JP2015080738A - トラップ装置及び基板処理装置 - Google Patents
トラップ装置及び基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015080738A JP2015080738A JP2013218718A JP2013218718A JP2015080738A JP 2015080738 A JP2015080738 A JP 2015080738A JP 2013218718 A JP2013218718 A JP 2013218718A JP 2013218718 A JP2013218718 A JP 2013218718A JP 2015080738 A JP2015080738 A JP 2015080738A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trap
- upstream
- downstream
- opening
- gas flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 16
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims abstract description 134
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 82
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 17
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 3
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
- B01D46/56—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours with multiple filtering elements, characterised by their mutual disposition
- B01D46/62—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours with multiple filtering elements, characterised by their mutual disposition connected in series
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4412—Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/32816—Pressure
- H01J37/32834—Exhausting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/32816—Pressure
- H01J37/32834—Exhausting
- H01J37/32844—Treating effluent gases
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
Abstract
Description
上記一実施形態では、下流側トラップ部材130と、内側筒状部材120の上流側開口120aとの間に一つの上流側トラップ部材140を配置するトラップ装置100を一例として示したが、これには限られない。以下、トラップ装置の変形例1について説明する。図5は、一実施形態におけるトラップ装置の変形例1の断面図である。
また、上記一実施形態では、下流側トラップ部材130は、内側筒状部材120において、下流側端壁113から上流側端壁111に向けて離間しない位置に配置される例を示した、これには限られない。以下、トラップ装置の変形例2について説明する。図6は、一実施形態におけるトラップ装置の変形例2の断面図である。
2 下部電極
2a 基材
5 フォーカスリング
6 静電チャック
6a 電極
6b 絶縁層
16 上部電極
72 排気管(排気流路)
73 排気装置
100 トラップ装置
110 外側筒状部材(第1の筒状部材)
120 内側筒状部材(第2の筒状部材)
120a 上流側開口
120b 下流側開口
130 下流側トラップ部材
140 上流側トラップ部材
142 凹部
142a 貫通孔
Claims (7)
- 空間を有する第1の筒状部材と、
前記空間に着脱自在に配置され、気体流を流入させる上流側開口と、前記上流側開口から流入される前記気体流を流出させる下流側開口とを有する第2の筒状部材と、
前記下流側開口を塞ぐように前記第2の筒状部材の内部に配置された下流側トラップ部材と、
前記下流側トラップ部材と、前記第2の筒状部材の前記上流側開口との間に配置され、前記下流側トラップ部材に近づく向きに凹む凹部を有する上流側トラップ部材と
を備えたことを特徴とするトラップ装置。 - 前記上流側トラップ部材は、前記凹部の径が前記下流側トラップ部材に近づく向きに沿って小さくなる形状に形成されることを特徴とする請求項1に記載のトラップ装置。
- 前記上流側トラップ部材は、前記下流側トラップ部材に近づく向きに尖る円錐形状に形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載のトラップ装置。
- 前記上流側トラップ部材は、前記下流側トラップ部材に近づく向きに沿って、前記下流側トラップ部材と、前記第2の筒状部材の前記上流側開口との間に複数配置されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載のトラップ装置。
- 複数の前記上流側トラップ部材の各々は、気体流を通過させる貫通孔を含み、
前記貫通孔の密度及び径の少なくともいずれか一方が複数の前記上流側トラップ部材の間で異なることを特徴とする請求項4に記載のトラップ装置。 - 前記第1の筒状部材は、
前記第2の筒状部材の側方を囲繞する筒体と、
前記筒体の、前記第2の筒状部材の前記上流側開口側の端部を塞ぐように前記筒体に着脱自在に装着される上流側端壁と、
前記筒体の、前記第2の筒状部材の前記下流側開口側の端部を塞ぐように前記筒体に取り付けられ、前記筒体及び前記上流側壁とともに前記空間を構築する下流側端壁と
を有し、
前記下流側トラップ部材は、前記第2の筒状部材の内部において、前記下流側端壁から前記上流側端壁に向けて所定の距離だけ離間した位置に配置されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載のトラップ装置。 - 被処理基板を処理するための処理容器と、
前記処理容器の内部を減圧するための排気装置と、
前記処理容器と前記排気装置とを接続する排気流路と、
前記排気流路に設けられたトラップ装置とを備えた基板処理装置であって、
前記トラップ装置は、
空間を有する第1の筒状部材と、
前記空間に着脱自在に配置され、気体流を流入させる上流側開口と、前記上流側開口から流入される前記気体流を流出させる下流側開口とを有する第2の筒状部材と、
前記下流側開口を塞ぐように前記第2の筒状部材の内部に配置された下流側トラップ部材と、
前記下流側トラップ部材と、前記第2の筒状部材の前記上流側開口との間に配置され、前記下流側トラップ部材に近づく向きに凹む凹部を有する上流側トラップ部材と
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013218718A JP6289859B2 (ja) | 2013-10-21 | 2013-10-21 | トラップ装置及び基板処理装置 |
TW103135921A TWI659123B (zh) | 2013-10-21 | 2014-10-17 | 補集裝置及基板處理裝置 |
US14/518,079 US20150107771A1 (en) | 2013-10-21 | 2014-10-20 | Trap apparatus and substrate processing apparatus |
