JP2015142018A - 電力用半導体装置 - Google Patents

電力用半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2015142018A
JP2015142018A JP2014014193A JP2014014193A JP2015142018A JP 2015142018 A JP2015142018 A JP 2015142018A JP 2014014193 A JP2014014193 A JP 2014014193A JP 2014014193 A JP2014014193 A JP 2014014193A JP 2015142018 A JP2015142018 A JP 2015142018A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power semiconductor
substrate
inter
semiconductor device
connection member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014014193A
Other languages
English (en)
Inventor
進吾 須藤
Shingo Sudo
進吾 須藤
裕史 川島
Yuji Kawashima
裕史 川島
準 徳丸
Jun Tokumaru
準 徳丸
悠矢 清水
Yuya Shimizu
悠矢 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2014014193A priority Critical patent/JP2015142018A/ja
Publication of JP2015142018A publication Critical patent/JP2015142018A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/4847Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
    • H01L2224/48472Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area also being a wedge bond, i.e. wedge-to-wedge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]

Abstract

【課題】生産性が高く、長期にわたる動作信頼性、高温環境での動作信頼性を確保可能な電力用半導体装置を提供する。
【解決手段】電力用半導体装置100は、電力用半導体素子3,4が搭載された下側基板1と、下側基板1に対向配置された上側基板2と、電力用半導体素子に形成された素子電極と上側基板に形成された回路パターン7aとを電気的に接続する板状の接続部材6と、などを備える。接続部材6は、素子電極に接触するコンタクト部6aと、上下方向に沿って延びるリード部6bと、これらの間の折曲げ部6cとを有する。リード部6bの少なくとも一部は、コンタクト部6aおよび折曲げ部6cよりも大きい厚さを有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、電力用半導体素子を組み合わせてインバータ回路などを構成する電力用半導体装置に関する。
一般的に電力用半導体装置では、放熱性、装置外部との電気絶縁性を確保するために、セラミックス、無機フィラーなどを含有したエポキシ樹脂からなる絶縁層の上に回路パターンが形成され、裏面に放熱性に優れた銅、アルミニウムなどを主成分とした放熱板が接着された絶縁基板を用いる。当該回路パターンの上に電力用半導体素子が実装され、さらにアルミワイヤなどで配線を行うことで回路が構成される。これらの絶縁基板、放熱板の外周は樹脂筐体で覆われ、さらに内部回路と電気的に接続された外部端子が樹脂筐体より導出されている。
このような構造では、絶縁基板上で配線し、かつ樹脂筐体の外部端子へ配線を行うため、比較的高価な絶縁基板の面積が大きくなり、コスト高となると共に装置外形が大きくなってしまう。そこで、従来から電力用半導体装置の小型化が検討されてきた。
装置小型化の手法として、例えば特許文献1には、絶縁基板上の回路パターンに外部端子を実装し、この外部端子の先端面を露出させるように樹脂封止することで、絶縁基板面積内から外部端子を取り出す構造が開示されている。
また、特許文献2には、半導体素子の面に固着され且つプリント基板に固着されたインプラントピンをアルミワイヤ配線に代わって用い、さらに、インプラントピンと電気的に接続された外部端子を取り出すことにより、生産性および信頼性を向上させる構造が開示されている。
特開2001−284524号公報(図1) 特開2009−64852号公報(図1)
