JP2015102698A - 低複屈折性フィルム及びその製造方法、光学用フィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】延伸フィルム等で課題となる複屈折を低減した光学フィルムを提供する。
【解決手段】Ａ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、前記Ａ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含み、前記Ｂ層はアタクチックポリスチレンを含み、前記Ｃ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含み、ここで厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と、厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下である、低複屈折性フィルム。
【選択図】図１
【解決手段】Ａ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、前記Ａ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含み、前記Ｂ層はアタクチックポリスチレンを含み、前記Ｃ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含み、ここで厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と、厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下である、低複屈折性フィルム。
【選択図】図１
Description
本発明は、光学分野で用いる低複屈折性フィルム及びその製造方法、光学用フィルムに関する。
液晶表示装置（ＬＣＤ）を用いた液晶テレビは急速に普及し、高性能化が進んでいる。液晶表示装置の内部は２枚の偏光板が液晶セルを挟む構造をしていて、偏光板はポリビニルアルコール（ＰＶＡ）製の偏光子と、その両面に偏光子保護フィルムとしてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを積層させた構成を有する光学フィルムである。また、従来、液晶テレビなどのディスプレイー内部に用いられる上記光学フィルムは、さらにポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）やポリカーボネート（ＰＣ）フィルム等の光学用フィルムを積層させる等の二次加工を施されている。
これら光学用として用いられるフィルムのうち、延伸法により作製されたフィルムは、ポリマーを構成する鎖状分子が配向することで、平面方向ならびに厚み方向に複屈折を生じやすい。
例えば、偏光子は光を偏光にする働きをするが、偏光が複屈折を持つ物質を透過すると常光と異常光とに分かれ光路差が生じる。この光路差＝複屈折を制御することが光学フィルムの分野において重要な課題になっている。
シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）は分子構造上、ＰＥＴなどの樹脂とは異なる複屈折特性を有することが知られており、特許文献１のように、ポリエステルとの複合化により所望の光拡散を有する光学フィルムとして使用されてきた。特許文献２ではポリスチレン（ＰＳ）とポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）との複合化による位相差フィルムが提案されている。また特許文献３ではＳＰＳとＰＰＥの複合化層とポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）層との積層化による位相差フィルムが提案されている。特許文献２、３ではあくまでＰＰＥとの複合化により位相差を制御するものであって、本発明の目的とする延伸フィルムの複屈折を低減させる（０に近づける）技術ではない。
これら光学用として用いられるフィルムのうち、延伸法により作製されたフィルムは、ポリマーを構成する鎖状分子が配向することで、平面方向ならびに厚み方向に複屈折を生じやすい。
例えば、偏光子は光を偏光にする働きをするが、偏光が複屈折を持つ物質を透過すると常光と異常光とに分かれ光路差が生じる。この光路差＝複屈折を制御することが光学フィルムの分野において重要な課題になっている。
シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）は分子構造上、ＰＥＴなどの樹脂とは異なる複屈折特性を有することが知られており、特許文献１のように、ポリエステルとの複合化により所望の光拡散を有する光学フィルムとして使用されてきた。特許文献２ではポリスチレン（ＰＳ）とポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）との複合化による位相差フィルムが提案されている。また特許文献３ではＳＰＳとＰＰＥの複合化層とポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）層との積層化による位相差フィルムが提案されている。特許文献２、３ではあくまでＰＰＥとの複合化により位相差を制御するものであって、本発明の目的とする延伸フィルムの複屈折を低減させる（０に近づける）技術ではない。
本発明は、光学用フィルムとして用いられるフィルムであって、延伸フィルム等で課題となる複屈折を低減したフィルムを提供することを目的とする。
本発明者らは、シンジオタクチックポリスチレン及びポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物からなる樹脂層と汎用ポリスチレンであるアタクチックポリスチレンを含む組成物からなる中間層とを備え、特定の物性値を有する多層二軸延伸フィルムを用いることにより、上記課題が達成されることを見出した。
すなわち本発明は以下を含むものである。
１．Ａ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、前記Ａ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含み、前記Ｂ層はアタクチックポリスチレンを含み、前記Ｃ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含み、ここで厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と、厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下である低複屈折性フィルム。
２．Ｂ層がアタクチックポリスチレンとシンジオタクチックポリスチレンとを含み、前記Ｂ層中のアタクチックポリスチレンの含有量が６０〜９０質量％である、１に記載の低複屈折性フィルム。
３．Ａ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、前記Ａ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物Ｉから形成され、前記Ｂ層はアタクチックポリスチレンを含む樹脂組成物ＩＩから形成され、前記Ｃ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物ＩＩＩから形成され、ここで厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と、厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下である、低複屈折性フィルム。
４．前記樹脂組成物ＩＩがアタクチックポリスチレンとシンジオタクチックポリスチレンとの混合物を含み、前記樹脂組成物ＩＩ中のアタクチックポリスチレンの含有量が６０〜９０質量％である、３に記載の低複屈折性フィルム。
５．Ａ層／Ｂ層／Ｃ層の厚さの比が１／８／１〜２／１／２である、１〜４のいずれかに記載の低複屈折性フィルム。
６．シンジオタクチックポリスチレンがスチレン単独重合体またはスチレンおよびｐ−メチルスチレンの共重合体である、１〜５のいずれかに記載の低複屈折性フィルム。
７．４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物Ｉと、アタクチックポリスチレンを含む樹脂組成物ＩＩと、４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物ＩＩＩとを溶融共押出後、冷却し、続いて二軸延伸する、３〜６のいずれかに記載の低複屈折性フィルムの製造方法。
８．１〜６のいずれかに記載の低複屈折性フィルムを有する光学用フィルム。
すなわち本発明は以下を含むものである。
１．Ａ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、前記Ａ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含み、前記Ｂ層はアタクチックポリスチレンを含み、前記Ｃ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含み、ここで厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と、厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下である低複屈折性フィルム。
２．Ｂ層がアタクチックポリスチレンとシンジオタクチックポリスチレンとを含み、前記Ｂ層中のアタクチックポリスチレンの含有量が６０〜９０質量％である、１に記載の低複屈折性フィルム。
３．Ａ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、前記Ａ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物Ｉから形成され、前記Ｂ層はアタクチックポリスチレンを含む樹脂組成物ＩＩから形成され、前記Ｃ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物ＩＩＩから形成され、ここで厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と、厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下である、低複屈折性フィルム。
４．前記樹脂組成物ＩＩがアタクチックポリスチレンとシンジオタクチックポリスチレンとの混合物を含み、前記樹脂組成物ＩＩ中のアタクチックポリスチレンの含有量が６０〜９０質量％である、３に記載の低複屈折性フィルム。
５．Ａ層／Ｂ層／Ｃ層の厚さの比が１／８／１〜２／１／２である、１〜４のいずれかに記載の低複屈折性フィルム。
６．シンジオタクチックポリスチレンがスチレン単独重合体またはスチレンおよびｐ−メチルスチレンの共重合体である、１〜５のいずれかに記載の低複屈折性フィルム。
７．４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物Ｉと、アタクチックポリスチレンを含む樹脂組成物ＩＩと、４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物ＩＩＩとを溶融共押出後、冷却し、続いて二軸延伸する、３〜６のいずれかに記載の低複屈折性フィルムの製造方法。
８．１〜６のいずれかに記載の低複屈折性フィルムを有する光学用フィルム。
本発明の多層二軸延伸フィルムは、従来の延伸フィルムと比べて、面方向及び厚み方向の複屈折を大きく低減することができる。
以下、本発明の低複屈折性フィルムを図面を参考にしながら説明する。図１は本発明の低複屈折性フィルムの一態様を示す斜視図であり、後述する方向ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを記載している。図２は、図１のフィルムの断面図である。ここで、本発明の複屈折性フィルムというときは、本発明の第一の低複屈折性フィルムと、後述する本発明の第二の低複屈折性フィルムの双方を意味する。
本発明の第一の低複屈折性フィルムは、図２に示すようにＡ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下であることを特徴とする。
本発明の第一の低複屈折性フィルムは、図２に示すようにＡ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下であることを特徴とする。
［Ａ層］
上記Ａ層は、４５〜９６質量％、好ましくは４５〜９０質量％、より好ましくは４５〜８５質量％のシンジオタクチック構造を有するポリスチレン（シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ））、及び５５〜４質量％、好ましくは５５〜１０質量％、より好ましくは５５〜１５質量％のポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）を含む。ＳＰＳの質量分率が９６質量％を超え、ＰＰＥの質量分率が４質量％未満であると、延伸フィルムの複屈折を低減させることが困難である。また、ＳＰＳの質量分率が４５質量％未満であり、ＰＰＥの質量分率が５５質量％を超えると、フィルムの耐溶剤性等が不十分となり、光学保護フィルムとして用いられる場合に耐溶剤性が不十分であり、液状接着剤等の浸食による透明性の低下等の問題を生じることがある。
上記Ａ層は、４５〜９６質量％、好ましくは４５〜９０質量％、より好ましくは４５〜８５質量％のシンジオタクチック構造を有するポリスチレン（シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ））、及び５５〜４質量％、好ましくは５５〜１０質量％、より好ましくは５５〜１５質量％のポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）を含む。ＳＰＳの質量分率が９６質量％を超え、ＰＰＥの質量分率が４質量％未満であると、延伸フィルムの複屈折を低減させることが困難である。また、ＳＰＳの質量分率が４５質量％未満であり、ＰＰＥの質量分率が５５質量％を超えると、フィルムの耐溶剤性等が不十分となり、光学保護フィルムとして用いられる場合に耐溶剤性が不十分であり、液状接着剤等の浸食による透明性の低下等の問題を生じることがある。
（１）シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）
ＳＰＳにおけるシンジオタクチック構造とは、立体化学構造がシンジオタクチック構造、即ち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフェニル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有するものであり、その立体規則性（タクティシティー）は同位体炭素による核磁気共鳴法（13Ｃ−ＮＭＲ）により定量される。13Ｃ−ＮＭＲ法により測定されるタクティシティーは、連続する複数個のモノマー単位の存在割合、例えば２個の場合はダイアッド、３個の場合はトリアッド、５個の場合はペンタッドによって示すことができる。本発明に言うＳＰＳとは、通常は７５％以上、好ましくは８５％以上のラセミダイアッド、又は３０％以上、好ましくは５０％以上のラセミペンダットのシンジオタクティシティーを有するポリスチレン、ポリ（アルキルスチレン）、ポリ（ビニルスチレン）、ポリ（アリールスチレン）、ポリ（ハロゲン化スチレン）、ポリ（ハロゲン化アルキルスチレン）、ポリ（アルコキシスチレン）、ポリ（ビニル安息香酸エステル）、これらの水素化重合体及びこれらの混合物、またはこれらを主成分とする共重合体を指す。なお、ここでポリ（アルキルスチレン）としては、ポリ（メチルスチレン）、ポリ（エチルスチレン）、ポリ（イソプロピルスチレン）、ポリ（tert−ブチルスチレン）などが挙げられる。ポリ（アリールスチレン）としては、ポリ（フェニルスチレン）が、ポリ（ビニルスチレン）としては、ポリ（ビニルナフタレン）、ポリ（ビニルスチレン）などが挙げられる。ポリ（ハロゲン化スチレン）としては、ポリ（クロロスチレン）、ポリ（ブロモスチレン）、ポリ（フルオロスチレン）などが挙げられる。また、ポリ（ハロゲン化アルキルスチレン）としては、ポリ（クロロメチルスチレン）など、またポリ（アルコキシスチレン）としては、ポリ（メトキシスチレン）、及びポリ（エトキシスチレン）などが挙げられる。
