JP2015130405A - 光起電力装置の製造方法 - Google Patents
光起電力装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015130405A JP2015130405A JP2014001207A JP2014001207A JP2015130405A JP 2015130405 A JP2015130405 A JP 2015130405A JP 2014001207 A JP2014001207 A JP 2014001207A JP 2014001207 A JP2014001207 A JP 2014001207A JP 2015130405 A JP2015130405 A JP 2015130405A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffusion layer
- impurity diffusion
- semiconductor substrate
- electrode
- surface side
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Weting (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
【課題】不純物濃度の低い不純物拡散層とペースト電極との間の良好な電気的接続を実現し、光電変換効率に優れた光起電力装置の製造方法を提供する。【解決手段】半導体基板の一面側の表層に設けられた不純物拡散層と、不純物拡散層上に形成された絶縁膜と、半導体基板の一面側に設けられて絶縁膜を貫通して不純物拡散層に接続するペースト電極と、を備えた光起電力装置の製造方法であって、絶縁膜上に金属成分およびガラス成分を含む電極材料ペーストを印刷する工程S60と、電極材料ペーストを焼成してペースト電極を形成する工程S70と、ペースト電極が形成された半導体基板における一面側に対してガラス成分および金属成分を溶解する性質のエッチング液を供給してエッチング処理する工程S80と、を含み、エッチング液の濃度が0.1質量%から1.0質量%の範囲であり、エッチング処理の処理時間が5秒から60秒の範囲である。【選択図】図4
Description
本発明は、光起電力装置の製造方法に関する。
太陽電池には、入射光を内部に取り込む機能、取り込んだ入射光を電気エネルギーに変換する機能、変換した電気エネルギーを外部に取り出す機能、という3つの基本機能がある。そして、太陽電池においては、その性能を高めるために、3つの基本機能のそれぞれが効率的に実行されるための工夫が成されている。
特に近年は、現実的な量産や生産技術における、太陽電池の高光電変換効率化の進展が目覚しい。単結晶シリコン型の太陽電池を例にとれば、安価なコストと生産性とを実現できる構造と製造工程とにより、19%を超える光電変換効率を得る生産が各社で実現されている。一方でそれは実態が理論限界に近付いていることも意味しており、実際に更なる高光電変換効率化を目指すに当たっての課題は、難易度の高い少数の因子に限定される傾向にある。
たとえば電流の向上に関しては、長らく技術的課題の主役だった拡散長やライフタイム等の素材物性品質に替わって、裏面反射や光閉じ込め等の光学的要素が課題の主役になりつつある。これらの要素は学術的な研究水準ではかなり古くから取上げられ、また相当程度の実績も既に得られてはいる。しかし、安価なコストと高い生産性との実現という段階では長い時間を費やしており、十分な実用化に至ったとは未だ言い難い。
実情は少し複雑ながら、電圧の向上に関しても基本的には概ね同様である。第1の技術課題として、pn接合を有する太陽電池基板のバルクおよび表面の双方でのキャリアの再結合を抑制することがある。また、第2技術の課題として、第1の技術課題を解決しようとした場合にその副作用のように現れる、ペースト電極と太陽電池基板との間の良好な電気的コンタクト接続の実現がある。これらの2つの組み合わせにより、電圧の向上が図られる。
従来、これらの課題の解決に当っては、セレクティブエミッタのように、エミッタ構造を領域に応じて再結合抑制と電極コンタクトとで役割分割させることで解決を図る手法が主流であった。しかし、この手法は、ペースト電極と太陽電池基板との間で良好な電気的コンタクトを得るには太陽電池基板の半導体の不純物濃度を相当高くしなければならない、という現実的問題に大きく縛られていた。
近年、電極材料の改善が進み、太陽電池基板の半導体の不純物濃度が従来では採用不可能であった水準でも、ペースト電極と太陽電池基板との間で良好な電気的コンタクトが得られるようになった。このため、セレクティブエミッタのような複雑な構造を採らず、エミッタ全体の不純物濃度を一様に低減して高い電圧を得る検討例が増加している。現実の量産・生産においては、こちらの手法の方がむしろ主流に変わりつつある。
しかし、更なる高光電変換効率化を考慮する場合、上述したようにエミッタ全体の不純物濃度を一様に低減する検討例で用いられている値よりも更に半導体の不純物濃度を低減させたエミッタが求められることになる。この場合には、上記のような改良型の電極材料を用いたとしても、なおペースト電極と太陽電池基板との間の電気的コンタクト抵抗が大きく、太陽電池電極とペースト基板との間の電気的コンタクトを実用に値する水準に到達させることができなくなる。