しかしながら、上記特許文献1,2に開示された構造では、特に多数の半導体素子が搭載される3相インバータ回路などの複雑な回路構成を有する装置では、絶縁基板上へのはんだ付け時に生じる半導体素子の傾き、絶縁基板の反りに起因して、外部端子の高さにばらつきが発生する。このようなばらつきを吸収するために、はんだなどの接合材を多く供給する、あるいはピンの高さを調整するといった手当が必要となる。それゆえ、電力用半導体装置の生産性向上に対する問題があった。
また、半導体素子の熱を受けにくく、比較的温度上昇が起こり難いプリント基板を用いたことにより、実装される半導体素子の動作に伴い高温になる絶縁基板との熱変形差に起因して、大きい応力が端子接続部に作用することになる。それゆえ、電力用半導体装置の高温環境での使用、長期の動作信頼性の確保に対する問題があった。
更には、半導体素子に断続的に通電して温度サイクルを印加するパワーサイクル試験で、半導体素子と端子との接合部で発生する熱応力に起因した剥離、亀裂が進展して特性が劣化する場合があることも確認されており、この点でも高温環境、長期の動作信頼性の確保に対する問題があった。
本発明は、このような問題点を解決するためになされたもので、生産性が高く、長期にわたる動作信頼性、高温環境での動作信頼性を確保可能な電力用半導体装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の第1態様における電力用半導体装置は、
電力用半導体素子と、
電力用半導体素子が搭載された下側基板と、
下側基板に対向配置された上側基板と、
電力用半導体素子に形成された素子電極と上側基板に形成された回路パターンとを電気的に接続する板状の接続部材とを備える。
接続部材は、素子電極に接触するコンタクト部と、上下方向に沿って延びるリード部と、コンタクト部とリード部との間の折曲げ部とを有する。
リード部の少なくとも一部は、コンタクト部および折曲げ部よりも大きい厚さを有する。
本発明の第1態様における電力用半導体装置によれば、電力用半導体素子のコンタクト部および折曲げ部の剛性が低下して、これらに作用する熱応力が低減することなどにより、生産性が高く、長期にわたる動作信頼性、高温環境での動作信頼性を確保可能な電力用半導体装置が実現される。
本発明の実施の形態1による電力用半導体装置の断面図である。 金属ベース基板の回路パターンを示す平面図である。 プリント基板の回路のパターンを示す平面図である。 本発明の実施の形態1による基板間接続部材の側面図(a)および正面図(b)である。 本発明の実施の形態2による基板間接続部材の側面図(a)および正面図(b)である。 本発明の実施の形態2による基板間接続部材の第1変形例の側面図(a)および正面図(b)である。 本発明の実施の形態2による基板間接続部材の第2変形例の側面図(a)および正面図(b)である。 本発明の実施の形態3による基板間接続部材の側面図(a)および正面図(b)である。 本発明の実施の形態3による基板間接続部材の第1変形例の側面図(a)および正面図(b)である。 本発明の実施の形態3による基板間接続部材の第2変形例の側面図(a)および平面図(b)である。
以下、本発明の実施の形態による電力用半導体装置について、図面を参照しながら説明する。各図において、同一または同様の構成部分には同一の符号を付している。また、方向を表す用語「上」、「下」などは、図面中の方向を特定するための便宜的なものであり、使用時における装置の設置方向などを限定するものではない。
実施の形態1
図1は、本発明の実施の形態1による電力用半導体装置の断面図である。
電力用半導体装置100は、電力用半導体素子(以下、単に半導体素子という)3,4
が搭載された金属ベース基板1と、プリント基板7と、これら基板の間に設けられた接続部材(基板間接続部材)6と、基板1を保持する樹脂筐体8と、などを備える。金属ベース基板1は「下側基板」の一例であり、プリント基板7は「上側基板」の一例である。
金属ベース基板1では、放熱板として機能する金属ベース1aの上に絶縁層1bを介して回路パターン1cが形成され、回路パターン1cの上に半導体素子3,4が実装された積層構造を有する。金属ベース1aはアルミニウム、銅などを主成分とする。絶縁層1bは、アルミナ、窒化アルミなど熱伝導性の高い絶縁材料を粒状、鱗片状にしてエポキシ樹脂に混合した材料などからなり、熱伝導と電気絶縁を両立させている。回路パターン1cはアルミニウムなどからなる。
半導体素子3,4は、これに限定されないが、それぞれIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)、FWDi(Free Wheeling Diode、フリーホイールダイオード)である。IGBT3を電力変換用スイッチング素子として動作させ、例えば6組のIGBTとFWDiとによりインバータ回路を構成できる(図2参照)。