ＳＰＳにおけるシンジオタクチック構造とは、立体化学構造がシンジオタクチック構造、即ち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフェニル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有するものであり、その立体規則性（タクティシティー）は同位体炭素による核磁気共鳴法（13Ｃ−ＮＭＲ）により定量される。13Ｃ−ＮＭＲ法により測定されるタクティシティーは、連続する複数個のモノマー単位の存在割合、例えば２個の場合はダイアッド、３個の場合はトリアッド、５個の場合はペンタッドによって示すことができる。本発明に言うＳＰＳとは、通常は７５％以上、好ましくは８５％以上のラセミダイアッド、又は３０％以上、好ましくは５０％以上のラセミペンダットのシンジオタクティシティーを有するポリスチレン、ポリ（アルキルスチレン）、ポリ（ビニルスチレン）、ポリ（アリールスチレン）、ポリ（ハロゲン化スチレン）、ポリ（ハロゲン化アルキルスチレン）、ポリ（アルコキシスチレン）、ポリ（ビニル安息香酸エステル）、これらの水素化重合体及びこれらの混合物、またはこれらを主成分とする共重合体を指す。なお、ここでポリ（アルキルスチレン）としては、ポリ（メチルスチレン）、ポリ（エチルスチレン）、ポリ（イソプロピルスチレン）、ポリ（tert−ブチルスチレン）などが挙げられる。ポリ（アリールスチレン）としては、ポリ（フェニルスチレン）が、ポリ（ビニルスチレン）としては、ポリ（ビニルナフタレン）、ポリ（ビニルスチレン）などが挙げられる。ポリ（ハロゲン化スチレン）としては、ポリ（クロロスチレン）、ポリ（ブロモスチレン）、ポリ（フルオロスチレン）などが挙げられる。また、ポリ（ハロゲン化アルキルスチレン）としては、ポリ（クロロメチルスチレン）など、またポリ（アルコキシスチレン）としては、ポリ（メトキシスチレン）、及びポリ（エトキシスチレン）などが挙げられる。
なお、これらのうちより好ましいスチレン系重合体としては、ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（ｍ−メチルスチレン）、ポリ（エチルスチレン）、ポリ（ジビニルベンゼン）、ポリ（ｐ−tert−ブチルスチレン）、ポリ（ｐ−クロロスチレン）、ポリ（ｍ−クロロスチレン）、ポリ（ｐ−フルオロスチレン）、水素化ポリスチレン及びこれらの構造単位を含む共重合体が挙げられる。
このようなＳＰＳは、例えば不活性炭化水素溶媒中または溶媒の不存在下で、チタン化合物及び水とトリアルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒として、スチレン系単量体（上記スチレン系重合体に対応する単量体）を重合することにより製造することができる（特開昭６２―１８７７０８号公報）。また、ポリ（ハロゲン化アルキルスチレン）については特開平１−４６９１２号公報、これらの水素化重合体は特開平１−１７８５０５号公報記載の方法などにより得ることができる。
更に、スチレン系共重合体におけるコモノマーとしては、上述の如きスチレン系重合体のモノマーのほか、エチレン，プロピレン，ブテン，ヘキセン，オクテン等のオレフィンモノマー、ブタジエン，イソプレン等のジエンモノマー、環状ジエンモノマーやメタクリル酸メチル，無水マレイン酸，アクリロニトリル等の極性ビニルモノマー等を挙げることができる。特に、スチレン繰返し単位が８０〜１００モル％，ｐ−メチルスチレン繰返し単位が０〜２０モル％からなるスチレン系重合体が好ましく用いられる。
本発明において、ＳＰＳの重量平均分子量は１５０，０００〜３００，０００であることが好ましい。上記範囲であれば、成膜時の加工性が良好となる。また、本発明におけるＳＰＳは、スチレンのみからなる重合体、又はスチレンとｐ−メチルスチレンとからなる共重合体が好ましく、成膜時の加工性の面からスチレンとｐ−メチルスチレンとからなる共重合体がより好ましい。
（２）ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）
ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）は、通常、銅アミン錯体、一種または二種以上の二置換もしくは三置換フェノ−ルの存在下で、ホモポリマ−またはコポリマ−を生成する酸化カップリング反応によって調製される。ここで、銅アミン錯体は第一、第二及びまたは第三アミンから誘導される銅アミン錯体を使用できる。ポリフェニレンエ−テルの例としては、ポリ（２，３−ジメチル−６−エチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−クロロメチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−ヒドロキシエチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−ｎ−ブチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−エチル−６−イソプロピル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−エチル−６−ｎ−プロピル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−（４’−メチルフェニル）−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−ブロモ−６−フェニル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−フェニル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−フェニル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−クロロ−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−クロロ−６−エチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−クロロ−６−ブロモ−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，６−ジ−ｎ−プロピル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−イソプロピル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−クロロ−６−メチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−エチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，６−ジブロモ−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，６−ジクロロ−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，６−ジエチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエ−テル）等が挙げられる。例えば上記ホモポリマーの調製に使用されるようなフェノ−ル化合物の二種またはそれ以上から誘導される共重合体などの共重合体も適切である。また、これらを無水マレイン酸、フマル酸等をはじめとする変性剤で変性したものも好適に用いられる。
ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）は、通常、銅アミン錯体、一種または二種以上の二置換もしくは三置換フェノ−ルの存在下で、ホモポリマ−またはコポリマ−を生成する酸化カップリング反応によって調製される。ここで、銅アミン錯体は第一、第二及びまたは第三アミンから誘導される銅アミン錯体を使用できる。ポリフェニレンエ−テルの例としては、ポリ（２，３−ジメチル−６−エチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−クロロメチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−ヒドロキシエチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−ｎ−ブチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−エチル−６−イソプロピル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−エチル−６−ｎ−プロピル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−（４’−メチルフェニル）−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−ブロモ−６−フェニル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−フェニル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−フェニル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