これを補い、ペースト電極と太陽電池基板との間の電気的接続を改善する方法として、フッ酸水溶液を用いた処理が挙げられる。この処理では、電極材料ペーストの焼成処理の後に太陽電池全体をフッ酸水溶液に浸漬して洗浄する。これにより、ペースト電極と太陽電池基板との間の電気的接続が改善され、ペースト電極と太陽電池基板との間のコンタクト抵抗が低減し、ペースト電極と太陽電池基板との間の電気的接続特性を実用可能な水準に近付けられる(たとえば、特許文献1参照)。
しかしながら、上記のようにエミッタ全体の不純物濃度を低減させた不純物拡散層を対象とすると、電極材料ペースト自体も、より電気的接続を重視した性質が求められる。個別の関係は電極材料ペーストに依存する部分も大きくバラつきもあるが、総括的に見ると電極材料ペーストの電気的接続と物理的付着力とは負の相関がある。このため、特許文献1の処理方法では、電極の物理的付着強度を維持しながら実用可能な水準までペースト電極と太陽電池基板との間のコンタクト抵抗を低減するには、未だ改善の余地がある。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、不純物濃度の低い不純物拡散層とペースト電極との間の良好な電気的接続を実現し、光電変換効率に優れた光起電力装置を製造可能な光起電力装置の製造方法を得ることを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる光起電力装置の製造方法は、半導体基板の一面側の表層に設けられた不純物拡散層と、前記不純物拡散層上に形成された絶縁膜と、前記半導体基板の一面側に設けられて前記絶縁膜を貫通して前記不純物拡散層に電気的および物理的に接続するペースト電極と、を備えた光起電力装置の製造方法であって、前記絶縁膜上に金属成分およびガラス成分を含む電極材料ペーストを印刷する工程と、前記電極材料ペーストを焼成して前記ペースト電極を形成する工程と、前記ペースト電極が形成された前記半導体基板における一面側に対してガラス成分および金属成分を溶解する性質のエッチング液を供給してエッチング処理する工程と、を含み、前記エッチング液の濃度が0.1質量%から1.0質量%の範囲であり、前記エッチング処理の処理時間が5秒から60秒の範囲であること、を特徴とする。
本発明によれば、不純物濃度の低い不純物拡散層とペースト電極との間の良好な電気的接続を実現し、光電変換効率に優れた光起電力装置を得ることができる、という効果を奏する。
以下に、本発明にかかる光起電力装置の製造方法の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は以下の記述に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。また、以下に示す図面においては、理解の容易のため、各部材の縮尺が実際とは異なる場合がある。各図面間においても同様である。
実施の形態1.
図1〜図3は、本発明の実施の形態1にかかる太陽電池セル1の構成を説明するための図であり、図1は、受光面側から見た太陽電池セル1の上面図、図2は、受光面と反対側から見た太陽電池セル1の下面図、図3は、図2のA−A方向における太陽電池セル1の要部断面図である。
図1〜図3は、本発明の実施の形態1にかかる太陽電池セル1の構成を説明するための図であり、図1は、受光面側から見た太陽電池セル1の上面図、図2は、受光面と反対側から見た太陽電池セル1の下面図、図3は、図2のA−A方向における太陽電池セル1の要部断面図である。
実施の形態1にかかる太陽電池セル1においては、p型単結晶シリコンからなる半導体基板13(以下、半導体基板13と呼ぶ場合がある)の受光面側にリン(P)拡散によってn型不純物拡散層15が、半導体基板13の裏面側にp+型不純物拡散層からなるp+型BSF(Back Surface Field)層29が形成されて、pn接合を有する半導体基板11(以下、半導体基板11と呼ぶ場合がある)が形成されている。また、n型不純物拡散層15上にシリコン窒化膜(SiN膜)よりなる反射防止膜17が、同様にp+型BSF層29上にシリコン窒化膜(SiN膜)よりなる裏面パッシベーション膜21が形成されている。
n型不純物拡散層15では、不純物ピーク濃度:3×1019〜2×1020cm−3、不純物拡散深さは0.4〜0.8μmの範囲とされている。また、p+型BSF層29では、不純物ピーク濃度:5×1018〜5×1019cm−3、不純物拡散深さ:1.5〜2.0μmの範囲とされている。なお、半導体基板13としてはp型単結晶のシリコン基板に限定されず、p型多結晶のシリコン基板を用いてもよい。
また、半導体基板11(n型不純物拡散層15)の受光面側の表面には、テクスチャー構造として微小凹凸が形成されている(図示せず)。微小凹凸は、受光面において外部からの光を吸収する面積を増加し、受光面における反射率を抑え、光を閉じ込める構造となっている。反射防止膜17は、シリコン窒化膜(SiN膜)、シリコン酸化膜(SiO2膜)や酸化チタン膜(TiO2)、またはこれらの積層膜や混合膜よりなる絶縁膜からなるようにしてもよい。
半導体基板11の受光面側には、銀、ガラス成分またはセラミック成分を含む電極材料により構成される櫛形形状を呈する受光面側電極19が、反射防止膜17を突き抜けてn型不純物拡散層15に電気的および物理的に接続して設けられている。受光面側電極19としては、半導体基板11の受光面の面内方向において長尺細長のグリッド電極27が複数並べて設けられ、またこのグリッド電極27と導通するバス電極25が半導体基板11の受光面の面内方向において該グリッド電極27と略直交するように設けられており、それぞれ底面部においてn型不純物拡散層15に電気的に接続している。
