JP2010103343A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2010103343A
JP2010103343A JP2008274170A JP2008274170A JP2010103343A JP 2010103343 A JP2010103343 A JP 2010103343A JP 2008274170 A JP2008274170 A JP 2008274170A JP 2008274170 A JP2008274170 A JP 2008274170A JP 2010103343 A JP2010103343 A JP 2010103343A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
resin case
circuit board
printed circuit
lid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008274170A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5256994B2 (ja
Inventor
Shin Soyano
伸 征矢野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Systems Co Ltd filed Critical Fuji Electric Systems Co Ltd
Priority to JP2008274170A priority Critical patent/JP5256994B2/ja
Publication of JP2010103343A publication Critical patent/JP2010103343A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5256994B2 publication Critical patent/JP5256994B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/39Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
    • H01L24/40Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/0601Structure
    • H01L2224/0603Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/36Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/37Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/37001Core members of the connector
    • H01L2224/37099Material
    • H01L2224/371Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/36Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/37Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/37001Core members of the connector
    • H01L2224/37099Material
    • H01L2224/371Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/37117Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/37124Aluminium [Al] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/36Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/37Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/37001Core members of the connector
    • H01L2224/37099Material
    • H01L2224/371Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/37138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/37147Copper [Cu] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/39Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
    • H01L2224/40Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/39Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
    • H01L2224/40Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/401Disposition
    • H01L2224/40151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/40221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/40225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73221Strap and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/83801Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]

Abstract

【課題】半導体装置の信頼性を向上させる。
【解決手段】樹脂ケース40と、樹脂ケース40内に収容された半導体素子と、樹脂ケース40内に収容され、半導体素子の動作を制御する制御手段を備えたプリント基板60と、樹脂ケース40に収容された半導体素子及びプリント基板60を覆う蓋部70と、を有し、プリント基板60の外周が樹脂ケース40と蓋部70に挟持されている。このような構成であれば、外部からの振動、冷熱サイクルに対し、充分な耐性を備えた信頼性の高い半導体装置が実現する。
【選択図】図1