IGBT3の表(おもて)面には、制御電極のゲート電極と主電極のエミッタ電極とが形成され、裏面には主電極のコレクタ電極が形成されている。一方、FWDi4の表面には主電極のアノード電極が形成され、裏面には主電極のカソード電極が形成されている。IGBT3のゲート電極は、例えばアルミニウムからなるワイヤ5を介して回路パターン1cに接続される。IGBT3のコレクタ電極、FWDi4のカソード電極が実装される回路パターンと、IGBT3のゲート電極が実装されるゲート電極とは、物理的に分離している。通常、物理的に分離したこれらの回路パターンは、動作時に異なる電位を有することになる。これらの半導体素子3,4は、例えばAgを含有するはんだ2を用いて、図2に示す回路配置で金属ベース基板1に接合され、当該基板1に電気的、熱的に接続される。
プリント基板7は、金属ベース基板1から上下方向に間隔を隔てて当該基板1に対向配置されている。プリント基板7は、両面に回路パターン7aが形成された両面基板である。図3に示すように、平面視でプリント基板7のスルーホール7bから、後述する基板間接続部材6の凸部6dと制御端子9とが突出している。プリント基板7は必ずしも両面基板である必要はなく、片面基板、多層基板でも構わない。
金属ベース基板1とプリント基板7の周囲には、金属ベース1aの下面が露出するように樹脂筐体8が設けられている。樹脂筐体8は、例えばPPS(Polyphenylenesulfide、ポリフェニレンスルファイド)からなり、エポキシ樹脂などで金属ベース基板1に接着されている。
樹脂筐体8には、インサート成形により外部端子9が一体化されている。外部端子9はプリント基板7の回路パターン7aにはんだ付けされ、樹脂筐体8の外部へ導出される。導出された部分は、外部のスイッチング電源(図示せず)、他の半導体素子などに接続される。樹脂筐体8の内側には封止樹脂11が充填されている。封止樹脂11は、半導体素子3,4と、基板間接続部材6の一部を封止している。また、封止樹脂11は、例えば、硬化後の曲げ弾性率が高い、例えば15GPa程度であるエポキシ樹脂である。この場合、金属ベース基板1の回路、半導体素子3,4の絶縁を確保し且つ異物混入を防ぐことができる。樹脂筐体8の上面には、PPSなどからなる蓋部材12が取り付けられている。
なお、樹脂筐体8を構成する樹脂は、液晶ポリマー樹脂、フッ素系樹脂などでも構わない。封止樹脂11は、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂などでも構わない。
次に、図4を用いて、基板間接続部材6について詳しく説明する。
基板間接続部材6は、厚さが不均一な板状の部材であり、銅、アルミニウムなど、電気伝導性、熱伝導性に優れた材料からなる。基板間接続部材6は、半導体素子3,4に形成された電極(素子電極)とプリント基板7に形成された回路パターン7aとを電気的に接続する。
図4(a)に示すように、基板間接続部材6は全体としてL字状に形成されており、L字の(xy面内の)底面を構成し且つ素子電極に接触するコンタクト部6aと、L字の垂直面を構成し且つ上下方向(z方向)に沿って延びるリード部6bとを有する。また、基板間接続部材6は、コンタクト部6aとリード部6bとの間の折曲げ部6cとを有する。図4(b)に示すように、リード部6bの先端(+z側)は切り欠かれ、プリント基板7のスルーホール7bに挿通される凸部6dが形成されている。
基板間接続部材6では、リード部6bの少なくとも一部がコンタクト部6aと折曲げ部6cよりも大きい厚さを有する。折曲げ部6cの厚さは、板が折り曲げられなかった場合の、折曲げ部に相当する部分での板厚である。図4ではコンタクト部6aと折曲げ部6cの厚さが等しいが、もちろん異なる厚さでも構わない。
図4の構造では、リード部6bに厚肉部分と薄肉部分が存在し、少なくとも当該厚肉部分がコンタクト部6aと折曲げ部6cよりも大きい厚さを有する。厚肉部分と薄肉部分との間では、徐々に厚さが変化しているが、厚さは急峻に変化しても構わない。なお、後述する図8、図10の構造のように、リード部6b全体が、コンタクト部6aと折曲げ部6cよりも大きい厚さを有してもよい。
基板間接続部材6のコンタクト部6aは、半導体素子3,4の素子電極に、はんだなどの導電性接着剤を用いて接合されている。ただし、素子電極との間で剥離が充分に生じにくければ、他の方法でコンタクト部6aが素子電極に固定(接合)される構成でもよい。
また、本実施形態1の回路配置では、図1の最も右側の基板間接続部材のように、回路パターン1aと回路パターン7aとを接続する基板間接続部材が設けられる。当該基板間接続部材は、図示したように半導体素子3,4上の基板間接続部材と同様の形状でも構わない。ただし、前者の(図1の最も右側の)基板間接続部材で生じる温度変化は後者よりも小さく、発生する熱応力も小さい。それゆえ前者の基板間接続部材では、コンタクト部6aと折曲げ部6cの厚さがリード部6bと同程度でも構わない。この場合、金属ベース基板1を介してプリント基板7で発生した熱を放熱でき、プリント基板7の通電電流を大きくすることができる。