一方、半導体基板11の裏面(受光面と反対側の面)には、p+型BSF層29の上にシリコン窒化膜(SiN膜)よりなる裏面パッシベーション膜21が形成されている。裏面パッシベーション膜21は、裏面全体にわたって設けられており、前述の通りシリコン窒化膜(SiN膜)の他、シリコン酸化膜(SiO2膜)や酸化チタン膜(TiO2)、またはこれらの積層膜や混合膜よりなる絶縁膜からなるようにしてもよい。
半導体基板11の裏面側には、銀、ガラス成分またはセラミック成分を含む電極材料により構成される櫛形形状を呈する裏面側電極23が、裏面パッシベーション膜21を突き抜けて半導体基板11の裏面側、すなわちp+型BSF層29に電気的および物理的に接続して設けられている。
このように構成された太陽電池セル1では、太陽光が太陽電池セル1の受光面側から半導体基板11のpn接合面(半導体基板11とn型不純物拡散層15との接合面)に照射されると、ホールと電子が生成する。pn接合部の電界によって、生成した電子はn型不純物拡散層15に向かって移動し、ホールは半導体基板11に向かって移動する。これにより、n型不純物拡散層15に電子が過剰となり、半導体基板11にホールが過剰となる結果、光起電力が発生する。この光起電力はpn接合を順方向にバイアスする向きに生じ、n型不純物拡散層15に接続した受光面側電極19がマイナス極となり、半導体基板13に接続した裏面側電極23がプラス極となって、図示しない外部回路に電流が流れる。
上記の太陽電池セル1では、低濃度の不純物拡散層とペースト電極との間で、実用レベルの良好な電気的接続が実現されている。すなわち、受光面側電極19とn型不純物拡散層15との間、および裏面側電極23とp+型BSF層29との間で、実用レベルの良好な電気的接続が実現されている。これにより、太陽電池セル1では、低濃度の不純物拡散層による電圧および光電変換効率の向上を図りつつ、ペースト電極の物理的付着強度を向上させて電極と不純物拡散層との間の電気的コンタクト抵抗が低減されており、光電変換効率に優れた太陽電池セルが実現されている。
つぎに、このような太陽電池セル1の製造方法について説明する。図4は、本発明の実施の形態1にかかる太陽電池セル1の製造工程を説明するためのフローチャートである。図5〜図10は、本発明の実施の形態1にかかる太陽電池セル1の製造工程を説明するための断面図である。
まず、半導体基板13としてp型単結晶シリコン基板を用意する。p型単結晶シリコン基板は、溶融したシリコンを冷却固化してできたインゴットをワイヤーソーでスライスして製造するため、表面にスライス時のダメージが残っている。そこで、まずはこのダメージ層の除去も兼ねて、p型単結晶シリコン基板を加熱したアルカリ溶液中、例えば水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して表面をエッチングすることにより、シリコン基板の切り出し時に発生してp型単結晶シリコン基板の表面近くに存在するダメージ領域を取り除くと同時にp型単結晶シリコン基板の表面にテクスチャー(図示せず)を形成する(ステップS10、図5)。
つぎに、表面にテクスチャー構造を形成したp型単結晶シリコン基板に対して、オキシ塩化リン(POCl3)、リン酸等を熱拡散により拡散させて拡散層(n型不純物拡散層15)を形成することでPN接合を形成する。ここで、n型不純物拡散層15としては、不純物ピーク濃度:3×1019〜2×1020cm−3、不純物拡散深さ:0.4〜0.8μmの範囲の拡散層が形成される。n型不純物拡散層15の形成直後の表面にはガラスを主成分とする膜が形成されているため、フッ酸等を用いて除去する。また、受光面側をレジストや耐酸性樹脂等で保護した後にフッ硝酸溶液中にp型シリコン基板を浸漬することにより、p型単結晶シリコン基板の端面と裏面側との不純物拡散層(n型不純物拡散層15)を除去する(ステップS20、図6)。これにより、第1導電型層であるp型単結晶シリコンからなる半導体基板13の一面側に第2導電型層であるn型不純物拡散層15を有してPN接合が形成された半導体基板11が得られる。
つぎに、光電変換効率改善のために、半導体基板11(n型不純物拡散層15)の受光面側の一面に反射防止膜17を一様な厚みで形成する(ステップS30、図7)。反射防止膜17の膜厚および屈折率は、光反射を最も抑制する値に設定する。反射防止膜17の形成は、例えばプラズマCVD法を使用し、シラン(SiH4)ガスとアンモニア(NH3)ガスの混合ガスを原材料に用いて、300℃以上、減圧下の条件で反射防止膜17として窒化シリコン膜(SiN膜)を成膜形成する。なお、反射防止膜17として、屈折率の異なる2層以上の膜を積層してもよい。また、反射防止膜17の形成方法は、プラズマCVD法の他に蒸着法、熱CVD法などを用いてもよい。なお、このようにして形成される反射防止膜17は絶縁体であることに注意すべきであり、受光面側電極19をこの上に単に形成しただけでは、太陽電池セルとして作用しない。
つぎに、半導体基板11の裏面側に対して、3臭化ホウ素(BBr3)、ホウ酸等を熱拡散により拡散させて拡散層(p+型BSF層29)を形成することでpp+構造を形成する。ここで、p+型BSF層29としては、不純物ピーク濃度:5×1018〜5×1019cm−3、不純物拡散深さ:1.5〜2.0μmの範囲の拡散層が形成される。この際、表面側に形成された反射防止膜17が、この拡散に対するマスクとしても機能する為、表面側(受光面側)にホウ素が拡散されることはない。p+型BSF層29の形成直後の表面にはガラスを主成分とする膜が形成されているため、フッ酸等を用いて除去する。これにより、前述のPN接合に加えてBSF層も含む構造が形成された半導体基板11が得られる(ステップS40、図8)。