Description

本発明は半導体装置に関し、特にパワー半導体素子を搭載した半導体装置に関する。
インバータ装置、無停電電源装置、工作機械、産業用ロボット等では、その本体装置とは独立して、パワー半導体素子を搭載した半導体装置(汎用モジュール)が使用されている。このような半導体装置は、複数のパワー半導体素子を樹脂ケース内に封止した構造をしている。そして、上記パワー半導体素子の動作等を制御するプリント基板(制御用基板)が半導体装置に搭載されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−189416号公報
しかし、上述したプリント基板は、通常、樹脂ケースにねじ止めによって固定されている。従って、プリント基板の一部分(局部的な部分)が樹脂ケースに固定されているに過ぎない。
このような状態では、外部からの振動、半導体装置の冷熱サイクルによる伸縮によってプリント基板が変形し易くなり、プリント基板の半田接合部の劣化及びプリント基板に搭載された電子部品の劣化を招来してしまう。
特に、近年では、環境への配慮から半田材として鉛フリー半田が用いられている。そして、当該半田のクリープ変形量は低いことが知られている。従って、僅かなプリント基板の変形によっても、半導体装置の半田接合部及び電子部品の劣化が起き易い状況にある。
従って、外部からの振動、或いは半導体装置の冷熱サイクルに対し、充分な耐性を備えた半導体装置が要求されている。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、外部からの振動、半導体装置の冷熱サイクルに対し、充分な耐性を備えた信頼性の高い半導体装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、樹脂ケースと、前記樹脂ケース内に収容された半導体素子と、前記樹脂ケース内に収容され、前記半導体素子の動作を制御する制御手段を備えたプリント基板と、前記樹脂ケースに収容された前記半導体素子及び前記プリント基板を覆う蓋と、を有し、前記プリント基板の外周が前記樹脂ケースと前記蓋に挟持されていることを特徴とする半導体装置が提供される。
上記手段によれば、外部からの振動、半導体装置の冷熱サイクルに対し、充分な耐性を備えた信頼性の高い半導体装置が実現する。
以下、本実施の形態に係る半導体装置を、図面を参照しながら詳細に説明する。
<第1の実施の形態>
図1は第1の実施の形態に係る半導体装置の要部模式図である。ここで、図1(a)には、半導体装置1の平面模式図が例示され、図1(b)には図1(a)の破線X−X’の位置における断面を矢印の方向に矢視する図が表示されている。尚、図1では、インバータ回路一相分の半導体モジュール(パワーモジュール)の一例が例示されている。
半導体装置1は、板厚が数ミリの金属ベース板10を基体とし、当該金属ベース板10上に、錫(Sn)−銀(Ag)系の鉛フリー半田層(図示しない)を介して絶縁基板20が接合・搭載されている。そして、絶縁基板20上層には、パワー半導体素子であるIGBT素子30a,30b、並びにFWD素子31a,31bを、それぞれ複数個、実装している。更に、半導体装置1は、上記半導体素子等を樹脂ケース40によりパッケージングしている。
絶縁基板20は、絶縁板20aと、絶縁板20aの下面にDCB(Direct Copper Bonding)法で形成された金属箔20bと、絶縁板20aの上面に同じくDCB法で形成された金属箔20cを備えている。
更に、それぞれの絶縁基板20の金属箔20c上には、半田層(図示しない)を介して、IGBT素子30a,30bが搭載されている。即ち、IGBT素子30a,30bの裏面側(例えば、コレクタ電極側)が金属箔20cに接合している。
また、IGBT素子30a,30bのコレクタ電極とは反対側の主面、即ち、IGBT素子30a,30bの上面側には、エミッタ電極が配設されている。更に、IGBT素子30a,30bの上面の一部には、制御電極30gが配設されている。そして、制御電極30gは、金属ワイヤ21を通じて、樹脂ケース40にインサート成形されたピン端子(制御用端子)22の一端に導通している。また、ピン端子22のもう一方の端は、半導体装置1の上方へ延出されている。
また、FWD素子31a,31bにおいては、カソード側を半田層(図示しない)を介して金属箔20cに接合させている。そして、FWD素子31a,31bの当該カソード側とは反対側の主面、即ち、上面には、アノードを配置している。
また、IGBT素子30a,30bのエミッタ電極(IGBT素子30a,30bの上面側)とFWD素子31a,31bのアノード側(FWD素子31a,31bの上面側)には、屈曲構造を備えた端子台23a,23bが半田付けによって架設されている。
例えば、端子台23a,23bの断面は、矩形であり、凸形状としている。これにより、IGBT素子30a,30bのエミッタ電極とFWD素子31a,31bのアノード側との導通が端子台23a,23bを通じて確保されている。