また、図1の最も左側で基板間を接続する制御端子10は、流れる電流(制御信号)が小さいことから全体的に薄く形成されているが、制御端子10の代わりに基板間接続部材6が用いられてもよい。
次に、電力用半導体装置100を構成する各部材の大きさの一例について説明する。
回路が形成される金属ベース基板1の主面の面積は、80mm×40mmである。金属ベース1aの厚さは2mmである。絶縁層1bの厚さは0.15mmである。回路パターン1cの厚さは70μmである。IGBT3の主面の面積は7mm×7mmであり、厚さは250μmである。FWDi4の主面の面積は7mm×5mmであり、厚さは250μmである。基板間接続部材6のコンタクト部6aは、長さ(x方向)5mm、幅(y方向)5mm、厚さ(z方向)0.3mmである。折曲げ部6cの厚さも同じく0.3mmである。リード部6bの厚さ(x方向)は0.6mmである。凸部6dの幅は1.5mmである。
ただし、これらは例示的な値に過ぎず、本発明を限定するものではない。これは以下の説明でも同様である。
次に、上記電力用半導体装置100の組立方法の一例を構成する工程S1から工程S6について簡単に説明する。
金属ベース基板1の回路パターン1aの上に半導体素子3,4をはんだ付けする(工程S1)。半導体素子3,4の上に基板間接続部材6、制御端子9を位置決めしてはんだ付けする(工程S2)。半導体素子3の素子電極と制御端子10の下の回路パターン1cとにワイヤ5を超音波接合する(工程S3)。外部端子9が一体化された樹脂筐体8を金属ベース基板1の側面に嵌めて取り付ける(工程S4)。樹脂筐体8の内側にディスペンサなどを用いて封止樹脂11を充填する(工程S5)。プリント基板7のスルーホール7bに基板間接続端子6、外部端子9および制御端子10を挿通すると共にこれらを回路パターン7aにはんだ付けする(工程S6)。
なお、工程S2と工程S6では、基板間接続部材6、制御端子9を予めプリント基板7に挿通して接続しておき、後からコンタクト部6aを半導体素子3,4の素子電極、金属ベース基板1の回路パターン1cに接続してもよい。
次に、このように電力用半導体装置100を構成した理由について説明する。
既に述べたように、金属ベース基板1の絶縁層(絶縁基板)1bは、放熱性と絶縁性を有する反面、電力用半導体装置の中では高価な部品である。それゆえ、絶縁層1bの面積を縮小することでコストを低減できることは明らかである。絶縁層1bの面積縮小のためには、回路パターン1cでの回路配置とパターン間の絶縁距離により決定される配線面積の縮小化が効果的である。そこで、本実施形態1では、金属ベース基板1と半導体素子3,4の直上方向、すなわち金属ベース基板1の積層方向に追加の回路基板(プリント基板7)を配置している。
特に、本実施形態1では、金属ベース基板1の回路パターン1cの一部または全部がプリント基板7に形成されてもよく、これにより金属ベース基板1の面積を一層縮小する効果を得ることができる。
また、一般に電力用半導体装置では、パワーサイクル試験での寿命を延ばすことが求められている。パワーサイクル試験では、半導体素子に断続的に通電することで発生する半導体素子の発熱により、半導体素子に温度サイクル負荷が加えられる。電力用半導体装置100の開発段階においても、基板間接続部材の折曲げ部cからはんだに剥離が発生し、そこから基板間接続部材と素子電極との間の剥離が進展して通電抵抗が増加することが確認された。
そこで、本実施形態1では、基板間接続部材6のコンタクト部6aと折曲げ部6cを薄くして剛性を下げている。パワーサイクル試験では、基板間接続部材6のコンタクト部6aで熱膨張、熱収縮が繰り返し生じることにより、折曲げ部6c近傍のはんだ接合部に対して圧縮応力、せん断応力が加わる。さらに封止樹脂11の熱膨張、金属ベース基板1とプリント基板7との熱変形差による基板間接続部材6の変形が、上記はんだ接合部に対して応力として伝わる。
本実施形態1では、上記の通り基板間接続部材6を構成したことにより、これらの応力を軽減できる。
このとき、リード部6bを含めた基板間接続部材6全体を薄くすると、電気抵抗が増加し、電力用半導体装置100の電気特性を著しく損なうことになる。さらに、基板間接続部材6で発生するジュール熱により半導体素子3,4の温度が上昇しやすくなる。本実施形態1のように、半導体素子3,4の表面近傍のコンタクト部6aと折曲げ部6cのみを薄くし、リード部6bの少なくとも一部を厚くして基板間接続部材6の抵抗を低く維持することにより、装置100の機能をほぼ損失することなく、さらに通電によるロスを増加させることなく半導体素子3,4の断続通電で発生する熱応力を軽減させることができる。
ひいては、生産性が高く、長期にわたる動作信頼性、高温環境での動作信頼性を確保可能な電力用半導体装置100が実現される。
特に、折曲げ部6cは、封止樹脂11の熱膨張により基板間接続部材6が倒れる方向、引き上げられる方向に応力が発生した場合に半導体素子3,4との剥離の起点となりやすいところ、当該折曲げ部6cが薄く構成されているので、高温環境下での使用に適した電力用半導体装置100が実現される。