つぎに、半導体基板11の裏面のp+型BSF層29の上に裏面パッシベーション膜21を一様の厚みで形成する(ステップS50、図9)。裏面パッシベーション膜21の形成は、例えばプラズマCVD法を使用し、シラン(SiH4)ガスとアンモニア(NH3)ガスの混合ガスを原材料に用いて、300℃以上、減圧下の条件で裏面パッシベーション膜21として窒化シリコン膜(SiN膜)を成膜形成する。
なお、受光面側のn型不純物拡散層15や裏面側のp+型BSF層29、およびその上の反射防止膜17や裏面パッシベーション膜21の形成については、上記でも述べている通り、別の手法を用いても差し支えない。各々選択する手法の特徴に応じて、形成順序も適切に選択し、上記で説明した以外の順序で形成しても差し支えない。
つぎに、反射防止膜17上に、受光面側電極19の電極材料であって金属成分としての銀(Ag)、ガラスフリット等を含む受光面側電極材料ペースト(銀(Ag)ペースト)を、受光面側電極19の形状、すなわちグリッド電極27とバス電極25との形状に選択的にスクリーン印刷法により塗布する。そして、銀(Ag)ペーストを例えば100℃〜300℃で乾燥させて、グリッド電極27とバス電極25を形成する(焼成前、ステップS60)。
つぎに、裏面パッシベーション膜21上に、裏面側電極23の電極材料であって金属成分としての銀(Ag)、ガラスフリット等を含む裏面側電極材料ペースト(銀(Ag)ペースト)を、裏面側電極23の形状に選択的にスクリーン印刷法により塗布する。そして、銀(Ag)ペーストを例えば100℃〜300℃で乾燥させて、裏面側電極23を形成する(焼成前、ステップS60)。裏面側電極23に用いるペースト用の金属成分としては、前後に記述している不純物濃度の範囲内において、前述の銀(Ag)の他、アルミニウム(Al)やガリウム(Ga)などのIII族金属からなる金属粉体、または銀とそれらとの混合粉体を用いても差し支えない。
なお、裏面側電極材料ペーストとして、アルミニウム(Al)、ガラスフリット等を含む裏面側電極材料ペースト(アルミニウム(Al)ペースト)を使用して裏面側電極23を形成することも可能である。また、銀(Ag)ペーストとアルミニウム(Al)ペーストとを使用して、裏面側電極23を形成することも可能である。
その後、半導体基板11の表裏面の電極材料ペーストを例えば600℃〜900℃で同時に焼成する。これにより、受光面側電極19、裏面側電極23が形成される。
すなわち、半導体基板11の表裏両面において銀(Ag)ペースト中に含まれているガラス材料で反射防止膜17および裏面パッシベーション膜21が溶融している間に、銀(Ag)材料が反射防止膜17および裏面パッシベーション膜21を貫通してn型不純物拡散層15やp+型BSF層29の表面部に到達して該表面部を部分的に侵食する。これにより受光面側電極19とn型不純物拡散層15、および裏面側電極23とp+型BSF層29とが電気的および物理的に接続される(ステップS70、図10)。
この焼成工程では、主に銀などの金属成分はペースト電極と不純物拡散層との間の電気的接続を確保するように働く。また、主にガラス成分またはセラミック成分はペースト電極と不純物拡散層との間の物理的付着力を確保するように働く。しかし、この反応は、電極材料ペースト各種の個別な性状への依存が大きい。また、現実問題として、電極材料ペーストを印刷・焼成するのみでペースト電極を形成する場合は、ペースト電極と不純物拡散層との間の電気的接続を良好に確保できる不純物拡散層の不純物濃度の下限は、n型不純物拡散層については2×1020cm−3近辺、p型不純物拡散層については5×1019cm−3近辺までが限界である。
一方、実施の形態1にかかる太陽電池セル1におけるn型不純物拡散層15は、不純物ピーク濃度が3×1019〜2×1020cm−3の範囲とされた、不純物濃度の比較的低い拡散層とされている。また、p+型BSF層29は、不純物ピーク濃度が5×1018〜5×1019cm−3の範囲とされた、不純物濃度の比較的低い拡散層とされている。すなわち、実施の形態1にかかる太陽電池セル1においては、不純物拡散層の不純物濃度が上述した下限範囲よりも低くされており、電極材料ペーストを印刷・焼成するのみではペースト電極と不純物拡散層との間の良好な電気的接続を取ることができない。
このような不純物拡散層の不純物濃度の低さに起因したペースト電極と不純物拡散層との間の電気的接続不足を補って該電気的接続を改善する方法として、本実施の形態では焼成工程の後に、フッ酸水溶液を用いたエッチング処理(フッ酸水溶液処理)および洗浄工程・乾燥工程を行う(ステップS80、ステップS90、ステップS100)。以下に、焼成処理後の半導体基板11をフッ酸水溶液に浸漬することによりペースト電極と不純物拡散層との間の電気的コンタクト抵抗が低減される過程の概要を説明する。
図11および図12は、実施の形態1におけるフッ酸水溶液処理を説明する模式図である。図13および図14は、実施の形態1におけるフッ酸水溶液処理により生じる反応を説明する模式断面図である。上記の焼成処理の後に、たとえばフッ酸水溶液35が貯留された処理槽37に、半導体基板11を保持したキャリア31がアーム33を用いて浸漬され、エッチング処理が行われる(図11)。そして、半導体基板11が所定の時間だけフッ酸水溶液35に浸漬された後、半導体基板11がフッ酸水溶液35から引き上げられる(図12)。これにより、ペースト電極(受光面側電極19、裏面側電極23)と不純物拡散層(n型不純物拡散層15、p+型BSF層29)との界面部分では、金属成分(Ag)およびガラス成分がともにエッチングされて一旦溶解する。