また、IGBT素子30a,30bのコレクタ電極とFWD素子31a,31bのカソード側は、IGBT素子30a,30b並びにFWD素子31a,31bの下地である金属箔20cを通じて互いに導通している。
ここで、絶縁板20aは、例えば、アルミナ(Al23)焼結体のセラミックで構成され、金属箔20b,20cは、銅(Cu)を主成分とする金属で構成されている。また、端子台23a,23bは、例えば、銅(Cu)またはアルミニウム(Al)またはこれらの合金を主成分とした材質により構成されている。
また、金属箔20cに搭載する半導体素子においては、上述したIGBT素子30a,30bに限らず、パワーMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)を用いてもよい。
また、半導体装置1にあっては、金属ベース板10の上端縁に、例えば、PPS(ポリ・フェニレン・サルファイド)製の樹脂ケース40が固設されている。そして、樹脂ケース40の一部には、例えば、IGBT素子30a,30bの主電極に導通する外部接続用端子50a,51a,52a及び外部接続用端子53aがインサート成形されている。
ここで、外部接続用端子50aは、例えば、インバータ回路の正極入力端子(P端子)となり、外部接続用端子51aは、例えば、インバータ回路の負極入力端子(N端子)となる。これらの外部接続用端子50a,51aは、半導体装置1の外部に設置された直流電源の正極、負極にそれぞれ電気的に接続される。また、外部接続用端子52aは、例えば、インバータ回路の交流出力端子(U,V,W相)となる。尚、外部接続用端子53aは、予備端子である。
そして、外部接続用端子50aには、L字形状の配線用端子(リードフレーム)50bの一端が接合している。更に、当該配線用端子50bは、別の端を2股に分岐する構成とし、当該2つの端は、断面が「コ」の字型をした屈曲構造の端子台24bの上面に接合されている。当該接合は、半田付けまたはレーザー溶接による。
また、端子台24bの下面は、金属箔20cの主面に半田付けまたはレーザー溶接によって接合されている。
即ち、半導体装置1においては、樹脂ケース40に固設された外部接続用端子50aに配線用端子50bの一端が電気的に接続され、当該配線用端子50bのもう一方の端は、端子台24b及び金属箔20cを通じて、IGBT素子30bのコレクタ電極並びにFWD素子31bのカソード側に電気的に接続されている。
また、外部接続用端子51aには、L字形状の配線用端子51bの一端が接合されている。そして、配線用端子51bのもう一方の端は、端子台23aの上面に接合されている。これらの接合は、半田付けまたはレーザー溶接による。
即ち、半導体装置1においては、樹脂ケース40に固設された外部接続用端子51aに配線用端子51bの一端が電気的に接続され、当該配線用端子51bのもう一方の端は、端子台23aを通じて、IGBT素子30aのエミッタ電極並びにFWD素子31aのアノード側に電気的に接続されている。
また、外部接続用端子52aには、配線用端子52bの一端が接合されている。また、配線用端子52bは、配線用端子52bの中部において、端子台23bの上面に接合している。そして、外部接続用端子52aは配線用端子50bの下方へ潜るように配置され、2股に分岐された別の端を、断面が「コ」の字型をした屈曲構造の端子台24aの上面に接合している。これらの接合は、半田付けまたはレーザー溶接による。
また、端子台24aの下面は、金属箔20cの主面に半田付けまたはレーザー溶接によって接合されている。
即ち、半導体装置1においては、樹脂ケース40に固設された外部接続用端子52aに配線用端子52bの一端が電気的に接続され、当該配線用端子52bの中部が端子台23bを通じて、IGBT素子30bのエミッタ電極並びにFWD素子31bのアノード側に電気的に接続されている。更に、当該配線用端子52bのもう一方の端は、端子台24a及び金属箔20cを通じて、IGBT素子30aのコレクタ電極並びにFWD素子31aのカソード側に電気的に接続されている。
そして、樹脂ケース40及び金属ベース板10で取り囲まれた空間には、半導体素子、金属ワイヤ21等の保護を目的として、配線用端子50b,51b,52b上にまで、封止用樹脂41が充填している。
ここで、封止用樹脂41の材質は、例えば、ゲルまたはエポキシ樹脂を主成分とする樹脂により構成されている。
尚、図1(a)では、半導体装置1の内部の配置構造を表示するために、封止用樹脂41が表示されていない。
また、外部接続用端子50a,51a,52a,53a、配線用端子50b,51b,52b、並びに端子台24a,24bは、例えば、銅(Cu)またはアルミニウム(Al)またはこれらの合金を主成分とした材質により構成されている。