KR1020140142632A KR102301024B1 (ko) | 2013-10-21 | 2014-10-21 | 트랩 장치 및 기판 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013218718A JP6289859B2 (ja) | 2013-10-21 | 2013-10-21 | トラップ装置及び基板処理装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015080738A true JP2015080738A (ja) | 2015-04-27 |
JP2015080738A5 JP2015080738A5 (ja) | 2016-11-04 |
JP6289859B2 JP6289859B2 (ja) | 2018-03-07 |
Family
ID=52825133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013218718A Active JP6289859B2 (ja) | 2013-10-21 | 2013-10-21 | トラップ装置及び基板処理装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20150107771A1 (ja) |
JP (1) | JP6289859B2 (ja) |
KR (1) | KR102301024B1 (ja) |
TW (1) | TWI659123B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107201506A (zh) * | 2016-03-17 | 2017-09-26 | 东京毅力科创株式会社 | 捕集装置和使用该捕集装置的排气系统、基板处理装置 |
JP2019121798A (ja) * | 2017-12-27 | 2019-07-22 | ミラエボ カンパニー リミテッド | 半導体工程における副産物取込装置 |
JP2021034709A (ja) * | 2019-08-21 | 2021-03-01 | ミラエボ カンパニー リミテッド | 半導体プロセス用流路方向転換式反応副産物捕集装置 |
KR20210150298A (ko) | 2020-06-03 | 2021-12-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 트랩 장치 및 기판 처리 장치 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106191812B (zh) * | 2015-05-05 | 2019-01-22 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 化学气相沉积装置及清洁其排气口的方法 |
DE102015219925A1 (de) * | 2015-10-14 | 2017-04-20 | Wacker Chemie Ag | Reaktor zur Abscheidung von polykristallinem Silicium |
CN109097755A (zh) * | 2017-06-20 | 2018-12-28 | 华邦电子股份有限公司 | 工艺腔室气体检测系统及其操作方法 |
KR101957054B1 (ko) * | 2017-10-31 | 2019-03-11 | 안호상 | 승화정제기용 ln2 트랩 장치 |
KR101957055B1 (ko) * | 2017-10-31 | 2019-03-11 | 안호상 | 승화정제기 |
US11583793B2 (en) * | 2019-10-08 | 2023-02-21 | Utica Leaseco, Llc | Gas trap system having a conical inlet condensation region |
CN113990730B (zh) * | 2020-07-27 | 2023-10-31 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 等离子体处理装置及其中的气流调节盖和气流调节方法 |
US20220170151A1 (en) * | 2020-12-01 | 2022-06-02 | Applied Materials, Inc. | Actively cooled foreline trap to reduce throttle valve drift |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0487721U (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-30 | ||
JPH0775713A (ja) * | 1993-09-07 | 1995-03-20 | Teijin Ltd | 液滴除去装置 |
JP2000256856A (ja) * | 1999-03-11 | 2000-09-19 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理装置用真空排気システム及び減圧cvd装置及び減圧cvd装置用真空排気システム及びトラップ装置 |
JP2003529445A (ja) * | 2000-01-21 | 2003-10-07 | エムケイエス・インストゥルメンツ・インコーポレーテッド | アルミニウムエッチング廃気から凝縮性アルミニウム蒸気を除去するための装置及び方法 |
US20090100811A1 (en) * | 2007-10-17 | 2009-04-23 | Scheckel Benjamin L | Inertial Gas-Liquid Separator with Constrictable and Expansible Nozzle Valve Sidewall |
JP2009101361A (ja) * | 1996-02-09 | 2009-05-14 | Mks Instruments Inc | 液体冷却捕捉器 |
US20100166630A1 (en) * | 2008-12-23 | 2010-07-01 | Mks Instruments, Inc. | Reactive chemical containment system |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4944331B1 (ja) | 1971-05-31 | 1974-11-27 | ||
US4487618A (en) * | 1982-08-19 | 1984-12-11 | La-Man Corporation | Airline vapor trap |
US5593479A (en) * | 1995-02-02 | 1997-01-14 | Hmi Industries, Inc. | Filter system |
US5669949A (en) * | 1995-04-21 | 1997-09-23 | Donaldson Company, Inc. | Air filtration arrangement |
US6093228A (en) * | 1998-11-18 | 2000-07-25 | Winbond Electronics Corp. | Method and device for collecting by-products individually |
US6197119B1 (en) * | 1999-02-18 | 2001-03-06 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for controlling polymerized teos build-up in vacuum pump lines |
KR101024504B1 (ko) * | 2009-04-01 | 2011-03-31 | 주식회사 미래보 | 입자 관성을 이용한 반도체 공정에서의 잔류 케미칼 및 부산물 포집장치 |