−クロロ−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−クロロ−６−エチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−クロロ−６−ブロモ−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，６−ジ−ｎ−プロピル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−イソプロピル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−クロロ−６−メチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２−メチル−６−エチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，６−ジブロモ−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，６−ジクロロ−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，６−ジエチル−１，４−フェニレンエ−テル）、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエ−テル）等が挙げられる。例えば上記ホモポリマーの調製に使用されるようなフェノ−ル化合物の二種またはそれ以上から誘導される共重合体などの共重合体も適切である。また、これらを無水マレイン酸、フマル酸等をはじめとする変性剤で変性したものも好適に用いられる。
Ａ層には、本発明の目的を阻害しない限り、以下に挙げるような各種添加剤を配合してもよい。
（ｉ）アンチブロッキング剤（ＡＢ剤）
アンチブロッキング剤としては、下記のような無機粒子又は有機粒子が挙げられる。無機粒子としては、ＩＡ族、ＩＩＡ族、ＩＶＡ族、ＶＩＡ族、ＶＩＩＡ族、ＶＩＩＩ族、ＩＢ族、ＩＩＢ族、ＩＩＩＢ族、ＩＶＢ族元素の酸化物、水酸化物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物、炭酸塩、硫酸塩、酢酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸塩、チタン酸塩、硼酸塩並びにそれらの含水化合物，それらを主として含む複合化合物及び天然鉱物粒子が挙げられる。
具体的には、フッ化リチウム、ホウ砂（ホウ酸ナトリウム含水塩）等のＩＡ族元素化合物、炭酸マグネシウム、リン酸マグネシウム、酸化マグネシウム（マグネシア）、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウム、フッ化マグネシウム、チタン酸マグネシウム、珪酸マグネシウム、珪酸マグネシウム含水塩（タルク）、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、亜リン酸カルシウム、硫酸カルシウム（石膏）、酢酸カルシウム、テレフタル酸カルシウム、水酸化カルシウム、珪酸カルシウム、フッ化カルシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、炭酸バリウム、リン酸バリウム、硫酸バリウム、亜硫酸バリウム等のＩＩＡ族元素化合物、二酸化チタン（チタニア）、一酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジルコニウム（ジルコニア）、一酸化ジルコニウム等のＩＶＡ族元素化合物、二酸化モリブデン、三酸化モリブデン、硫化モリブデン等のＶＩＡ族元素化合物、塩化マンガン、酢酸マンガン等のＶＩＩＡ族元素化合物、塩化コバルト、酢酸コバルト等のＶＩＩＩ族元素化合物、ヨウ化第一銅等のＩＢ族元素化合物、酸化亜鉛、酢酸亜鉛等のＩＩＢ族元素化合物、酸化アルミニウム（アルミナ）、水酸化アルミニウム、フッ化アルミニウム、アルミノシリケート（珪酸アルミナ，カオリン，カオリナイト）等のＩＩＩＢ族元素化合物、酸化珪素（シリカ，シリカゲル）、石墨、カーボン、グラファイト、ガラス等のＩＶＢ族元素化合物、カーナル石、カイナイト、雲母（マイカ，キンウンモ）、バイロース鉱等の天然鉱物の粒子が挙げられる。ここで、用いる無機粒子の平均粒径は０．１〜１０μｍのものが好ましい。
有機粒子としては、テフロン（登録商標）、メラミン系樹脂、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂及びそれらの架橋体が挙げられる。なお、上記のような無機又は有機のＡＢ剤は、一種のみを単独または二種以上を組み合わせて用いてもよい。
アンチブロッキング剤としては、下記のような無機粒子又は有機粒子が挙げられる。無機粒子としては、ＩＡ族、ＩＩＡ族、ＩＶＡ族、ＶＩＡ族、ＶＩＩＡ族、ＶＩＩＩ族、ＩＢ族、ＩＩＢ族、ＩＩＩＢ族、ＩＶＢ族元素の酸化物、水酸化物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物、炭酸塩、硫酸塩、酢酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸塩、チタン酸塩、硼酸塩並びにそれらの含水化合物，それらを主として含む複合化合物及び天然鉱物粒子が挙げられる。
具体的には、フッ化リチウム、ホウ砂（ホウ酸ナトリウム含水塩）等のＩＡ族元素化合物、炭酸マグネシウム、リン酸マグネシウム、酸化マグネシウム（マグネシア）、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウム、フッ化マグネシウム、チタン酸マグネシウム、珪酸マグネシウム、珪酸マグネシウム含水塩（タルク）、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、亜リン酸カルシウム、硫酸カルシウム（石膏）、酢酸カルシウム、テレフタル酸カルシウム、水酸化カルシウム、珪酸カルシウム、フッ化カルシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、炭酸バリウム、リン酸バリウム、硫酸バリウム、亜硫酸バリウム等のＩＩＡ族元素化合物、二酸化チタン（チタニア）、一酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジルコニウム（ジルコニア）、一酸化ジルコニウム等のＩＶＡ族元素化合物、二酸化モリブデン、三酸化モリブデン、硫化モリブデン等のＶＩＡ族元素化合物、塩化マンガン、酢酸マンガン等のＶＩＩＡ族元素化合物、塩化コバルト、酢酸コバルト等のＶＩＩＩ族元素化合物、ヨウ化第一銅等のＩＢ族元素化合物、酸化亜鉛、酢酸亜鉛等のＩＩＢ族元素化合物、酸化アルミニウム（アルミナ）、水酸化アルミニウム、フッ化アルミニウム、アルミノシリケート（珪酸アルミナ，カオリン，カオリナイト）等のＩＩＩＢ族元素化合物、酸化珪素（シリカ，シリカゲル）、石墨、カーボン、グラファイト、ガラス等のＩＶＢ族元素化合物、カーナル石、カイナイト、雲母（マイカ，キンウンモ）、バイロース鉱等の天然鉱物の粒子が挙げられる。ここで、用いる無機粒子の平均粒径は０．１〜１０μｍのものが好ましい。
有機粒子としては、テフロン（登録商標）、メラミン系樹脂、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂及びそれらの架橋体が挙げられる。なお、上記のような無機又は有機のＡＢ剤は、一種のみを単独または二種以上を組み合わせて用いてもよい。
（ｉｉ）酸化防止剤
酸化防止剤としてはリン系、フェノール系、イオウ系等公知のものから任意に選択して用いることができる。なお、これらの酸化防止剤は一種のみを単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。さらには、２−〔１−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert−ペンチルフェニル）エチル〕−４，６−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネート〕なども好適に使用される。
酸化防止剤としてはリン系、フェノール系、イオウ系等公知のものから任意に選択して用いることができる。なお、これらの酸化防止剤は一種のみを単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。さらには、２−〔１−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert−ペンチルフェニル）エチル〕−４，６−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネート〕なども好適に使用される。