このように、半導体装置1では、樹脂ケース40に固定支持された複数の外部接続用端子50a,51a,52a,53aと、樹脂ケース40内に包容された、少なくとも一つの半導体素子(例えば、IGBT素子30a,30b、またはFWD素子31a,31b)と、半導体素子に配設された電極(例えば、前記エミッタ電極、前記コレクタ電極、前記アノード、前記カソード)に導通する端子台23a,23b,24a,24bと、端子台23a,23b,24a,24bと外部接続用端子50a,51a,52aとの電気的接続をする配線用端子50b,51b,52bと、を備えている。そして、半導体装置1では、外部接続用端子50a,51a,52aと配線用端子50b,51b,52b、または、端子台23a,23b,24a,24bと外部接続用端子50a,51a,52aとが接合している。
また、半導体装置1にあっては、上述した半導体素子の動作を制御するためのプリント基板(制御用基板)60が樹脂ケース40と蓋部70に挟まれた構造をしている。当該プリント基板60には、電子部品、制御回路、配線パターン等が配置されている(図示しない)。
ここで、蓋部70は、樹脂ケース40に嵌め込まれ、接着材80を介して樹脂ケース40に固着されている。特に、半導体装置1にあっては、プリント基板60の外周全域を蓋部70と樹脂ケース40によって挟む構成としている。
尚、図1(a)では、半導体装置1の内部構造を表示するために、蓋部70を表示せず、プリント基板60の外枠のみを破線で表示している。
また、接着材80としては、例えば、シリコン系接着材或いはエポキシ系接着材が適用される。また、蓋部70の材質は、PPS製である。
また、半導体装置1にあっては、ピン端子22をプリント基板60に貫通させて、当該ピン端子22とプリント基板60に配置された配線パターン(図示しない)とを、半田材によって接合している。当該半田材としては、錫(Sn)−銀(Ag)系の鉛フリー半田が適用される。
また、プリント基板60からは、当該プリント基板60に配置された別の配線パターン(図示しない)に電気的に接続された別のピン端子90が配置されている。そして、当該ピン端子90は、蓋部70を貫通し、蓋部70の上方にまで延出している。
次に、プリント基板60が樹脂ケース40と蓋部70とによって挟まれた構造について詳細に説明する。尚、以下に例示する図では、同一の部材には同一の符号を付している。
図2は第1の実施の形態に係る半導体装置の要部模式図である。図2には、樹脂ケース40と蓋部70に挟まれたプリント基板60の端部周辺が示されている。
樹脂ケース40内にあっては、内壁40waと内壁40wbに段差を設け、プリント基板60の端を支持するための支持部40sを設けている。即ち、支持部40s上にプリント基板60の端を載置することにより、プリント基板60が支持部40sに支持される。
尚、プリント基板60の端は、内壁40waに接触させなくてもよい。
また、蓋部70の外周からは、半導体装置1の下方に向かい、突起部70tが延出している。
そして、プリント基板60の端が蓋部70の突起部70tと樹脂ケース40の支持部40sに挟まれている。
また、プリント基板60の端と、支持部40sと、樹脂ケース40の内壁40waと、突起部70tの先端によって囲まれた空間には、接着材80が配置されている。即ち、接着材80によって、蓋部70の突起部70tが樹脂ケース40に固着している。また、プリント基板60の端が樹脂ケース40の内壁40waに固着している。
尚、半導体装置1にあっては、プリント基板60と突起部70tの接合強度、及び突起部70tと内壁40waとの接合強度を増加させるために、プリント基板60と突起部70tの先端との界面、及び突起部70tと樹脂ケース40の内壁40waとの界面にも接着材80を充填させている。
次に、樹脂ケース40と嵌合する蓋部70の構造について補説する。
図3は第1の実施の形態の蓋部の構造を説明するための要部図である。ここで、図3(a)には、蓋部70の上面が示され、図3(b)には、図3(a)の破線X−X’の位置における断面矢視図が示され、図3(c)には、図3(a)の破線Y−Y’の位置における断面矢視図が示されている。
図示するように、蓋部70の上面は平坦な長方形をしている。そして、当該長方形の外周全域には、突起部70tが設けられている。そして、突起部70tの側面70wと樹脂ケース40の内壁40waとを接着材80を介して接触させることにより、樹脂ケース40内に蓋部70が嵌め込まれる。
このような蓋部70の嵌め込みによって、プリント基板60の外周全域が蓋部70の突起部70tと樹脂ケース40の支持部40sによって挟持される。
尚、図中に示す孔70phは、ピン端子90を通すための貫通孔である。
このように、半導体装置1は、樹脂ケース40と、樹脂ケース40内に収容された半導体素子と、樹脂ケース40内に収容され、半導体素子の動作を制御する制御手段を備えたプリント基板60と、樹脂ケース40に収容された半導体素子及びプリント基板60を覆う蓋部70と、を有している。そして、プリント基板60の外周が樹脂ケース40と蓋部70に挟持されている。
このような半導体装置1は、以下のような有利な効果を有している。
先ず、プリント基板60の外周全域が蓋部70の突起部70tと樹脂ケース40の支持部40sに挟まれていることから、外部からの振動がプリント基板60に伝動し難い。また、冷熱サイクルによって半導体装置1が伸縮しても、当該伸縮がプリント基板60に伝動し難い。