また、弾性率の高いエポキシ樹脂などを封止樹脂11として用いた場合には、基板間接続部材6を薄くすることにより封止樹脂の接着面積となる表面積がほぼ変わらず、熱応力を発揮する部材6の断面積が縮小されて熱応力が軽減されることから、信頼性向上に対して更なる効果を発揮する。
さらに、装置100の組立工程を考慮した場合にも、基板間接続部材6の形状は有効である。
上記の通り、工程S2,S6で先に基板間接続部材6を半導体素子3,4に接合し、後からプリント基板7を接続する場合には、基板間接続部材6の凸部6dをプリント基板7に挿入して金属ベース基板1側に押し込む必要がある。装置100の構成によれば、凸部6cとプリント基板7との位置ずれを修正したり、プリント基板7のスルーホール7bに凸部6cを充分に挿入するためプリント基板7を金属ベース基板1方向に押し込んだりする際の荷重を軽減でき、装置100の組立性が向上する。
また、基板間接続部材6を予めプリント基板7に挿入して接続しておき、後からコンタクト部6aを半導体素子3,4、金属ベース基板1の回路パターン1cと接続する場合にも、すべての接合部を接触させるための押し込み荷重を軽減でき、装置100の組立性が向上する。
また、基板間接続部材6を取り付ける際に部材6の薄くされた部分(コンタクト部6aからリード部6bの薄肉部分にかけて)が撓むように厚さ、材料などを調整することもできる。この場合、プリント基板7を取り付けるときに、半導体素子3,4またはこれらを接続する接合材などの厚さに起因して生じる高さのばらつきを、上記薄くされた部分で吸収することが容易となる。この点でも装置100の組立性が向上する。
実施の形態2.
図5は、本発明の実施の形態2による基板間接続部材の側面図(a)および正面図(b)である。
本実施形態2に係る電力用半導体装置の基本的な構成は実施形態1と同様であり、基板間接続部材26以外の構成については詳細な説明を省略する。
図5(a)に示すように、基板間接続部材26は全体としてL字状に形成されており、コンタクト部26aと、リード部26bと、これらの間の折曲げ部26cを有する。リード部26bの先端には凸部26dが形成されている。また、リード部26bの少なくとも一部は、コンタクト部26aと折曲げ部26cよりも大きい厚さを有する。これらは実施形態1と同様である。
基板間接続部材26は、厚さが均一な2枚の板部材27,28からなる。第1の板部材27はL字状に折り曲げられている。第2の板部材28は第1の板部材27に(+z側で)重ねられ、両者は例えばスポット溶接により電気的に接続される。ただし、板部材27,28は互いに電気的に接続されていればよく、超音波接合、ろう付け、圧着などの方法を用いても構わない。このように、2枚の板部材からなる積層構造により、実施形態1で説明したリード部26bの厚肉部分が構成される。当然であるが、3枚以上の板部材で積層構造が構成されても構わない。
例えば、長さの異なる厚さ0.3mmの銅板を2枚用いた場合、リード部26bの厚肉部分の厚さは2枚合わせて0.6mmとなる。一方、コンタクト部26aと折曲げ部26cの厚さは0.3mmとなる。
次に、このように基板間接続部材26を構成した理由について説明する。
図4のように一枚の板部材に厚肉部分と薄肉部分とを形成する、あるいは基板間接続部材の厚さを不均一にするためには、プレス加工で潰す、機械加工で削るといった手法が考えられる。比較的安価に実施でき、さらに部品コストを低減できる点ではプレス加工が好都合であるが、加工により材料が硬化することから、一般的に容易に加工できるのは、実際には板厚の約半分程度までである。
一方、本実施形態2によれば、複数枚の板部材を重ねて基板間接続部材26が構成されることにより、厚さが不均一な板部材を用いるよりも製造コストを低下させることができる。また、コンタクト部26aと折曲げ部26cを薄くした場合でも、基板間接続部材26のリード部26bの厚さを充分に大きくすることができる。
本実施形態2による基板間接続部材26の構造を採用することにより、電力用半導体モジュール、特に半導体素子1つ当たり100Aを超える大電流を扱うモジュールに採用する場合にも、充分な電流サイクル信頼性、温度サイクル信頼性を得ることができる。その結果、半導体素子の最大動作温度を高くすることが可能となる。
(変形例)
図6に示す第1変形例では、図5の板部材27の2倍弱の長さを有する1枚の板部材を屈曲させて、リード部26bの厚肉部分を構成する積層構造が形成されている。この図6の構造によっても、図5の構造と同様の信頼性を得ることができる。このとき、電気特性を考慮すると、折曲げ部26cの近傍に溶接部26dが形成されることが好ましい。溶接部26dが形成されるのはこの一点のみでも構わない。
この第1変形例によれば、基板間接続部材26として1枚の板部材を折り曲げて用いることにより、複数枚の板部材を用いた場合よりも溶接部26dの数を減らすことができるため、部材コストを抑制できる。