この溶解反応に伴い、受光面側電極19とn型不純物拡散層15との界面には僅かな空隙41が形成される(図13)。しかし、金属成分(Ag)に関しては、エッチングと並行して、または続く洗浄・乾燥の過程で、一旦溶解した金属成分(Ag)が上記の空隙41に再度析出して空隙41が狭まり、受光面側電極19とn型不純物拡散層15との間の電気的接続の経路が増強される形で再構築される(図14)。この作用により、受光面側電極19とn型不純物拡散層15との間のコンタクト抵抗が低減され、受光面側電極19とn型不純物拡散層15との間の電気的接続を強化する効果が得られる。これにより、受光面側電極19とn型不純物拡散層15との間のコンタクト抵抗が低減し、受光面側電極19を太陽電池セルの電極として実用的に機能させることができる。
また、裏面側電極23とp+型BSF層29との界面においても、同様の溶解・析出反応が生じる。したがって、裏面側電極23とp+型BSF層29との間のコンタクト抵抗が低減し、裏面側電極23を太陽電池セルの電極として実用的に機能させることができる。上記の過程により、ペースト電極と不純物拡散層との間の電気的接続に関しては単調に改善が進む。
一方、ガラス成分には再析出のような現象はないので、物理的付着力に関しては上記のエッチング反応(溶解反応)は逆に単調に低下(悪化)する方向に働く。
前述のように、ペースト電極には電気的接続と物理的付着力との双方が求められるため、半導体基板11のフッ酸水溶液への無制限の浸漬処理は適切ではない。太陽電池セルへのタブ付けやモジュール化などの後の工程を考慮して、ペースト電極と不純物拡散層との間の物理的付着力を許容範囲に保つために、フッ酸水溶液の濃度や処理時間などの条件を調整してフッ酸水溶液処理を適正にコントロールする必要がある。
本発明者の検討によれば、一般的傾向として、フッ酸水溶液処理における金属成分(Ag)およびガラス成分の溶解量は、フッ酸水溶液の濃度と処理時間とに依存する。フッ酸水溶液処理の処理時間に関しては、制御性の視点からは5秒程度以上、生産性の視点からは60秒程度以下の範囲とすることが好ましい。すなわち、処理時間が5秒未満の場合には、半導体基板11をフッ酸水溶液35に浸漬してから引き上げるまでの時間が短いため、処理の制御が難しくなる。また、処理時間が60秒以上の場合には、物理的付着力を維持できなくなるリスクが増すことに加え、処理のサイクルタイムが長くなり、生産性が低下する。
ペースト電極(受光面側電極19、裏面側電極23)のフッ酸水溶液処理において、処理時間を上記の範囲に設定するためには、フッ酸水溶液の濃度を概ね0.1〜1.0質量%の範囲とすることが好ましい。産業用に広く流通しているフッ酸水溶液の濃度は50質量%前後であるので、これを基準とすると、概ね50倍〜500倍の希釈に相当する。
半導体基板11に対してフッ酸水溶液処理が行われた後は、半導体基板11に対して洗浄処理(ステップS90)および乾燥処理(ステップS100)が行われる。受光面側電極19とn型不純物拡散層15との界面に形成された空隙41への金属成分の再析出と、該空隙41および半導体基板11からの薬液成分の除去の双方を考慮すると、洗浄処理としてはオーバーフロー方式の水洗槽に半導体基板11を3分から5分間浸漬して洗浄を行う水洗処理が適切である。
以上のような工程を実施することにより、図1〜図3に示す実施の形態1にかかる太陽電池セル1を作製することができる。
上述したフッ酸水溶液処理を焼成後に行うことにより、不純物ピーク濃度が3×1019〜2×1020cm−3の範囲とされたn型不純物拡散層15と受光面側電極19との間の電気的接続を実用レベルにまで向上させることができる。また、上述したフッ酸水溶液処理を焼成後に行うことにより、不純物ピーク濃度が5×1018〜5×1019cm−3の範囲とされたp+型BSF層29と裏面側電極23との間の電気的接続を実用レベルにまで向上させることができる。
これにより、従来は電気的接続の難しかった低濃度の不純物拡散層とペースト電極との間で良好な電気的接続を行うことができ、実用レベルにまで向上させることができる。したがって、低濃度の不純物拡散層による電圧および光電変換効率の向上を図りつつ、電極の物理的付着強度を向上させて電極と不純物拡散層との間のコンタクト抵抗を低減することができ、光電変換効率に優れた太陽電池セルを作製することができる。また、焼成後に行われる工程は、フッ酸水溶液への半導体基板の浸漬および洗浄、乾燥というシンプル且つ安価な工程であるため、低コストで容易に光電変換効率に優れた太陽電池セルを作製することができる。
なお、上記においては半導体基板11をフッ酸水溶液に浸漬する場合について説明したが、上記のフッ酸水溶液処理およびその効果が得られれば、半導体基板11の表面にフッ酸水溶液を供給することによりフッ酸水溶液処理を行ってもよい。
また、上記においては裏面側電極23の形成時にp+型BSF層29を形成する場合について説明したが、たとえば裏面パッシベーション膜21の形成前に、任意の拡散法により半導体基板11の裏面側の表層の全面にまたは部分的にP+層を形成してもよい。P+層が部分的に形成される場合は、該P+層上に裏面側電極23が形成される。
