JP2015103490A - 発光表示装置及び発光表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1,図2を用いて、本発明の実施形態1に係る発光表示装置の構成を説明する。発光表示装置200は、トランジスタや配線が形成されたトランジスタ基板1、カラーフィルタなどが形成された対向基板2を有する。トランジスタ基板1は画像を表示する表示部3、表示部3の画素を駆動する駆動回路4,5,6、これらの駆動回路を制御するためにガラス基板上に実装されたLSIチップ7及びFPC(Flexible Printed Circuit)などの外部端子と接続するためのFPC端子部8を有する。ここで、表示部3を画素領域、それ以外の駆動回路等が配置された領域を周辺領域という。
図14に、本発明の実施形態2に係る発光表示装置のトランジスタアレイ基板の断面模式図を示す。実施形態2において、実施形態1とは異なる点は、周辺領域の共通電極74がトランジスタ基板の全面に形成されており、第2配線だけではなく周辺回路のトランジスタ92とも重畳している点である。それ以外の点は実施形態1と概略同じであるので、ここでは説明を省略する。
図15に、本発明の実施形態3に係る発光表示装置のトランジスタアレイ基板の断面模式図を示す。実施形態3において、実施形態2と異なる点は、画素領域の第3絶縁膜に該当する膜と周辺領域の第4絶縁膜に該当する膜とが、一部が異なる工程で形成されている点である。それ以外の点は実施形態2と概略同じであるので、ここでは説明を省略する。
図19に、実施形態2のトランジスタアレイ基板1と対向基板2とが貼り合わされた状態のトップエミッション型の有機ELディスプレイの断面模式図を示す。図19において、トランジスタアレイ基板1はトランジスタ層310(ソース・ドレイン電極上の有機膜も含む)、画素電極340、画素領域において画素間に形成された第2絶縁膜を含む土手350、周辺領域において寄生容量を緩和するために厚膜で形成された第4絶縁膜を含む凸部(バンク)352、発光層360、共通電極370、保護膜380を有する。
2:対向基板
3:表示部
4、5、6:駆動回路
7:LSIチップ
8:FPC端子部.
20,21:絶縁膜
22:第1配線
24:第2配線
30:第1絶縁膜
32、34:第3絶縁膜
39:層間膜
40:画素電極
42:外部端子電極
49:画素電極層
50:第2絶縁膜
52:第4絶縁膜
53、54,56:第4絶縁膜の一部の絶縁膜
58:インクジェット法によって形成された絶縁膜
59:第4絶縁膜52の元となる層間膜
60:発光層
62:有機材料の蒸着法
70、72、74:共通電極
80、82:保護膜
90:画素領域のトランジスタ
92:周辺領域のトランジスタ
100:メタルマスク
110:ハーフトーンマスクの遮光膜
112:ハーフトーンマスクの半透過膜
200:表示装置
310:トランジスタ層
340:画素電極
350:土手
352:バンク
360:発光層
370:共通電極
380:保護膜
390:カラーフィルタ(R)
392:カラーフィルタ(G)
394:カラーフィルタ(B)
398:ブラックマトリクス
400、410:オーバーコート膜
420:充填材
Claims (15)
- 基板上に配置された絶縁膜と、
画素領域において前記絶縁膜上に配置された第1配線と、周辺領域において前記絶縁膜上に配置された第2配線と、
前記画素領域と前記周辺領域とに連続して配置された共通電極と、
前記第1配線と前記共通電極との間に配置された第1絶縁層と、
前記第2配線と前記共通電極との間に配置され、前記第1絶縁層よりも厚い第2絶縁層と、を有することを特徴とする発光表示装置。 - 前記共通電極は前記周辺領域に配置された駆動回路と重畳するように配置されることを特徴とする請求項1に記載の発光表示装置。
- 前記第1絶縁層は、第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜上に配置された第2絶縁膜と、を有し、
前記第2絶縁層は、第3絶縁膜と、前記第3絶縁膜上に配置された第4絶縁膜と、を有し、
前記第4絶縁膜は前記第2絶縁膜よりも厚いことを特徴とする請求項2に記載の発光表示装置。 - 前記第2絶縁膜と前記第4絶縁膜とは同じ工程で形成されることを特徴とする請求項3に記載の発光表示装置。
- 前記第2絶縁膜と前記第4絶縁膜とは少なくとも一部が異なる工程で形成されることを特徴とする請求項3に記載の発光表示装置。
- 前記第4絶縁膜の少なくとも一部がインクジェット方式によって形成された絶縁膜であることを特徴とする請求項5に記載の発光表示装置。
- 前記第4絶縁膜が有機膜と無機膜の積層構造であることを特徴とする請求項5に記載の発光表示装置。
- 前記基板に対向する対向基板と、
前記画素と前記対向基板との間に配置されたカラーフィルタと、を有する請求項3に記載の発光表示装置。 - 前記画素領域において、前記対向基板と前記カラーフィルタとの間に透光性を有する膜が配置され、
前記カラーフィルタは、少なくとも第4絶縁膜を含む凸部が前記周辺領域で対向基板に接する位置よりも前記基板に近い位置に配置されることを特徴とする請求項8に記載の発光表示装置。 - 前記凸部は接着剤を介して対向基板に固定されることを特徴とする請求項9に記載の発光表示装置。
- 前記基板と前記対向基板と前記凸部とによって閉じられた空間に充填材が存在することを特徴とする請求項9に記載の発光表示装置。
- 発光表示装置において、
基板上に絶縁膜を形成し、
画素領域において前記絶縁膜上に第1配線を形成し、周辺領域において前記絶縁膜上に第2配線を形成し、 前記第1配線上に第1絶縁層を形成し、前記第2配線上に前記第1絶縁層よりも厚い第2絶縁層を形成し、
前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層上に前記画素領域と前記周辺領域とに連続した共通電極を形成することを特徴とする発光表示装置の製造方法。 - 前記第1絶縁層を形成する工程は、
前記第1配線上に第1絶縁膜を形成し、前記第1絶縁膜上に第2絶縁膜を形成し、
前記第2絶縁層を形成する工程は、
前記第2配線上に第3絶縁膜を形成し、前記第3絶縁膜上に前記第2絶縁膜よりも膜厚が厚い第4絶縁膜を形成し、
前記第2絶縁膜と前記第4絶縁膜とは、多階調マスクを用いた露光によって同じ工程で形成されることを特徴とする請求項12に記載の発光表示装置の製造方法。 - 前記第1絶縁層を形成する工程は、
前記第1配線上に第1絶縁膜を形成し、前記第1絶縁膜上に第2絶縁膜を形成し、
前記第2絶縁層を形成する工程は、
前記第2配線上に第3絶縁膜を形成し、前記第3絶縁膜上に前記第2絶縁膜よりも膜厚が厚い第4絶縁膜を形成し、
前記第2絶縁膜と前記第4絶縁膜とは、複数回の露光によって形成されることを特徴とする請求項12に記載の発光表示装置の製造方法。 - 前記第1絶縁層を形成する工程は、
前記第1配線上に第1絶縁膜を形成し、前記第1絶縁膜上に第2絶縁膜を形成し、
前記第2絶縁層を形成する工程は、
前記第2配線上に第3絶縁膜を形成し、前記第3絶縁膜上に前記第2絶縁膜よりも膜厚が厚い第4絶縁膜をし、
前記第4絶縁膜は、インクジェット工程によって形成されることを特徴とする請求項12に記載の発光表示装置の製造方法。
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