これにより、プリント基板60は変形し難くなり、プリント基板60の半田接合部分の劣化及び電子部品の劣化が起き難くなる。
また、ねじ止めに依らず、プリント基板60を樹脂ケース40に固定していることから、半導体装置1の製造コストが低減する。
更に、ねじ止めに要されるスペースが不要になることから、半導体装置1がコンパクトになる。
また、接着材80によって、プリント基板60及び蓋部70を同時に樹脂ケース40に固設できることから、半導体装置1の組み立てが簡便になる。
また、プリント基板60の端部が接着材80によって被覆されていることから、多層構造のプリント基板60を使用しても、その層間が剥離し難くなる。
このように、半導体装置1は、外部からの振動、半導体装置の冷熱サイクルに対し、充分な耐性を備え、高信頼性を有している。
また、半導体装置1は、プリント基板60を蓋部70によって単に覆う構造としている。これにより、蓋部70のみを解体してプリント基板60の状態を容易に確認することもできる。
次に、半導体装置1の形態を変形させた例について説明する。
図4は第1の実施の形態に係る半導体装置の変形例の要部模式図である。図4には、樹脂ケース40と蓋部70に挟まれたプリント基板60の端部周辺が示されている。
樹脂ケース40にあっては、その内壁40waと内壁40wbに段差を設け、プリント基板60の端を支持するための支持部40sを備えている。
また、蓋部70の外周には、下方に向かって、突起部70tが設けられている。
そして、蓋部70の突起部70tと樹脂ケース40の支持部40sによって、プリント基板60の端を挟む構造をしている。
また、プリント基板60の端と、支持部40sと、樹脂ケース40の内壁40waと、突起部70tの先端によって囲まれた空間には、接着材80が配置されている。即ち、接着材80によって、蓋部70の突起部70tが樹脂ケース40に固着している。また、接着材80によって、プリント基板60の端が樹脂ケース40の内壁40waに固着している。
但し、支持部40sの上面に、断面が凹状の溝部40cを設けている。また、突起部70tの下面に、断面が凹状の溝部70cを設けている。そして、接着材80が上記空間のほか、溝部40c,70cにも埋め込まれている。
これにより、突起部70tと支持部40s間の接着材80の厚みが増加する。従って、突起部70tと樹脂ケース40との接着力がより増加する。
即ち、図4に示す形態によれば、図2に示す形態よりも、蓋部70と樹脂ケース40によって、プリント基板60の端をより強く挟持することができる。その結果、プリント基板60がより変形し難くなる。
このような形態の蓋部70或いは樹脂ケース40を半導体装置1に備えてもよい。
次に、半導体装置1の形態を変形させた別の例について説明する。
図5は第1の実施の形態に係る半導体装置の変形例の要部模式図である。図5には、別の形態の蓋部70が示されている。ここで、図5(a)には、蓋部70の上面が示され、図5(b)には、図5(a)の破線X−X’の位置における断面矢視図が示され、図5(c)には、図5(a)の破線Y−Y’の位置における断面矢視図が示されている。
図示するように、蓋部70の上面は平坦な長方形をしている。そして、当該長方形の外周全域には、突起部70tが設けられている。更に、突起部70tには、凹状に窪んだ凹部70dが複数設けられている。
このような凹部70dを突起部70tに設けると、樹脂ケース40内に蓋部70を嵌め込んだ際、凹部70dにも上記接着材80が埋め込まれる。
これにより、凹部70dと支持部40sとの間では、接着材80の厚みが増加する。従って、蓋部70の凹部70dと樹脂ケース40の支持部40sとの接着力がより増加する。
即ち、図5に示す形態によれば、図3に示す形態よりも、蓋部70と樹脂ケース40によって、プリント基板60の端をより強く挟持することができる。その結果、プリント基板60がより変形し難くなる。
このような形態の蓋部70を半導体装置1に備えてもよい。
次に、半導体装置1の形態を変形させた更に別の例について説明する。
図6は第1の実施の形態に係る半導体装置の変形例の要部模式図である。図6には、上記とは別の形態のプリント基板60が樹脂ケース40内に設置された状態が示されている。
図示する如く、プリント基板60の外端からは、複数の突起部60tが延出している。そして、当該突起部60tは、樹脂ケース40の内壁40waに接蝕している。
このような形態であれば、樹脂ケース40内に当該プリント基板60を設置する場合、当該突起部60tがガイドとなって、樹脂ケース40に対するプリント基板60の位置が正確に決定される。特に、細いピン端子22をプリント基板60に貫通させる際、樹脂ケース40に対するプリント基板60の位置が正確に決定されているので、ピン端子22をプリント基板60に円滑に通すことができる。即ち、図6に示すプリント基板60を用いれば、ピン端子22が損傷を受け難くなる。
このような形態のプリント基板60を半導体装置1に備えてもよい。
<第2の実施の形態>