（ｉｉｉ）核剤
ＳＰＳの結晶化を促進し、より耐溶剤性を高めるために核剤を添加することができる。核剤としてはアルミニウムジ（ｐ−tert−ブチルベンゾエート）をはじめとするカルボン酸の金属塩、メチレンビス（２，４−ジ−tert−ブチルフェノール）アシッドホスフェートナトリウムをはじめとするリン酸の金属塩、タルク、フタロシアニン誘導体等の公知のものから任意に選択して用いることができる。
ＳＰＳの結晶化を促進し、より耐溶剤性を高めるために核剤を添加することができる。核剤としてはアルミニウムジ（ｐ−tert−ブチルベンゾエート）をはじめとするカルボン酸の金属塩、メチレンビス（２，４−ジ−tert−ブチルフェノール）アシッドホスフェートナトリウムをはじめとするリン酸の金属塩、タルク、フタロシアニン誘導体等の公知のものから任意に選択して用いることができる。
（ｉｖ）可塑剤
可塑剤としては、ポリエチレングリコール、ポリアミドオリゴマー、エチレンビスステアロアマイド、フタル酸エステル、ポリスチレンオリゴマー、ポリエチレンワックス、シリコーンオイル等公知のものから任意に選択して用いることができる。なお、これらの可塑剤は一種のみを単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
可塑剤としては、ポリエチレングリコール、ポリアミドオリゴマー、エチレンビスステアロアマイド、フタル酸エステル、ポリスチレンオリゴマー、ポリエチレンワックス、シリコーンオイル等公知のものから任意に選択して用いることができる。なお、これらの可塑剤は一種のみを単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
（ｖ）離型剤
離型剤としては、ポリエチレンワックス，シリコーンオイル，長鎖カルボン酸，長鎖カルボン酸金属塩等公知のものから任意に選択して用いることができる。なお、これらの離型剤は一種のみを単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
離型剤としては、ポリエチレンワックス，シリコーンオイル，長鎖カルボン酸，長鎖カルボン酸金属塩等公知のものから任意に選択して用いることができる。なお、これらの離型剤は一種のみを単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
（ｖｉ）プロセスオイル
本発明においては、伸度の向上のために、４０℃での動粘度が１５〜６００ｍｍ2／ｓであるプロセスオイルを配合することが好ましい。プロセスオイルは、油種により、パラフィン系オイル，ナフテン系オイル，アロマ系オイルに大別されるが、この中でもｎ−ｄ−Ｍ法で算出されるパラフィン（直鎖）に関わる炭素数の全炭素数に対する百分率が６０％Ｃｐ以上のパラフィン系オイルが好ましい。プロセスオイルの粘度としては、４０℃での動粘度が１５〜６００ｍｍ2／ｓが好ましく、１５〜５００ｍｍ2／ｓがより好ましい。プロセスオイルの動粘度が１５ｍｍ2／ｓ未満では伸度向上効果があるものの、沸点が低くＳＰＳとの溶融混練、及び成形時に白煙、ガス焼け、ロール付着等の発生原因になる。また動粘度が６００ｍｍ2／ｓを超えると、白煙ガス焼け等は抑制されるものの、伸度向上効果に乏しい。なおこれらのプロセスオイルは一種のみを単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明においては、伸度の向上のために、４０℃での動粘度が１５〜６００ｍｍ2／ｓであるプロセスオイルを配合することが好ましい。プロセスオイルは、油種により、パラフィン系オイル，ナフテン系オイル，アロマ系オイルに大別されるが、この中でもｎ−ｄ−Ｍ法で算出されるパラフィン（直鎖）に関わる炭素数の全炭素数に対する百分率が６０％Ｃｐ以上のパラフィン系オイルが好ましい。プロセスオイルの粘度としては、４０℃での動粘度が１５〜６００ｍｍ2／ｓが好ましく、１５〜５００ｍｍ2／ｓがより好ましい。プロセスオイルの動粘度が１５ｍｍ2／ｓ未満では伸度向上効果があるものの、沸点が低くＳＰＳとの溶融混練、及び成形時に白煙、ガス焼け、ロール付着等の発生原因になる。また動粘度が６００ｍｍ2／ｓを超えると、白煙ガス焼け等は抑制されるものの、伸度向上効果に乏しい。なおこれらのプロセスオイルは一種のみを単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
上記の各種添加剤の添加量は、樹脂組成物Ｉに、必要に応じて、好ましくは０〜３質量％、より好ましくは０〜１．５質量％の範囲で配合すればよい。また、上記の各種添加剤は、使用する重合体を用いてマスターバッチを作製して添加することもできる。
［Ｂ層］
前記Ｂ層は、汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）を主成分として含み、ＳＰＳを含んでもよい。
Ｂ層中のＧＰＰＳの割合は、好ましくは６０〜９０質量％、より好ましくは７０〜９０質量％である。ＧＰＰＳが６０質量％よりも少ないと積層後の透明性が悪化したり、ＳＰＳを含む表層樹脂層との密着性が不十分となり、熱加工時に層間剥離が生ずることがある。
本発明で用いるＧＰＰＳは、工業的には塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合などの方法によるラジカル重合で得られるスチレン系重合体である。このようなラジカル重合で得られたポリスチレンは、通常アタクチック構造のもので立体規則性を有していない。また、ここで言うアタクチック構造のポリスチレン（アタクチックポリスチレン）は、一種類以上の芳香族ビニル化合物からなる重合体、あるいは一種類以上の芳香族ビニル化合物と共重合可能な一種類以上の他のビニル単量体の共重合体、これらの重合体の水素化重合体及びこれらの混合物であってもよい。但し、耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）は除かれる。ＨＩＰＳに含まれるゴム成分はフィルムの透明性を損なうためである。
前記Ｂ層は、汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）を主成分として含み、ＳＰＳを含んでもよい。
Ｂ層中のＧＰＰＳの割合は、好ましくは６０〜９０質量％、より好ましくは７０〜９０質量％である。ＧＰＰＳが６０質量％よりも少ないと積層後の透明性が悪化したり、ＳＰＳを含む表層樹脂層との密着性が不十分となり、熱加工時に層間剥離が生ずることがある。
本発明で用いるＧＰＰＳは、工業的には塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合などの方法によるラジカル重合で得られるスチレン系重合体である。このようなラジカル重合で得られたポリスチレンは、通常アタクチック構造のもので立体規則性を有していない。また、ここで言うアタクチック構造のポリスチレン（アタクチックポリスチレン）は、一種類以上の芳香族ビニル化合物からなる重合体、あるいは一種類以上の芳香族ビニル化合物と共重合可能な一種類以上の他のビニル単量体の共重合体、これらの重合体の水素化重合体及びこれらの混合物であってもよい。但し、耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）は除かれる。ＨＩＰＳに含まれるゴム成分はフィルムの透明性を損なうためである。
芳香族ビニル化合物としては、スチレン、α―メチルスチレン、メチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、tert−ブチルスチレン、フェニルスチレン、ビニルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、フルオロスチレン、クロロメチルスチレン、メトキシスチレン、エトキシスチレン等があり、これらは一種または二種以上で使用される。これらのうち、好ましい芳香族ビニル化合物としては、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、エチルスチレン、ｐ−tert−ブチルスチレンが挙げられる。
共重合可能な他のビニル単量体としては、アクリロニトリル、メタクロロニトリル等のビニルシアン化合物、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等のアクリル酸エステル、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、オクタデシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等のメタクリル酸エステル、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（ｐ−ブロモフェニル）マレイミド等のマレイミド化合物等がある。