また、上記においてはp型基板太陽電池セルについて説明したが、低濃度化された不純物拡散層を備える太陽電池の製造であればこれに限定されず、たとえばn型基板太陽電池セルの製造においても上述したフッ酸水溶液処理、洗浄処理、乾燥処理を適用することができる。この場合も、上記と同様に低濃度化された不純物拡散層に対して安定的に電気的接続と物理的付着力とを両立させたペースト電極を得ることができる。
また、上記においてはフッ酸水溶液を用いる場合について説明したが、ガラス成分および金属成分を溶解する性質のエッチング液であれば、これに限ったものではなく、例えばフッ化アンモニウム水溶液を用いても同様の効果を得ることができる。
上述したように、実施の形態1にかかる太陽電池セルの製造方法によれば、焼成処理の後に、半導体基板をフッ酸水溶液に浸漬して処理するフッ酸水溶液処理を行う。これにより、低濃度化された不純物拡散層に対して安定的に電気的接続と物理的付着力とを両立させたペースト電極を得ることができ、高光電変換効率の太陽電池セルを低コストで製造することができるという効果を奏する。
実施の形態2.
実施の形態1では、フッ酸水溶液を用いたエッチング処理(フッ酸水溶液処理)において半導体基板11をフッ酸水溶液に対して単純に浸漬する方法を示したが、実施の形態2では半導体基板11の他の浸漬方法について説明する。すなわち、実施の形態2では、焼成後の半導体基板11をフッ散水溶液に浸漬するエッチング工程と、フッ散水溶液に浸漬した半導体基板11をフッ散水溶液から取り出して空気中に保持する保持工程と、を単位処理として、この単位処理を複数回繰り返す。
実施の形態1では、フッ酸水溶液を用いたエッチング処理(フッ酸水溶液処理)において半導体基板11をフッ酸水溶液に対して単純に浸漬する方法を示したが、実施の形態2では半導体基板11の他の浸漬方法について説明する。すなわち、実施の形態2では、焼成後の半導体基板11をフッ散水溶液に浸漬するエッチング工程と、フッ散水溶液に浸漬した半導体基板11をフッ散水溶液から取り出して空気中に保持する保持工程と、を単位処理として、この単位処理を複数回繰り返す。
エッチング工程では、たとえばフッ酸水溶液35が貯留された処理槽37に、半導体基板11を保持したキャリア31がアーム33を用いて浸漬される。そして、エッチング工程では、1回当たり5秒〜10秒程度の短いエッチング処理(浸漬)が行われる。保持工程では、キャリア31に収納された半導体基板11がアーム33を用いて処理槽37から空気中に取り出され、半導体基板11が空気中で10秒〜30秒程度保持される。そして、この単位処理を2〜5回繰り返す手法が、太陽電池セルの品質の安定化に有効である。すなわち、短い時間のエッチング工程を複数回繰り返すことにより、エッチング時間を細かく制御することが可能であり、太陽電池セルの品質の安定化に寄与する。
ガラス成分の溶解反応は、フッ散水溶液中のフッ素イオンに依存する。半導体基板11が空気中に保持される間は、半導体基板11の表面に付着するフッ散水溶液の量が制限される。このため、半導体基板11の表面へのフッ素イオンの供給が制限を受けてガラス成分の溶解反応が抑制される。この溶解反応の抑制は、ペースト電極と不純物拡散層との間の物理的付着力の維持に有効に働く。一方、溶解した金属成分は半導体基板11の表面に付着したフッ散水溶液中に留まり易い。このため、半導体基板11が空気中に保持される間は、ガラス成分とは逆に再析出・経路の再構築がし易くなり、ペースト電極と不純物拡散層との間の電気的接続においてコンタクト抵抗低減の方向に働く。
すなわち、上記の単位処理を行うことにより、ペースト電極と不純物拡散層との間の電気的接続はより改善が促進される方向に、ペースト電極と不純物拡散層との間の物理的付着力の低下(悪化)は抑制される方向に働くので、エッチング処理(フッ酸水溶液処理)の適正範囲を広げることができ、またエッチング処理(フッ酸水溶液処理)を必要な適切な時間に制御することが可能となり、不要にエッチング液(フッ酸水溶液)を用いることを防止できる。これにより、太陽電池セルの品質の安定化、エッチング液(フッ酸水溶液)の寿命の延長、該寿命の延長に対する太陽電池セルの品質の安定化、該寿命の延長による低コスト化、生産性向上に寄与することができる。
上述したように、実施の形態2にかかる太陽電池セルの製造方法によれば、エッチング処理(フッ酸水溶液処理)における浸漬方法をエッチング工程と保持工程とを単位処理として制御することにより、太陽電池セルの品質の安定化、低コスト化、生産性向上に更に寄与することができるという効果を奏する。
なお、上述した実施の形態においてはp型基板太陽電池の製造方法について説明したが、上述した実施の形態にかかる製造方法をn型基板太陽電池の製造に適用してもよい。この場合も上記と同様の効果が得られる。
また、上述した実施の形態においては半導体基板の両面に不純物拡散層が形成される場合について説明したが、上述した実施の形態にかかる製造方法を半導体基板の片面のみに不純物拡散層が形成される場合に適用してもよい。この場合も上記と同様の効果が得られる。
また、裏面側の構成要素であるBSF層や裏面パッシベーション膜、および裏面電極は、その光学的性質において、受光面側の構成要素である接合層や反射防止膜、および受光面電極と本質的に大差はない。したがって、裏面側の構成要素は、その構造設計と製造方法によっては、光学的特性を受光面側と同等にすることも可能である。実施の形態1および実施の形態2も含めて、この場合、どちらの面を受光面とするかは用途や特性の良否に応じて適宜決めてよい。