図7は第2の実施の形態に係る半導体装置の要部模式図である。ここで、図7(a)には、半導体装置2の平面模式図が例示され、図7(b)には図7(a)の破線X−X’の位置における断面を矢印の方向に矢視する図が表示されている。尚、半導体装置2では、半導体装置1と同様の回路構成を有している。従って、半導体装置2における樹脂ケース40内に配置された部材については表示していない。
半導体装置2にあっては、上述した半導体素子の動作を制御するためのプリント基板60が樹脂ケース40と蓋部71に挟まれた構造をしている。
ここで、第2の実施の形態に係る蓋部71は、半導体装置1と同様に樹脂ケース40内に嵌め込まれている。
但し、半導体装置2は、外部接続用端子50aと外部接続用端子51aとの間、及び外部接続用端子52aと外部接続用端子53aとの間にねじ止めによる締付手段を備えている。そして、ねじ(締付部材)71scによるねじ止めによって、蓋部71が樹脂ケース40に固定されている。
また、蓋部71を樹脂ケース40にねじ止めすることにより、支持部40s上に載置したプリント基板60が樹脂ケース40と蓋部71に挟まれる構成になっている。そして、当該半導体装置2においても、プリント基板60の外周全域が蓋部71と樹脂ケース40に強く挟まれている。
次に、第2の実施の形態に係る蓋部71の構造について説明する。
図8は第2の実施の形態の蓋部の構造を説明するための要部図である。ここで、図8(a)には、蓋部71の上面が示され、図8(b)には、図8(a)の破線X−X’の位置における断面矢視図が示され、図8(c)には、図8(a)の破線Y−Y’の位置における断面矢視図が示されている。
図示するように、蓋部71には段差がある。そして、当該蓋部71は、蓋部71の殆どの面積を占める本体部71aと、ねじ止めによってプリント基板60の長手方向における両端を押し付ける押付部71bと、を有している。また、押付部71bには、上記ねじ71scを通すためのねじ孔71hが設けられている。そして、ねじ止めによって蓋部71を樹脂ケース40に固定することにより、プリント基板60の対向する端が押付部71bの下面71sによって押し付けられる(図7参照)。
また、蓋部71にあっては、本体部71aの両端から突起部71tが延出している。そして、突起部71tの下面は、押付部71bの下面71sと同じ高さになっている。
尚、図中に示す孔71phは、ピン端子90を通すための貫通孔である。
このような蓋部71を樹脂ケース40に取り付けることによって、プリント基板60の外周全域が押付部71bの下面71sと樹脂ケース40の支持部40s、並びに蓋部71の突起部71tと樹脂ケース40の支持部40sによって挟持される。
即ち、半導体装置2では、接着材を用いなくとも、プリント基板60の外周全域を蓋部71と樹脂ケース40によって強く挟むことができる。
これにより、半導体装置2では、外部からの振動がプリント基板60に伝動し難い。また、冷熱サイクルによって半導体装置2が伸縮しても、当該伸縮がプリント基板60に伝動し難い。即ち、半導体装置2の動作中に、プリント基板60は変形し難くなり、プリント基板60の半田接合部分の劣化及び電子部品の劣化が起き難くなる。
また、ねじ止めによって、プリント基板60及び蓋部71を同時に樹脂ケース40に固設できることから、半導体装置2の組み立てが簡便になる。
このように、半導体装置2は、外部からの振動、半導体装置の冷熱サイクルに対し、充分な耐性を備え、高信頼性を有している。
また、半導体装置2は、ねじ止めによりプリント基板60を蓋部71によって単に覆う構造としている。これにより、蓋部71を外してプリント基板60の状態を容易に確認することができる。
尚、以上説明した第1の実施の形態、第1の実施の形態の変形例、第2の実施の形態は、それぞれが独立した形態ではなく、これらの形態を複合させてもよい。
第1の実施の形態に係る半導体装置の要部模式図である(その1)。 第1の実施の形態に係る半導体装置の要部模式図である(その2)。 第1の実施の形態の蓋部の構造を説明するための要部図である。 第1の実施の形態に係る半導体装置の変形例の要部模式図である(その1)。 第1の実施の形態に係る半導体装置の変形例の要部模式図である(その2)。 第1の実施の形態に係る半導体装置の変形例の要部模式図である(その3)。 第2の実施の形態に係る半導体装置の要部模式図である。 第2の実施の形態の蓋部の構造を説明するための要部図である。
符号の説明
1,2 半導体装置
10 金属ベース板
20 絶縁基板
20a 絶縁板
20b,20c 金属箔
21 金属ワイヤ
22 ピン端子
23a,23b,24a,24b 端子台
30a,30b IGBT素子
30g 制御電極
31a,31b FWD素子
40 樹脂ケース
40c,70c 溝部
40s 支持部
40wa,40wb 内壁
41 封止用樹脂
50a,51a,52a,53a 外部接続用端子
50b,51b,52b 配線用端子
60 プリント基板
60t,70t,71t 突起部
70,71 蓋部
70d 凹部
70ph,71ph 孔
70w 側面
71a 本体部
71b 押付部
71h ねじ孔
71s 下面
71sc ねじ
80 接着材
90 ピン端子