本発明で用いるＧＰＰＳは、重量平均分子量が好ましくは２２０，０００以上である。重量平均分子量が２２０，０００未満では共押出時に幅方向に層比分布ムラが発生する。
また、Ｂ層には、本発明の目的を阻害しない範囲で各種添加剤を配合してもよい。これらの具体例は、Ａ層に記載したものを用いることができる。その配合割合についても同様である。
［Ｃ層］
Ｃ層は、４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む。Ｃ層におけるシンジオタクチックポリスチレンとポリフェニレンエーテルの割合の好ましい範囲とその理由、具体的記載はＡ層と同様である。本発明の目的を阻害しない限り、添加しても良い添加剤も同様である。
Ｃ層は、４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む。Ｃ層におけるシンジオタクチックポリスチレンとポリフェニレンエーテルの割合の好ましい範囲とその理由、具体的記載はＡ層と同様である。本発明の目的を阻害しない限り、添加しても良い添加剤も同様である。
本発明の第一の低複屈折性フィルムはＡ層／Ｂ層／Ｃ層の構成を有する。ここで、Ａ層とＣ層は、同一であってもよいが、上記の範囲内で互いに異なってもよい。上記低複屈折性フィルムの厚みは、好ましくは１０〜２００μｍであり、より好ましくは２０〜１９０μｍである。１０μｍ未満であるとフィルム強度が不足し、２００μｍを越えると強度が高く引き裂きにくくなり、不経済でもある。Ａ層／Ｂ層／Ｃ層の厚さの比率は、好ましくは１／８／１〜２／１／２であり、より好ましくは１／８／１〜３／４／３であり、さらに好ましくは２／６／２〜２／１／２である。Ａ層及びＣ層が相対的に薄すぎると、低複屈折性フィルムの力学強度に問題が生じやすく、Ａ層及びＣ層が相対的に厚すぎると、複屈折が上昇しやすい。
なお、本発明の第一の低複屈折性フィルムは、｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下であるという要件を満たす場合には、Ａ層／Ｂ層／Ｃ層のそれぞれの間に他の層が適宜介在していてもよい。
なお、本発明の第一の低複屈折性フィルムは、｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下であるという要件を満たす場合には、Ａ層／Ｂ層／Ｃ層のそれぞれの間に他の層が適宜介在していてもよい。
本発明の第一の低複屈折性フィルムは、従来用いられている種々の方法により製造することができる。なお、以下に述べる本発明の第二の低複屈折性フィルムの製造方法と同様の方法により製造することができることはいうまでもない。
本発明の第二の低複屈折性フィルムは、Ａ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、Ａ層は樹脂組成物Ｉから形成され、Ｂ層は樹脂組成物ＩＩから形成され、Ｃ層は樹脂組成物ＩＩＩから形成され、厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と、厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下である。
以下、本発明の第二の低複屈折性フィルムについて、本発明の第一の低複屈折性フィルムと同様の記載は省略し、異なる事項のみ説明する。
Ａ層を形成する樹脂組成物Ｉは、４５〜９６質量％、好ましくは４５〜９０質量％、より好ましくは４５〜８５質量％のシンジオタクチック構造を有するポリスチレン（シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ））、及び５５〜４質量％、好ましくは５５〜１０質量％、より好ましくは５５〜１５質量％のポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）を含む。
Ｂ層を形成する樹脂組成物ＩＩは、汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）を主成分として含み、ＳＰＳを含んでもよい。樹脂組成物ＩＩのＧＰＰＳの割合は、好ましくは６０〜９０質量％、より好ましくは７０〜９０質量％である。
Ｃ層を形成する樹脂組成物ＩＩＩは、４５〜９６質量％、好ましくは４５〜９０質量％、より好ましくは４５〜８５質量％のシンジオタクチック構造を有するポリスチレン（シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ））、及び５５〜４質量％、好ましくは５５〜１０質量％、より好ましくは５５〜１５質量％のポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）を含む。
本発明の第二の低複屈折性フィルムは、樹脂組成物Ｉと樹脂組成物ＩＩと樹脂組成物ＩＩＩとを２５０〜３００℃で溶融共押出する方法を用いることにより効率よく製造することができる。共押出方式は、特に制限はないが、フィードブロック方式、マルチマニホールド方式のいずれでもよく、ダイスはコートハンガーダイ、Ｔ−ダイ、円環ダイなどを用いることができる。
本発明の第二の低複屈折性フィルムは、Ａ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、Ａ層は樹脂組成物Ｉから形成され、Ｂ層は樹脂組成物ＩＩから形成され、Ｃ層は樹脂組成物ＩＩＩから形成され、厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と、厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下である。
以下、本発明の第二の低複屈折性フィルムについて、本発明の第一の低複屈折性フィルムと同様の記載は省略し、異なる事項のみ説明する。
Ａ層を形成する樹脂組成物Ｉは、４５〜９６質量％、好ましくは４５〜９０質量％、より好ましくは４５〜８５質量％のシンジオタクチック構造を有するポリスチレン（シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ））、及び５５〜４質量％、好ましくは５５〜１０質量％、より好ましくは５５〜１５質量％のポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）を含む。
Ｂ層を形成する樹脂組成物ＩＩは、汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）を主成分として含み、ＳＰＳを含んでもよい。樹脂組成物ＩＩのＧＰＰＳの割合は、好ましくは６０〜９０質量％、より好ましくは７０〜９０質量％である。
Ｃ層を形成する樹脂組成物ＩＩＩは、４５〜９６質量％、好ましくは４５〜９０質量％、より好ましくは４５〜８５質量％のシンジオタクチック構造を有するポリスチレン（シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ））、及び５５〜４質量％、好ましくは５５〜１０質量％、より好ましくは５５〜１５質量％のポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）を含む。
本発明の第二の低複屈折性フィルムは、樹脂組成物Ｉと樹脂組成物ＩＩと樹脂組成物ＩＩＩとを２５０〜３００℃で溶融共押出する方法を用いることにより効率よく製造することができる。共押出方式は、特に制限はないが、フィードブロック方式、マルチマニホールド方式のいずれでもよく、ダイスはコートハンガーダイ、Ｔ−ダイ、円環ダイなどを用いることができる。
溶融共押出後、冷却し、二軸延伸することで表層樹脂層中のＳＰＳの結晶化度を向上させるとともに、透明性を発現させることができる。二軸延伸の方法としては、同時二軸延伸法又は逐次二軸延伸法を用いる。また、その場合の面積延伸倍率は３〜２０倍が好ましく、５〜１５倍がより好ましい。二軸延伸温度は、４０〜９０℃が好ましく、６０〜８０℃がより好ましい。なお二軸延伸後、熱処理を行うことが好ましく、緊張下において、好ましくは１００〜２５０℃、より好ましくは１５０〜２４０℃で、好ましくは１〜３００秒、より好ましくは１〜６０秒行えばよい。以上の方法により接着剤を用いることなく、層間密着性に優れ、透明性がより高い低複屈折性フィルムを製造することができる。なお、上記以外の方法として、それぞれ単体フィルムを作製した後、接着剤を用いて積層させてもよい。当該低複屈折性フィルムは、層の厚さ比の分布が良好であるため、力学的物性が幅方向で均質で、かつ界面荒れなどがない。