図7に示す第2変形例では、リード部26bの厚肉部分に更なる屈曲部(折曲げ部)が設けられ、その内部に封止樹脂11が充填される空間が形成される。図7の構造も、信頼性の観点から有効である。このとき、上記形成される空間は、基板間接続部材26が設置される半導体素子3,4の領域内に収まることが好ましい。
この第2変形例によれば、曲げ弾性率の高い封止樹脂11が上記空間に充填されることにより、各層で拘束力が発揮されるため、コンタクト部26aに負荷される応力をさらに軽減させ、電流サイクルに対する信頼性を向上させることができる。基板間接続部材26の一部に封止樹脂11の剥離が生じたとしても、上記空間を構成する基板間接続部材26の部分で部材26と封止樹脂11との接着面方向が変化するため、剥離の進展を抑制できる。封止樹脂11が充填される空間を半導体素子3,4の領域内に形成することにより、基板間接続部材26のために距離を確保して電力用半導体装置100を大きくすることなく、信頼性を向上させることができる。
ここで、上記の通り、基板間接続部材26としては熱伝導性および電気伝導性に優れる銅、アルミなどを主成分とした材料を用いることが好ましいが、積層構造のすべての層が同じ材料であることを必要とするものではなく、コスト低減のために銅板の中央部にアルミを用いてもよく、熱膨張率を抑えるためにフェライト系のステンレス材料を用いても構わない。これは他の実施形態でも同様である。
実施の形態3.
図8は、本発明の実施の形態3による基板間接続部材の側面図(a)および正面図(b)である。
本実施形態3に係る電力用半導体装置の基本的な構成は実施形態1と同様であり、基板間接続部材36以外の構成については詳細な説明を省略する。
基板間接続部材36は、逆T字状に形成された1枚の板部材からなる。1枚の板部材は、折曲げ部36cにおいて離間する方向、すなわち前方(+x方向)と後方(−x方向)の双方に折り曲げられて、2つのコンタクト部36aと2つの折曲げ部36cとが形成されている。また、リード部36bの先端(+z側)には、板部材を屈曲させて凸部36dが形成されている。また、リード部36bは、コンタクト部36aと折曲げ部36cよりも大きい厚さを有する。
このとき、2つのコンタクト部36aはともに半導体素子3,4の素子電極に接合されているので、必ずしも図4などに示す溶接部を形成する必要は無い。
次に、このように基板間接続部材36を構成した理由について説明する。
実施形態1で示した通り、半導体素子3,4の発熱または電力用半導体装置100全体の温度上昇により、プリント基板7、封止樹脂11の熱変形、熱膨張が生じて基板間接続部材36が変形を受け、コンタクト部36aには応力が負荷される。
このとき、本実施形態3によれば、基板間接続部材36が変形を受ける際に、折曲げ部36c近傍に負荷される応力を前方(+x方向)と後方(−x方向)の両方に分散させることができ、これにより剥離の起点の発生を抑制できる。
また、剥離の起点が発生してしまった場合にも、折曲げ部36cが引き剥がされる方向の応力に対し、対向する方向の折曲げ部36cとコンタクト部36aにより支持されるため、引き剥がされる力が軽減され、剥離の進展を抑制できる。
さらに、装置100の組立工程を考慮した場合にも、基板間接続部材36の形状は有効である。これは、基板間接続部材36と素子電極との接合部の中央に部材36の重心があるため、組立て時の横倒れを防止でき、工程を簡素化できるからである。
(変形例)
図9に示す第1変形例では、基板間接続部材36のリード部36bの一部が、複数の板部材37〜39からなる積層構造を有している。複数の板部材を用いる構成は、図5、図7で説明した通りである。図9では、第1の板部材37と第3の板部材39との間に第2の板部材38が挟持され、これらに溶接部36eが形成されている。また、電気抵抗を軽減するため、あるいは接合部の応力をさらに軽減してさらに信頼性の高い構造とするために、折り曲げ回数、屈曲回数をさらに増加させても構わない。この場合には、各層に均等に電流が流れるように溶接部36eを形成することが好ましい。
図10に示す第2変形例では、コンタクト部36aに着目して、コンタクト部36aが互いに板幅方向(y方向)に分割された構造を有する。図10の構造も、素子の発熱による熱応力を軽減する観点では有効である。
以上で説明した各実施の形態および各変形例の構成は、自由に組み合わせ、あるいは変形、省略されてもよい。
1 金属ベース基板、 1a 金属ベース、 1b 絶縁層、 1c 回路パターン、 2 はんだ、 3,4 電力用半導体素子(IGBT,FWDi)、 5 ワイヤ、 6,26,36 基板間接続部材、 6a コンタクト部、 6b リード部、 6c 折曲げ部、 6d 凸部、 7 プリント基板、 7a 回路パターン、 8 樹脂筐体、 9 外部端子、 10 制御端子、 11 封止樹脂、 12 蓋部材、 26e 溶接部、 100 電力用半導体装置。