Claims (7)

  1. 樹脂ケースと、
    前記樹脂ケース内に収容された半導体素子と、
    前記樹脂ケース内に収容され、前記半導体素子の動作を制御する制御手段を備えたプリント基板と、
    前記樹脂ケースに収容された前記半導体素子及び前記プリント基板を覆う蓋と、
    を有し、前記プリント基板の外周が前記樹脂ケースと前記蓋に挟持されていることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記蓋が前記樹脂ケースに接着材によって接着していることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記蓋が前記樹脂ケースに締付部材によって固定されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  4. 前記プリント基板が前記樹脂ケース内に設けられた支持部に支持され、前記プリント基板の外周が前記蓋の外周に設けられた第1の突起部と前記支持部によって挟持されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  5. 前記第1の突起部の下面もしくは前記支持部の上面に溝が形成され、接着材が前記溝に埋め込まれていることを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
  6. 前記蓋の前記突起部に凹部が設けられ、接着材が前記凹部に埋め込まれていることを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
  7. 前記プリント基板の外端から第2の突起部が延出され、前記第2の突起部が前記樹脂ケースの内壁に接触していることを特徴とする請求項1または4記載の半導体装置。
JP2008274170A 2008-10-24 2008-10-24 半導体装置 Expired - Fee Related JP5256994B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008274170A JP5256994B2 (ja) 2008-10-24 2008-10-24 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008274170A JP5256994B2 (ja) 2008-10-24 2008-10-24 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010103343A true JP2010103343A (ja) 2010-05-06
JP5256994B2 JP5256994B2 (ja) 2013-08-07