本発明の低複屈折性フィルムは、延伸法で製造されたフィルムが光学用フィルムとして用いられる場合に課題となる複屈折が低減されるという利点を有する。一般的に光学用フィルムの製造法として用いられるキャスティング法と比べて、延伸法はその生産速度等に優れるものである。また、本発明の低複屈折性フィルムは耐溶剤性にも優れ、他の層をさらに積層させる場合にも有利である。光学用フィルムの一例として、本発明の低複屈折性フィルムは、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂（ＰＶＡ）から形成される偏光子の偏光子保護フィルムとして使用できる。
液晶表示装置には、ガラス基板の両側に偏光板を配置することが必要である。偏光板は、一般的には、ポリビニルアルコール系フィルムからなる偏光子の両面に、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いた偏光子保護フィルムを接着剤により貼りあわせたものが用いられている。しかしながら、ＴＡＣは耐湿熱性が十分でなく、ＴＡＣを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板を高温または高湿下において使用すると、偏光度や色相等の偏光板の性能が低下するという欠点がある。そこで、ＴＡＣに代わる偏光子保護フィルムの材料として透明性の高い熱可塑性樹脂が検討されている。
本発明の低複屈折性フィルムは、複屈折が低く、またＡ層／Ｂ層／Ｃ層の構成、すなわちＳＰＳ層がＧＰＰＳ層の外側に配置される構成を有することから耐熱性にも優れる。また、本発明の低複屈折性フィルムは耐溶剤性が高いため、ＰＶＡとの接着に用いる接着剤やコーティング剤等の浸食による透明性の低下等の問題を生じることもない。
また、本発明の低複屈折性フィルムは必要に応じてハードコート層や接着層等他の目的に応じた層を積層させた光学用フィルムとしても有用である。
次に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。
実施例１
出光興産（株）製シンジオタクチックポリスチレン樹脂（ＳＰＳ、商品名ザレック）のグレード６０ＺＣ（ＳＰＳ１、メルトインデックス（ＭＩ）：６、融点２７０℃）と三菱エンジニアリングプラスチック（株）製ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）のグレードＰＸ−１００Ｌ（ＰＰＥ１）を質量分率で９５／５質量％、さらに、このＳＰＳ／ＰＰＥ混合物を１００質量部としてフェノール系酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、リン系酸化防止剤ＰＥＰ３６（（株）ＡＤＥＫＡ製）をそれぞれ０．３質量部添加し、二軸混練機にて３００℃で溶融混練しＡ層及びＣ層用ブレンド材料ＳＰＳ−ａを得た。
ＰＳジャパン（株）製アタクチックポリスチレン樹脂のグレードＧ９３０５にＩｒｇａｎｏｘ１０１０とＰＥＰ３６を０．３質量部添加したものをＧＰＰＳ１とした。
上記Ａ層及びＣ層用樹脂組成物（ＳＰＳ−ａ）およびＢ層用樹脂組成物（ＧＰＰＳ１）をそれぞれ７５ｍｍφ、５０ｍｍφの単軸押出機に投入した後、フィードブロックにより層比がＡ／Ｂ／Ｃ＝２／６／２となるようにＴ−ダイより押出し、６０℃に設定したキャストロールにより厚み５８０μｍの延伸用原反を得た。この原反を延伸温度１２０℃に設定した同時二軸延伸機を用いてＭＤ、ＴＤそれぞれが３．４倍となるように二軸延伸した後、２２０℃の熱風で熱処理を行い５０μｍの二軸延伸フィルムを得た。
この延伸フィルムを大塚電子（株）のレタデーション評価装置ＲＥＴＳ−１００を用いてレタデーション測定を行い、ＭＤ、ＴＤおよび厚み方向の屈折率を算出した。算出した各屈折率より面内の複屈折ΔＮｐ（＝｜Ｎｘ−Ｎｙ｜）および厚み方向の複屈折ΔＮｔ（＝｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜）を計算した。ここで先に定義した通り、Ｎｘは厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率、Ｎｙは方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率、Ｎｚは厚み方向ｎｚの屈折率である。
またこのフィルム表面にバーコーターを用いてメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を２０μｍ厚となるように塗工し、外観変化を観察した。
出光興産（株）製シンジオタクチックポリスチレン樹脂（ＳＰＳ、商品名ザレック）のグレード６０ＺＣ（ＳＰＳ１、メルトインデックス（ＭＩ）：６、融点２７０℃）と三菱エンジニアリングプラスチック（株）製ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）のグレードＰＸ−１００Ｌ（ＰＰＥ１）を質量分率で９５／５質量％、さらに、このＳＰＳ／ＰＰＥ混合物を１００質量部としてフェノール系酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、リン系酸化防止剤ＰＥＰ３６（（株）ＡＤＥＫＡ製）をそれぞれ０．３質量部添加し、二軸混練機にて３００℃で溶融混練しＡ層及びＣ層用ブレンド材料ＳＰＳ−ａを得た。
ＰＳジャパン（株）製アタクチックポリスチレン樹脂のグレードＧ９３０５にＩｒｇａｎｏｘ１０１０とＰＥＰ３６を０．３質量部添加したものをＧＰＰＳ１とした。
上記Ａ層及びＣ層用樹脂組成物（ＳＰＳ−ａ）およびＢ層用樹脂組成物（ＧＰＰＳ１）をそれぞれ７５ｍｍφ、５０ｍｍφの単軸押出機に投入した後、フィードブロックにより層比がＡ／Ｂ／Ｃ＝２／６／２となるようにＴ−ダイより押出し、６０℃に設定したキャストロールにより厚み５８０μｍの延伸用原反を得た。この原反を延伸温度１２０℃に設定した同時二軸延伸機を用いてＭＤ、ＴＤそれぞれが３．４倍となるように二軸延伸した後、２２０℃の熱風で熱処理を行い５０μｍの二軸延伸フィルムを得た。
この延伸フィルムを大塚電子（株）のレタデーション評価装置ＲＥＴＳ−１００を用いてレタデーション測定を行い、ＭＤ、ＴＤおよび厚み方向の屈折率を算出した。算出した各屈折率より面内の複屈折ΔＮｐ（＝｜Ｎｘ−Ｎｙ｜）および厚み方向の複屈折ΔＮｔ（＝｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜）を計算した。ここで先に定義した通り、Ｎｘは厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率、Ｎｙは方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率、Ｎｚは厚み方向ｎｚの屈折率である。
またこのフィルム表面にバーコーターを用いてメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を２０μｍ厚となるように塗工し、外観変化を観察した。
実施例２
Ａ層及びＣ層用樹脂組成物してＳＰＳ１およびＰＰＥ１を７０／３０質量％の割合でブレンドしたものに、実施例１と同様に酸化防止剤を加えて溶融混練しＳＰＳ−ｂを得た。このＡ層及びＣ層用樹脂組成物ＳＰＳ−ｂとＢ層用樹脂組成物ＧＰＰＳ１を実施例１と同様に溶融押出、キャストし、延伸温度を１４０℃として二軸延伸を行い延伸フィルムを得た。
このフィルムについて実施例１と同様に複屈折評価と耐溶剤性評価を行った。
Ａ層及びＣ層用樹脂組成物してＳＰＳ１およびＰＰＥ１を７０／３０質量％の割合でブレンドしたものに、実施例１と同様に酸化防止剤を加えて溶融混練しＳＰＳ−ｂを得た。このＡ層及びＣ層用樹脂組成物ＳＰＳ−ｂとＢ層用樹脂組成物ＧＰＰＳ１を実施例１と同様に溶融押出、キャストし、延伸温度を１４０℃として二軸延伸を行い延伸フィルムを得た。
このフィルムについて実施例１と同様に複屈折評価と耐溶剤性評価を行った。
実施例３
Ａ層及びＣ層用樹脂組成物としてＳＰＳ１およびＰＰＥ１を５０／５０質量％の割合でブレンドしたものに、実施例１と同様に酸化防止剤を加えて溶融混練しＳＰＳ−ｃを得た。このＡ層及びＣ層用樹脂組成物ＳＰＳ−ｃとＢ層用樹脂組成物ＧＰＰＳ１を実施例１と同様に溶融押出、キャストし、延伸温度を１６０℃として二軸延伸を行い延伸フィルムを得た。
このフィルムについて実施例１と同様に複屈折評価と耐溶剤性評価を行った。
Ａ層及びＣ層用樹脂組成物としてＳＰＳ１およびＰＰＥ１を５０／５０質量％の割合でブレンドしたものに、実施例１と同様に酸化防止剤を加えて溶融混練しＳＰＳ−ｃを得た。このＡ層及びＣ層用樹脂組成物ＳＰＳ−ｃとＢ層用樹脂組成物ＧＰＰＳ１を実施例１と同様に溶融押出、キャストし、延伸温度を１６０℃として二軸延伸を行い延伸フィルムを得た。