Claims (6)

  1. 電力用半導体素子と、
    前記電力用半導体素子が搭載された下側基板と、
    前記下側基板に対向配置された上側基板と、
    前記電力用半導体素子に形成された素子電極と前記上側基板に形成された回路パターンとを電気的に接続する板状の接続部材とを備え、
    前記接続部材は、前記素子電極に接触するコンタクト部と、上下方向に沿って延びるリード部と、前記コンタクト部と前記リード部との間の折曲げ部とを有し、
    前記リード部の少なくとも一部は、前記コンタクト部および前記折曲げ部よりも大きい厚さを有することを特徴とする、電力用半導体装置。
  2. 前記接続部材は、1枚の板部材からなることを特徴とする、請求項1に記載の電力用半導体装置。
  3. 前記リード部の少なくとも一部は、複数枚の板部材からなる積層構造または1枚の板部材を屈曲させて形成された積層構造を有することを特徴とする、請求項1に記載の電力用半導体装置。
  4. 前記コンタクト部は、前記リード部に対して前方と後方の両方に設けられたことを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載の電力用半導体装置。
  5. 前記コンタクト部は、前記前方と後方に対して垂直な板幅方向に分割されたことを特徴とする、請求項4に記載の電力用半導体装置。
  6. 前記上側基板は、両面に回路パターンが形成されたプリント基板であり、
    前記リード部には、前記プリント基板のスルーホールに挿通される凸部が形成されたことを特徴とする、請求項1から5のいずれか1項に記載の電力用半導体装置。
JP2014014193A 2014-01-29 2014-01-29 電力用半導体装置 Pending JP2015142018A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014014193A JP2015142018A (ja) 2014-01-29 2014-01-29 電力用半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014014193A JP2015142018A (ja) 2014-01-29 2014-01-29 電力用半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015142018A true JP2015142018A (ja) 2015-08-03