また、上記の実施の形態で説明した構成を有する太陽電池セルを複数形成し、隣接する太陽電池セル同士を電気的に接続することにより、光電変換効率に優れた太陽電池モジュールが実現できる。この場合は、隣接する太陽電池セルの一方の受光面側電極19と他方の裏面側電極層23とを電気的に直列または並列に接続すればよい。
以上のように、本発明にかかる光起電力装置の製造方法は、低濃度化された不純物拡散層に対して安定的に電気的接続と物理的付着力とを両立させたペースト電極を形成する場合に有用である。
1 太陽電池セル、11 pn接合を有する半導体基板、13 p型単結晶シリコンからなる半導体基板、15 n型不純物拡散層、17 反射防止膜、19 受光面側電極、21 裏面パッシベーション膜、23 裏面側電極、25 バス電極、27 グリッド電極、29 p+型BSF層、31 キャリア、33 アーム、35 フッ酸水溶液、37 処理槽、41 空隙。
Claims (7)
- 半導体基板の一面側の表層に設けられた不純物拡散層と、
前記不純物拡散層上に形成された絶縁膜と、
前記半導体基板の一面側に設けられて前記絶縁膜を貫通して前記不純物拡散層に電気的および物理的に接続するペースト電極と、
を備えた光起電力装置の製造方法であって、
前記絶縁膜上に金属成分およびガラス成分を含む電極材料ペーストを印刷する工程と、
前記電極材料ペーストを焼成して前記ペースト電極を形成する工程と、
前記ペースト電極が形成された前記半導体基板における一面側に対してガラス成分および金属成分を溶解する性質のエッチング液を供給してエッチング処理する工程と、
を含み、
前記エッチング液の濃度が0.1質量%から1.0質量%の範囲であり、
前記エッチング処理の処理時間が5秒から60秒の範囲であること、
を特徴とする光起電力装置の製造方法。 - 前記金属成分が銀またはアルミニウムであり、前記エッチング液が、フッ酸水溶液であること、
を特徴とする請求項1に記載の光起電力装置の製造方法。 - 前記不純物拡散層は、n型不純物濃度が2×1020cm−3以下のn型不純物拡散層であること、
を特徴とする請求項1または2に記載の光起電力装置の製造方法。 - 前記不純物拡散層は、p型不純物濃度が5×1019cm−3以下のp型不純物拡散層であること、
を特徴とする請求項1または2に記載の光起電力装置の製造方法。 - 前記エッチング処理では、
前記電極が形成された前記半導体基板を前記エッチング液に浸漬するエッチング工程と、
前記エッチング液に浸漬した前記半導体基板を前記エッチング液から取り出して空気中に保持する保持工程と、
を複数回繰り返すこと、
を特徴とする請求項1から4のいずれか1つに記載の光起電力装置の製造方法。 - 前記エッチング工程における前記エッチング液への前記半導体基板の浸漬時間は、5秒から10秒の範囲であること、
を特徴とする請求項5に記載の光起電力装置の製造方法。 - 前記保持工程における空気中での前記半導体基板の保持時間は、10秒から30秒の範囲であること、
を特徴とする請求項5に記載の光起電力装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014001207A JP2015130405A (ja) | 2014-01-07 | 2014-01-07 | 光起電力装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014001207A JP2015130405A (ja) | 2014-01-07 | 2014-01-07 | 光起電力装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015130405A true JP2015130405A (ja) | 2015-07-16 |
Family
ID=53760940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014001207A Pending JP2015130405A (ja) | 2014-01-07 | 2014-01-07 | 光起電力装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015130405A (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10233518A (ja) * | 1996-12-20 | 1998-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | 太陽電池の製造方法及び太陽電池並びに半導体装置の製造方法 |
JP2005159174A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Kyocera Corp | 太陽電池素子の製造方法 |
JP2006324519A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 太陽電池の製造方法 |
JP2006324504A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 太陽電池 |
JP2008042095A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体基板並びに電極の形成方法及び太陽電池の製造方法 |