このフィルムについて実施例１と同様に複屈折評価と耐溶剤性評価を行った。
実施例４
Ａ層及びＣ層用樹脂組成物として用いられるＳＰＳとして出光興産（株）製シンジオタクチックポリスチレン樹脂（ＳＰＳ、商品名ザレック）のグレード６２ＺＥ（ＳＰＳ２、ＭＩ：６、融点２５０℃）を用い、ＳＰＳ２およびＰＰＥ１を７０／３０質量％の割合でブレンドしたものに、実施例１と同様に酸化防止剤を加えて溶融混練しＳＰＳ−ｄを得た。このＡ層及びＣ層用樹脂組成物ＳＰＳ−ｄとＢ層用樹脂組成物ＧＰＰＳ１を実施例２と同様に溶融押出、キャストし、ＭＤ、ＴＤそれぞれが３．４倍となるように二軸延伸を行い延伸フィルムを得た。
このフィルムについて実施例１と同様に複屈折評価と耐溶剤性評価を行った。
Ａ層及びＣ層用樹脂組成物として用いられるＳＰＳとして出光興産（株）製シンジオタクチックポリスチレン樹脂（ＳＰＳ、商品名ザレック）のグレード６２ＺＥ（ＳＰＳ２、ＭＩ：６、融点２５０℃）を用い、ＳＰＳ２およびＰＰＥ１を７０／３０質量％の割合でブレンドしたものに、実施例１と同様に酸化防止剤を加えて溶融混練しＳＰＳ−ｄを得た。このＡ層及びＣ層用樹脂組成物ＳＰＳ−ｄとＢ層用樹脂組成物ＧＰＰＳ１を実施例２と同様に溶融押出、キャストし、ＭＤ、ＴＤそれぞれが３．４倍となるように二軸延伸を行い延伸フィルムを得た。
このフィルムについて実施例１と同様に複屈折評価と耐溶剤性評価を行った。
実施例５
Ａ層、Ｂ層及びＣ層の厚さの比をＡ／Ｂ／Ｃ＝１／８／１とした以外は実施例１と同様に延伸フィルムを作製し、同様な評価を実施した。
Ａ層、Ｂ層及びＣ層の厚さの比をＡ／Ｂ／Ｃ＝１／８／１とした以外は実施例１と同様に延伸フィルムを作製し、同様な評価を実施した。
比較例１
ＳＰＳ１に酸化防止剤を実施例１と同様に添加したもの単体および単層で、実施例１と同様に溶融押出、二軸延伸を行い延伸フィルムを作製した。本延伸フィルムに対し実施例１と同様に評価を行った。
ＳＰＳ１に酸化防止剤を実施例１と同様に添加したもの単体および単層で、実施例１と同様に溶融押出、二軸延伸を行い延伸フィルムを作製した。本延伸フィルムに対し実施例１と同様に評価を行った。
比較例２
ＳＰＳ２を用いた以外は比較例１と同様に延伸フィルムを作製し、評価を行った。
ＳＰＳ２を用いた以外は比較例１と同様に延伸フィルムを作製し、評価を行った。
比較例３
ＳＰＳ−ａのみを単層で、実施例１と同様に溶融押出、二軸延伸を行い延伸フィルムを作製した。本延伸フィルムに対し実施例１と同様に評価を行った。
比較例４
Ａ層及びＣ層用樹脂組成物としてＳＰＳ１およびＰＰＥ１を９７／３質量％の割合でブレンドしたものに、実施例１と同様に酸化防止剤を加えて溶融混練しＳＰＳ−ｅを得た。このＡ層及びＣ層用樹脂組成物ＳＰＳ−ｅとＢ層用樹脂組成物ＧＰＰＳ１を実施例１と同様に溶融押出、キャスト、二軸延伸を行い延伸フィルムを得た。
このフィルムについて実施例１と同様に複屈折評価と耐溶剤性評価を行った。
ＳＰＳ−ａのみを単層で、実施例１と同様に溶融押出、二軸延伸を行い延伸フィルムを作製した。本延伸フィルムに対し実施例１と同様に評価を行った。
比較例４
Ａ層及びＣ層用樹脂組成物としてＳＰＳ１およびＰＰＥ１を９７／３質量％の割合でブレンドしたものに、実施例１と同様に酸化防止剤を加えて溶融混練しＳＰＳ−ｅを得た。このＡ層及びＣ層用樹脂組成物ＳＰＳ−ｅとＢ層用樹脂組成物ＧＰＰＳ１を実施例１と同様に溶融押出、キャスト、二軸延伸を行い延伸フィルムを得た。
このフィルムについて実施例１と同様に複屈折評価と耐溶剤性評価を行った。
比較例５
Ａ層及びＣ層用樹脂組成物としてＳＰＳ１およびＰＰＥ１を４０／６０質量％の割合でブレンドしたものに、実施例１と同様に酸化防止剤を加えて溶融混練しＳＰＳ−ｆを得た。このＡ層及びＣ層用樹脂組成物ＳＰＳ−ｆとＢ層用樹脂組成物ＧＰＰＳ１を実施例１と同様に溶融押出、キャストし、延伸温度１７０℃で二軸延伸を行ったが、熱処理温度２２０℃ではフィルムが破断したため、熱処理温度１８０℃まで下げてフィルムを得た。
このフィルムについて実施例１と同様に複屈折評価と耐溶剤性評価を行った。
Ａ層及びＣ層用樹脂組成物としてＳＰＳ１およびＰＰＥ１を４０／６０質量％の割合でブレンドしたものに、実施例１と同様に酸化防止剤を加えて溶融混練しＳＰＳ−ｆを得た。このＡ層及びＣ層用樹脂組成物ＳＰＳ−ｆとＢ層用樹脂組成物ＧＰＰＳ１を実施例１と同様に溶融押出、キャストし、延伸温度１７０℃で二軸延伸を行ったが、熱処理温度２２０℃ではフィルムが破断したため、熱処理温度１８０℃まで下げてフィルムを得た。
このフィルムについて実施例１と同様に複屈折評価と耐溶剤性評価を行った。
実施例１〜５の評価結果を表１に、比較例１〜５の評価結果を表２に示した。
表１、表２から分かるように、本発明の低複屈折性フィルムは、複屈折が低減され、耐溶剤性に問題のないフィルムである。
１…Ａ層、２…Ｂ層、３…Ｃ層
Claims (8)
- Ａ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、前記Ａ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含み、前記Ｂ層はアタクチックポリスチレンを含み、前記Ｃ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含み、ここで厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と、厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下である、低複屈折性フィルム。
- Ｂ層がアタクチックポリスチレンとシンジオタクチックポリスチレンとを含み、前記Ｂ層中のアタクチックポリスチレンの含有量が６０〜９０質量％である、請求項１に記載の低複屈折性フィルム。
- Ａ層／Ｂ層／Ｃ層を有する多層二軸延伸フィルムであり、前記Ａ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物Ｉから形成され、前記Ｂ層はアタクチックポリスチレンを含む樹脂組成物ＩＩから形成され、前記Ｃ層は４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物ＩＩＩから形成され、ここで厚み方向に垂直なフィルム面内の最大屈折率を与える方向ｎｘの屈折率をＮｘ、厚み方向に垂直なフィルム面内の前記方向ｎｘに直交する方向ｎｙの屈折率をＮｙ、さらに厚み方向ｎｚの屈折率をＮｚとした際に、ＮｘとＮｙとの差の絶対値｜Ｎｘ−Ｎｙ|が０．０５以下であり、かつ屈折率Ｎｘ及びＮｙの平均値と、厚み方向ｎｚの屈折率Ｎｚとの差の絶対値｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜が０．０５以下である、低複屈折性フィルム。
- 前記樹脂組成物ＩＩがアタクチックポリスチレンとシンジオタクチックポリスチレンとの混合物を含み、前記樹脂組成物ＩＩ中のアタクチックポリスチレンの含有量が６０〜９０質量％である、請求項３に記載の低複屈折性フィルム。
- Ａ層／Ｂ層／Ｃ層の厚さの比が１／８／１〜２／１／２である、請求項１〜４のいずれかに記載の低複屈折性フィルム。
- シンジオタクチックポリスチレンがスチレン単独重合体またはスチレンおよびｐ−メチルスチレンの共重合体である、請求項１〜５のいずれかに記載の低複屈折性フィルム。
- ４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物Ｉと、アタクチックポリスチレンを含む樹脂組成物ＩＩと、４５〜９６質量％のシンジオタクチックポリスチレン及び５５〜４質量％のポリフェニレンエーテルを含む樹脂組成物ＩＩＩとを溶融共押出後、冷却し、続いて二軸延伸する、請求項３〜６のいずれかに記載の低複屈折性フィルムの製造方法。
- 請求項１〜６のいずれかに記載の低複屈折性フィルムを有する光学用フィルム。
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| JP2013243369A JP2015102698A (ja) | 2013-11-25 | 2013-11-25 | 低複屈折性フィルム及びその製造方法、光学用フィルム |
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| JP2013243369A Pending JP2015102698A (ja) | 2013-11-25 | 2013-11-25 | 低複屈折性フィルム及びその製造方法、光学用フィルム |
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