Family

ID=53772192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014014193A Pending JP2015142018A (ja) 2014-01-29 2014-01-29 電力用半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015142018A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018020729A1 (ja) * 2016-07-27 2018-02-01 株式会社日立製作所 半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法
JP6289583B1 (ja) * 2016-10-24 2018-03-07 三菱電機株式会社 電力半導体装置
DE102017220212A1 (de) 2017-02-03 2018-08-09 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung und elektrische Leistungswandlungsvorrichtung
JP2018147941A (ja) * 2017-03-02 2018-09-20 三菱電機株式会社 パワーモジュール
WO2021132174A1 (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 三菱電機株式会社 電力変換装置
JP2021114511A (ja) * 2020-01-17 2021-08-05 三菱電機株式会社 電力変換装置
WO2022185545A1 (ja) * 2021-03-05 2022-09-09 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法、半導体装置、電力変換装置及び移動体

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58180050A (ja) * 1982-04-15 1983-10-21 Hitachi Ltd 半導体装置
JPS5977243U (ja) * 1982-11-16 1984-05-25 富士電機株式会社 半導体装置
JPH0345653U (ja) * 1989-09-12 1991-04-26
JPH0550743U (ja) * 1991-12-12 1993-07-02 株式会社三社電機製作所 電力用半導体モジュール
JPH1074875A (ja) * 1996-06-06 1998-03-17 General Motors Corp <Gm> 熱応答圧縮型ダイオード組立体
JP2000124398A (ja) * 1998-10-16 2000-04-28 Mitsubishi Electric Corp パワー半導体モジュール
JP2011096695A (ja) * 2009-10-27 2011-05-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2012227424A (ja) * 2011-04-21 2012-11-15 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2013140862A (ja) * 2011-12-29 2013-07-18 Mitsubishi Electric Corp パワー半導体装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58180050A (ja) * 1982-04-15 1983-10-21 Hitachi Ltd 半導体装置
JPS5977243U (ja) * 1982-11-16 1984-05-25 富士電機株式会社 半導体装置
JPH0345653U (ja) * 1989-09-12 1991-04-26
JPH0550743U (ja) * 1991-12-12 1993-07-02 株式会社三社電機製作所 電力用半導体モジュール
JPH1074875A (ja) * 1996-06-06 1998-03-17 General Motors Corp <Gm> 熱応答圧縮型ダイオード組立体
JP2000124398A (ja) * 1998-10-16 2000-04-28 Mitsubishi Electric Corp パワー半導体モジュール
JP2011096695A (ja) * 2009-10-27 2011-05-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2012227424A (ja) * 2011-04-21 2012-11-15 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2013140862A (ja) * 2011-12-29 2013-07-18 Mitsubishi Electric Corp パワー半導体装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2018020729A1 (ja) * 2016-07-27 2019-03-07 株式会社日立製作所 半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法
WO2018020729A1 (ja) * 2016-07-27 2018-02-01 株式会社日立製作所 半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法
US10937731B2 (en) 2016-07-27 2021-03-02 Hitachi, Ltd. Semiconductor module and method for manufacturing semiconductor module
EP3474325A4 (en) * 2016-07-27 2020-02-26 Hitachi, Ltd. SEMICONDUCTOR MODULE AND METHOD FOR PRODUCING THE SEMICONDUCTOR MODULE
JP6289583B1 (ja) * 2016-10-24 2018-03-07 三菱電機株式会社 電力半導体装置
JP2018073848A (ja) * 2016-10-24 2018-05-10 三菱電機株式会社 電力半導体装置
DE102017220212A1 (de) 2017-02-03 2018-08-09 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung und elektrische Leistungswandlungsvorrichtung
US10121732B2 (en) 2017-02-03 2018-11-06 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device and electric power conversion device having relay terminal directly fixed to an insulating film of base plate
DE102017220212B4 (de) 2017-02-03 2021-10-07 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung und elektrische Leistungswandlungsvorrichtung
JP2018147941A (ja) * 2017-03-02 2018-09-20 三菱電機株式会社 パワーモジュール
WO2021132174A1 (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 三菱電機株式会社 電力変換装置
JP2021114511A (ja) * 2020-01-17 2021-08-05 三菱電機株式会社 電力変換装置
WO2022185545A1 (ja) * 2021-03-05 2022-09-09 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法、半導体装置、電力変換装置及び移動体
JP7435896B2 (ja) 2021-03-05 2024-02-21 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法、半導体装置、電力変換装置及び移動体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015142018A (ja) 電力用半導体装置
JP4635564B2 (ja) 半導体装置
CN107039297B (zh) 电极端子、半导体装置以及电力变换装置
KR101444550B1 (ko) 반도체 모듈
JP2012099794A (ja) 焼結金属接合、好ましくは焼結銀接合を有するパワー半導体モジュールおよびその製造方法
JP2006332579A (ja) 半導体装置
JP5672707B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2016072575A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2013135105A (ja) 電力用半導体装置
JP6226068B2 (ja) 半導体装置
JP2014204006A (ja) 電力用半導体装置
JP5262983B2 (ja) モールドパッケージおよびその製造方法
US10497586B2 (en) Semiconductor device and a method of manufacturing the same
JP5950684B2 (ja) 半導体装置
JP2017123360A (ja) 半導体モジュール
JP6048238B2 (ja) 電子装置
JP6200759B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2010103343A (ja) 半導体装置
JP2013219268A (ja) 半導体デバイス
JP4715283B2 (ja) 電力変換装置及びその製造方法
JP2007214492A (ja) 絶縁伝熱構造体及びパワーモジュール用基板並びに絶縁伝熱構造体の製造方法
JP5445368B2 (ja) 半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法
JP5861580B2 (ja) 半導体装置及び半導体装置製造方法
JP2009016380A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2006286679A (ja) 半導体装置およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151019

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160822

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160830

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161020

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161220

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170202

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170509

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20171128