JP2009302345A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | 太陽電池セルの製造方法および太陽電池モジュールの製造方法 |
JP2012074656A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-12 | Mitsubishi Materials Corp | 導電性組成物及びそれを用いた太陽電池の製造方法並びに太陽電池 |
-
2014
- 2014-01-07 JP JP2014001207A patent/JP2015130405A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10233518A (ja) * | 1996-12-20 | 1998-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | 太陽電池の製造方法及び太陽電池並びに半導体装置の製造方法 |
JP2005159174A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Kyocera Corp | 太陽電池素子の製造方法 |
JP2006324519A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 太陽電池の製造方法 |
JP2006324504A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 太陽電池 |
JP2008042095A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体基板並びに電極の形成方法及び太陽電池の製造方法 |
JP2009302345A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | 太陽電池セルの製造方法および太陽電池モジュールの製造方法 |
JP2012074656A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-12 | Mitsubishi Materials Corp | 導電性組成物及びそれを用いた太陽電池の製造方法並びに太陽電池 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4980494B2 (ja) | 太陽電池セルおよびその製造方法 | |
TW201208104A (en) | Ion implanted selective emitter solar cells with in situ surface passivation | |
TWI649883B (zh) | Solar battery unit and method of manufacturing solar battery unit | |
CN104704639B (zh) | 太阳能电池单元的制造方法 | |
TWI611589B (zh) | 太陽電池及太陽電池模組 | |
JP6410951B2 (ja) | 太陽電池セルおよび太陽電池セルの製造方法 | |
JPWO2011024264A1 (ja) | 太陽電池セルおよびその製造方法 | |
JP2007299844A (ja) | 光電変換素子の製造方法 | |
JP2015138959A (ja) | 光起電力装置および光起電力装置の製造方法 | |
JP5830143B1 (ja) | 太陽電池セルの製造方法 | |
JP2016139762A (ja) | 太陽電池素子の製造方法 | |
JP6139466B2 (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JP2011066044A (ja) | 太陽電池素子の製造方法 | |
EP2597685A2 (en) | Photovoltaic device and method of manufacturing the same | |
JP6494414B2 (ja) | 太陽電池セルの製造方法 | |
JP2015130405A (ja) | 光起電力装置の製造方法 | |
JP2011018748A (ja) | 太陽電池セルの製造方法 | |
JP6125042B2 (ja) | 太陽電池セルの製造方法 | |
WO2016072048A1 (ja) | 太陽電池及びその製造方法 | |
JP5316491B2 (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JP6502651B2 (ja) | 太陽電池の製造方法及び太陽電池モジュールの製造方法 | |
JP5848417B1 (ja) | 太陽電池及び太陽電池の製造方法 | |
JP2015216215A (ja) | 裏面接合型太陽電池およびその製造方法 | |
JP2016009803A (ja) | 太陽電池の製造方法および太陽電池 | |
JP2016004943A (ja) | 太陽電池の製造方法および太陽電池 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160414 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170118 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170808 |