KR101362439B1 (ko) * | 2012-03-30 | 2014-02-13 | (주)아인스 | 반도체 제조용 트랩장치 |
-
2013
- 2013-10-21 JP JP2013218718A patent/JP6289859B2/ja active Active
-
2014
- 2014-10-17 TW TW103135921A patent/TWI659123B/zh active
- 2014-10-20 US US14/518,079 patent/US20150107771A1/en not_active Abandoned
- 2014-10-21 KR KR1020140142632A patent/KR102301024B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0487721U (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-30 | ||
JPH0775713A (ja) * | 1993-09-07 | 1995-03-20 | Teijin Ltd | 液滴除去装置 |
JP2009101361A (ja) * | 1996-02-09 | 2009-05-14 | Mks Instruments Inc | 液体冷却捕捉器 |
JP2000256856A (ja) * | 1999-03-11 | 2000-09-19 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理装置用真空排気システム及び減圧cvd装置及び減圧cvd装置用真空排気システム及びトラップ装置 |
JP2003529445A (ja) * | 2000-01-21 | 2003-10-07 | エムケイエス・インストゥルメンツ・インコーポレーテッド | アルミニウムエッチング廃気から凝縮性アルミニウム蒸気を除去するための装置及び方法 |
US20090100811A1 (en) * | 2007-10-17 | 2009-04-23 | Scheckel Benjamin L | Inertial Gas-Liquid Separator with Constrictable and Expansible Nozzle Valve Sidewall |
US20100166630A1 (en) * | 2008-12-23 | 2010-07-01 | Mks Instruments, Inc. | Reactive chemical containment system |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107201506A (zh) * | 2016-03-17 | 2017-09-26 | 东京毅力科创株式会社 | 捕集装置和使用该捕集装置的排气系统、基板处理装置 |
JP2019121798A (ja) * | 2017-12-27 | 2019-07-22 | ミラエボ カンパニー リミテッド | 半導体工程における副産物取込装置 |
JP2021034709A (ja) * | 2019-08-21 | 2021-03-01 | ミラエボ カンパニー リミテッド | 半導体プロセス用流路方向転換式反応副産物捕集装置 |
KR20210150298A (ko) | 2020-06-03 | 2021-12-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 트랩 장치 및 기판 처리 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102301024B1 (ko) | 2021-09-09 |
TWI659123B (zh) | 2019-05-11 |
KR20150045906A (ko) | 2015-04-29 |
JP6289859B2 (ja) | 2018-03-07 |
US20150107771A1 (en) | 2015-04-23 |
TW201527581A (zh) | 2015-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6289859B2 (ja) | トラップ装置及び基板処理装置 | |
KR102374799B1 (ko) | 정전 흡착 방법 및 기판 처리 장치 | |
JP5444044B2 (ja) | プラズマ処理装置及びシャワーヘッド | |
JP5248370B2 (ja) | シャワーヘッド及びプラズマ処理装置 | |
JP6298391B2 (ja) | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | |
JP2010238961A (ja) | ガス流路構造体及び基板処理装置 | |
JP5982206B2 (ja) | 下部電極、及びプラズマ処理装置 | |
JP6339866B2 (ja) | プラズマ処理装置およびクリーニング方法 | |
JP2019176030A (ja) | プラズマ処理装置 | |
KR101898079B1 (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
JP2019220555A (ja) | 載置台及び基板処理装置 | |
JP2009200184A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置のバッフル板 | |
KR102661835B1 (ko) | 플라즈마 에칭 방법 및 플라즈마 에칭 장치 | |
TWI643260B (zh) | 電漿處理裝置 | |
KR20200051505A (ko) | 배치대 및 기판 처리 장치 | |
JP5302813B2 (ja) | 堆積物対策用カバー及びプラズマ処理装置 | |
JP7357513B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2008108811A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2021012960A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2021044385A (ja) | 熱媒体循環システム及び基板処理装置 | |
US20210384017A1 (en) | Trap apparatus and substrate processing apparatus | |
KR102299884B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
KR20230100206A (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP2021097065A (ja) | リングアセンブリ、基板支持体及び基板処理装置 | |
JP2011157618A (ja) | 成膜装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160913 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160913 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171017 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171031 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180123 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180207 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6289859 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |