑な反射又は乱反射が発生することが懸念されていた。
このとき、図4、図5に示す例のように、第1領域5上の反射防止層7の上面に溝7aを設ける事で、撮像素子実装部11で発生する応力と、枠体2との接合部で発生する応力とに分断することができる。そのため、反射防止層7と金属板4との熱膨張係数の差による応力を低減させることができる。このことから、金属板4の変形の発生を低減させることができ、金属板4の変形による反射又は乱反射の発生を低減させることが可能となる。
反射防止層7の上面に溝7aを設ける方法として、例えば反射防止層7に治具等を押し付ける方法が挙げられる。
(第5の実施形態)
次に、本発明の第5の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図6を参照しつつ説明する。
本実施形態における撮像装置21において、第4の実施形態の撮像装置21と異なる点は、金属板4が凹部4aを有している点である。
図6に示す例において、金属板4は凹部4aを有しており、凹部4aの底面に撮像素子
実装部11を有する。
図6に示す例のように、金属板4に凹部4aを設ける事によって、例えば凹部4aの底面に、凹部4aの深さと同等の厚みを有する反射防止層7を設ける事ができるので、撮像素子1をより強固に撮像素子実装部11に接続することができる。また、金属板4に凹部4aを設けることによって、例えば第3の実施形態と比較して撮像装置21全体の厚みを大きくすることなく、かつ、溝7aの深さを変えることなく、第1領域5の溝7aにおける反射防止層7の厚みを大きくすることができる。そのため、より反射又は乱反射の発生を低減させることが可能となる。
また、図6に示す例において、金属板4の凹部4aは、枠体2の開口よりも幅が大きく金属板4の上面(凹部4aの底面)は、撮像素子実装部11の外周縁から枠体2の内壁の直下に至る第1領域5と、枠体2の内壁の直下から凹部4aの外縁に至る第2領域6とを有する。この構成により、第2領域6において、反射防止層7は、金属板4だけでなく枠体2cの下面にも接続させることができるので、この場合には、金属板4と枠体2との接合力をさらに向上させることができ、また、枠体2と金属板4との隙間から光が入ることをさらに抑制することができる。また、このように第2領域6において反射防止層7が枠体2cの下面に接着している場合、反射防止層7を構成する樹脂材料の方が、金属板4の金属材料よりも、枠体2の絶縁材料の熱膨張率に近いので、金属板4が枠体2cの下面に接着されている場合と比較して、枠体2cの下面で部材の剥離が起こる可能性が低くなる。
また、金属板4の上面が第2領域6を有するので、例えば、第2の枠体2cの厚みを小さくした場合であっても、反射防止層7が枠体2c上の撮像素子接続用パッドまで到達する可能性を低減させることができる。
金属板4に凹部4aを設ける方法として、例えば金型等で金属板4の所定の箇所に圧力を加えることにより設ける事ができる。
なお、本発明は上述の実施形態の例に限定されるものではなく、種々の変形は可能である。
また、例えば、図1〜図6に示す例では、枠体2の開口部2aや金属板4の凹部4aの開口は矩形状であるが、円形状やその他の多角形状であってもかまわない。
また、本実施形態における撮像素子接続用パッド3の配置、数、形状などは指定されない。
1・・・・撮像素子実装用基板
2・・・・枠体
2a・・・開口部
2b・・・第1の枠体
2c・・・第2の枠体
3・・・・撮像素子接続用パッド
4・・・・金属板
4a・・・凹部
5・・・・第1領域
6・・・・第2領域
7・・・・反射防止層
7a・・・溝
10・・・撮像素子
11・・・撮像素子実装部
12・・・蓋体
13・・・接続部材
14・・・接合部材
19・・・接着剤
20・・・外部回路基板
21・・・撮像装置
30・・・撮像モジュール
31・・・レンズ筐体

Claims (9)

  1. 上面の中央部に撮像素子実装部を有する金属板と、
    該金属板の上面の外周部に接合された絶縁層から成る枠体と、を有しており、
    前記金属板の上面は、前記撮像素子実装部の外周縁から前記枠体の内壁に至る第1領域を有しており、
    該第1領域に設けられた反射防止層をさらに有する
    撮像素子実装用基板。
  2. 前記反射防止層は、前記金属板の上面の外周部まで延びており、
    前記枠体の下面と、前記金属板の上面とが、前記反射防止層で接着されている
    請求項1記載の撮像素子実装用基板。
  3. 前記反射防止層は、前記金属板の上面の全体に設けられている
    請求項2記載の撮像素子実装用基板。
  4. 前記第1領域上の前記反射防止層の上面には、溝が設けられている
    請求項3に記載の撮像素子実装用基板。
  5. 前記反射防止層は全光線反射率が30%以下であることを特徴とする
    請求項1乃至請求項4のいずれか記載の撮像素子実装用基板。
  6. 前記金属板は凹部を有しており、
    前記凹部の底面に撮像素子実装部を有することを特徴とする
    請求項1乃至請求項5のいずれか記載の撮像素子実装用基板。
  7. 前記金属板の前記凹部は、前記枠体の開口よりも幅が大きく、
    前記金属板の上面は、前記撮像素子実装部の外周縁から前記枠体の内壁の直下に至る前記第1領域と、前記枠体の内壁の直下から前記凹部の外縁に至る第2領域とを有することを特徴とする
    請求項6に記載の撮像素子実装用基板。
  8. 請求項1又は請求項2、請求項5乃至請求項7のいずれかに記載の撮像素子実装用基板と、
    前記金属板の前記撮像素子実装部に、接着材を介して実装された撮像素子と、
    を有する撮像装置。
  9. 請求項3乃至請求項7のいずれかに記載の撮像素子実装用基板と、
    前記反射防止層の上面の中央部に、接着材を介して実装された撮像素子と、
    を有する撮像装置。
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