Family

ID=42293726

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008274170A Expired - Fee Related JP5256994B2 (ja) 2008-10-24 2008-10-24 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5256994B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012004543A (ja) * 2010-05-17 2012-01-05 Fuji Electric Co Ltd 半導体ユニットおよびそれを用いた半導体装置
JP2013110296A (ja) * 2011-11-22 2013-06-06 Shindengen Electric Mfg Co Ltd パワーモジュールおよびその製造方法、並びに樹脂フレーム
WO2013146212A1 (ja) * 2012-03-28 2013-10-03 富士電機株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
US8791563B2 (en) 2012-03-09 2014-07-29 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
US9312192B2 (en) 2012-03-28 2016-04-12 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device
US9385061B2 (en) 2012-03-28 2016-07-05 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
US9504154B2 (en) 2013-06-04 2016-11-22 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07249719A (ja) * 1994-03-14 1995-09-26 Omron Corp 電子機器
JP2004103846A (ja) * 2002-09-10 2004-04-02 Mitsubishi Electric Corp 電力用半導体装置
JP2005216930A (ja) * 2004-01-27 2005-08-11 Kyocera Corp 電気部品
JP2006121861A (ja) * 2004-10-25 2006-05-11 Fuji Electric Fa Components & Systems Co Ltd 電力変換装置
JP2007005551A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Honda Motor Co Ltd 電子制御ユニット及びその製造方法
JP2007317766A (ja) * 2006-05-24 2007-12-06 Calsonic Kansei Corp 基板組付け構造

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07249719A (ja) * 1994-03-14 1995-09-26 Omron Corp 電子機器
JP2004103846A (ja) * 2002-09-10 2004-04-02 Mitsubishi Electric Corp 電力用半導体装置
JP2005216930A (ja) * 2004-01-27 2005-08-11 Kyocera Corp 電気部品
JP2006121861A (ja) * 2004-10-25 2006-05-11 Fuji Electric Fa Components & Systems Co Ltd 電力変換装置
JP2007005551A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Honda Motor Co Ltd 電子制御ユニット及びその製造方法
JP2007317766A (ja) * 2006-05-24 2007-12-06 Calsonic Kansei Corp 基板組付け構造

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012004543A (ja) * 2010-05-17 2012-01-05 Fuji Electric Co Ltd 半導体ユニットおよびそれを用いた半導体装置
JP2013110296A (ja) * 2011-11-22 2013-06-06 Shindengen Electric Mfg Co Ltd パワーモジュールおよびその製造方法、並びに樹脂フレーム
US8791563B2 (en) 2012-03-09 2014-07-29 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
WO2013146212A1 (ja) * 2012-03-28 2013-10-03 富士電機株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
CN104170086A (zh) * 2012-03-28 2014-11-26 富士电机株式会社 半导体装置及半导体装置的制造方法
EP2833405A4 (en) * 2012-03-28 2016-01-13 Fuji Electric Co Ltd SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
US9312192B2 (en) 2012-03-28 2016-04-12 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device
US9379083B2 (en) 2012-03-28 2016-06-28 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
US9385061B2 (en) 2012-03-28 2016-07-05 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
US9504154B2 (en) 2013-06-04 2016-11-22 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP5256994B2 (ja) 2013-08-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5176507B2 (ja) 半導体装置
JP5418668B2 (ja) 半導体装置
JP5256994B2 (ja) 半導体装置
JP5098951B2 (ja) 半導体装置
JP5701377B2 (ja) パワー半導体モジュール及びパワーユニット装置
JP3960230B2 (ja) 半導体モジュールおよびその製造方法並びにスイッチング電源装置
JP2006134990A (ja) 半導体装置
JP5292779B2 (ja) 半導体装置
JP6012533B2 (ja) 電力用半導体装置
JP2013135105A (ja) 電力用半導体装置
JP5935374B2 (ja) 半導体モジュールの製造方法
JP2015142018A (ja) 電力用半導体装置
JP2014154613A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP5218009B2 (ja) 半導体装置
US20220148946A1 (en) Semiconductor device
JP5842489B2 (ja) 半導体装置
JP4715283B2 (ja) 電力変換装置及びその製造方法
US11380608B2 (en) Semiconductor module
JP5533983B2 (ja) 半導体装置
JP2010034204A (ja) バスバーを備える端子の実装構造
JPWO2020153190A1 (ja) 半導体モジュールおよびac/dcコンバータユニット
US20220384321A1 (en) Semiconductor module and method for fabricating the same
JP2023028804A (ja) 半導体装置
JP2023037262A (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP2023031941A (ja) 半導体装置、及び半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20110422

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110812

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120525

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120605

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120806

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130326

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130408

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160502

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5256994

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees