JP2011157618A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明の目的は、シャワー電極から噴出されたガスが基板上において均一に流れ、基板上に生成される薄膜の膜厚を均一にすることが可能な成膜装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は、減圧可能な反応室2と、基板3を支持する基板支持部4と、複数のガス供給孔10から基板3に対して成膜ガスを噴出する平面形状のシャワー電極7と、シャワー電極7から噴出された成膜ガスを複数の排気孔17から排出するガス排気部14とを備えている成膜装置1において、シャワー電極7が、平面上に線対称軸Xを有し、ガス排気部14における排気孔17の開口率は、線対称軸Xから離れるにつれて徐々に大きくなっている。
【選択図】 図2
【解決手段】本発明は、減圧可能な反応室2と、基板3を支持する基板支持部4と、複数のガス供給孔10から基板3に対して成膜ガスを噴出する平面形状のシャワー電極7と、シャワー電極7から噴出された成膜ガスを複数の排気孔17から排出するガス排気部14とを備えている成膜装置1において、シャワー電極7が、平面上に線対称軸Xを有し、ガス排気部14における排気孔17の開口率は、線対称軸Xから離れるにつれて徐々に大きくなっている。
【選択図】 図2
Description
本発明は、半導体装置用の薄膜を形成するための成膜装置に関するものである。
半導体製造プロセスにおける成膜装置として、真空ポンプなどで減圧しながら成膜ガスを供給した状態でプラズマを発生させ、基板上に薄膜を形成する装置が提案されている(例えば、特許文献1)。
特許文献1では、基板に対向するように設けられたシャワー電極から成膜ガスが成膜室内に供給するようになっている。成膜室内に供給されたガスは、基板を支持する支持台を囲むように設けられたリング状の排気空間を介して、反応室の下面に設けられた排気口から排出されるようになっている。
図6は、従来のプラズマCVD装置(成膜装置)の全体を示した概略断面図である。図7は、従来のプラズマCVD装置を示した図であり、(a)が図6のA−A線断面図であり、(b)が(a)のB−B線断面図である。
図6に示すように、従来のプラズマCVD装置31は、減圧可能な反応室32を備えており、反応室32内には、基板33が水平状態で配置されている。また、反応室32には、基板33に対向するようにシャワー電極34が設けられている。シャワー電極34には、複数の成膜ガス吹出孔35が設けられており、反応室32の外部から供給された成膜ガスは、成膜ガス吹出孔35を介して基板33に対して噴出されるようになっている。
また、図7に示すように、シャワー電極34は、平面上に線対称軸Xを有しており、複数の成膜ガス吹出孔35は、線対称軸Xを挟んで対称的に配置されている。更に、図6及び7に示すように、シャワー電極34の線対称軸Xの軸方向における両側には、シャワー電極34から噴出された成膜ガスを排出するガス排気部36が設けられている。ガス排気部36には、複数の成膜ガス排気孔37が設けられており、成膜ガス排気孔37に流れてきたガスは、排気ダクト38を介して反応室32の外部にある除外装置39へ流れるようになっている。
しかしながら、上述の従来の構成では、成膜ガス排気孔37の大きさが全て同じ大きさで形成されているので、シャワー電極34の線対称軸Xに近い位置ほど成膜ガスの流量が多くなり、一方、シャワー電極34の線対称軸Xから遠い位置ほど成膜ガスの流量が小さくなる傾向にあった。しかも、シャワー電極34の端部付近は、成膜ガスが噴出される量が中心部分に比べて小さく、シャワー電極34の端部付近は、成膜ガスのガス濃度が薄くなる。
したがって、従来の構成では、シャワー電極34から噴出された成膜ガスが成膜ガス排気孔37に流れる際、成膜ガスの流れが均一にならないので、基板33上に生成される薄膜の膜厚が均一にならず、基板33の成膜品質が低下するという問題があった。
したがって、従来の構成では、シャワー電極34から噴出された成膜ガスが成膜ガス排気孔37に流れる際、成膜ガスの流れが均一にならないので、基板33上に生成される薄膜の膜厚が均一にならず、基板33の成膜品質が低下するという問題があった。
本発明はこのような実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、シャワー電極から噴出された成膜ガスが基板上において均一に流れ、基板上に生成される薄膜の膜厚を均一にすることが可能な成膜装置を提供することにある。
上記従来技術の有する課題を解決するために、本発明は、減圧可能な反応室と、該反応室に設けられ、基板を支持する基板支持部と、前記基板を挟んで前記基板支持部に対向するように設けられ、複数のガス供給孔から前記基板に対して成膜ガスを噴出する平面形状のシャワー電極と、該シャワー電極の周囲に配置され、前記シャワー電極から噴出された成膜ガスを複数の排気孔から排出するガス排気部とを備えている成膜装置において、前記シャワー電極が、平面上に線対称軸を有し、前記ガス排気部における前記排気孔の開口率は、前記線対称軸から離れるにつれて徐々に大きくなっている。
また、本発明によれば、減圧可能な反応室と、該反応室に設けられ、基板を支持する基板支持部と、前記基板を挟んで前記基板支持部に対向するように設けられ、複数のガス供給孔から前記基板に対して成膜ガスを噴出するシャワー電極と、該シャワー電極の周囲に配置され、前記シャワー電極から噴出された成膜ガスを複数の排気孔から排出するガス排気部とを備えている成膜装置において、前記シャワー電極が、平面上に線対称軸を有し、前記ガス排気部における前記排気孔の深さは、前記線対称軸から離れるにつれて徐々に小さくなっている。
また、本発明によれば、前記シャワー電極の前記複数のガス供給孔が、前記線対称軸を挟んで対称的に配置されており、前記シャワー電極の端部に配置されたガス供給孔の開口率は、前記シャワー電極の中心部分に配置されたガス供給孔の開口率に比べて大きくなっている。
本発明に係る成膜装置によれば、減圧可能な反応室と、該反応室に設けられ、基板を支持する基板支持部と、前記基板を挟んで前記基板支持部に対向するように設けられ、複数のガス供給孔から前記基板に対して成膜ガスを噴出する平面形状のシャワー電極と、該シャワー電極の周囲に配置され、前記シャワー電極から噴出された成膜ガスを複数の排気孔から排出するガス排気部とを備えている成膜装置において、前記シャワー電極が、平面上に線対称軸を有し、前記ガス排気部における前記排気孔の開口率は、前記線対称軸から離れるにつれて徐々に大きくなっているので、線対称軸から離れた位置ほどガスが排出され易くなり、線対称軸から離れた位置に流れるガスの流量が、線対称軸に近い位置に比べて大きくなる。これにより、シャワー電極から噴出された成膜ガスが基板上において均一に流れるようになるので、基板上に生成される薄膜の膜厚が均一になり、基板の成膜品質が向上する。
また、本発明に係る成膜装置によれば、減圧可能な反応室と、該反応室に設けられ、基板を支持する基板支持部と、前記基板を挟んで前記基板支持部に対向するように設けられ、複数のガス供給孔から前記基板に対して成膜ガスを噴出するシャワー電極と、該シャワー電極の周囲に配置され、前記シャワー電極から噴出された成膜ガスを複数の排気孔から排出するガス排気部とを備えている成膜装置において、前記シャワー電極が、平面上に線対称軸を有し、前記ガス排気部における前記排気孔の深さは、前記線対称軸から離れるにつれて徐々に小さくなっているので、線対称軸から離れた位置ほど圧力損失が小さくなり、線対称軸から離れた位置にガスが流れ易くなる。これにより、線対称軸から離れた位置に流れるガスの流量が、線対称軸に近い位置に比べて大きくなる。したがって、シャワー電極から噴出された成膜ガスが基板上において均一に流れるようになるので、基板上に生成される薄膜の膜厚が均一になり、基板の成膜品質が向上する。
また、本発明に係る成膜装置によれば、前記シャワー電極の前記複数のガス供給孔が、前記線対称軸を挟んで対称的に配置されており、前記シャワー電極の端部に配置されたガス供給孔の開口率は、前記シャワー電極の中心部分に配置されたガス供給孔の開口率に比べて大きくなっているので、シャワー電極の端部ほどガス供給孔から噴出される成膜ガスの流量が大きくなる。
従来では、シャワー電極のガス供給孔が全て同じ大きさで形成されていたので、シャワー電極の端部は、成膜ガスの流量が小さく、基板上に生成される膜厚が薄くなる可能性があった。これに対して、本発明によれば、シャワー電極の端部の成膜ガスの流量を大きくなるので、成膜ガスが基板上において均一に流れるようになる。これにより、基板上に生成される薄膜の膜厚が均一になり、基板の成膜品質が向上する。
従来では、シャワー電極のガス供給孔が全て同じ大きさで形成されていたので、シャワー電極の端部は、成膜ガスの流量が小さく、基板上に生成される膜厚が薄くなる可能性があった。これに対して、本発明によれば、シャワー電極の端部の成膜ガスの流量を大きくなるので、成膜ガスが基板上において均一に流れるようになる。これにより、基板上に生成される薄膜の膜厚が均一になり、基板の成膜品質が向上する。
[第1実施形態]
以下、本発明の実施形態に係るプラズマCVD装置(成膜装置)を、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の実施形態に係るプラズマCVD装置の概略断面図である。図2は、本発明の第1実施形態に係るプラズマCVD装置を示した図であり、(a)は図1のA−A線断面図であり、(b)は(a)のB−B線断面図である。
以下、本発明の実施形態に係るプラズマCVD装置(成膜装置)を、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の実施形態に係るプラズマCVD装置の概略断面図である。図2は、本発明の第1実施形態に係るプラズマCVD装置を示した図であり、(a)は図1のA−A線断面図であり、(b)は(a)のB−B線断面図である。
図1に示すように、プラズマCVD装置1は、減圧可能な反応室2を備えている。この反応室2には、成膜対象となる基板3を支持する載置台(基板支持部)4が設けられており、基板3は、載置台4上に水平状態で配置されている。
図1に示すように、載置台4は、基板加熱ヒータ5を備えており、基板加熱ヒータ5は、反応室2の外部にあるRF電源6に接続されている。基板加熱ヒータ5は、載置台4を発熱させることで基板3を加熱するようになっている。
また、図1に示すように、反応室2には、基板3を挟んで載置台4に対向するようにシャワー電極7が設けられている。シャワー電極7は、上下方向に延びるガス導入路8と、ガス導入路8の下端8aに設けられた電極板9とから構成されている。また、シャワー電極7は、反応室2の外部にあるRF電源6に接続されており、シャワー電極7の電極板9には、高周波電流が印加されるようになっている。
図1に示すように、ガス導入路8の下端8aには、水平方向に延びる水平壁部8bと、水平壁部8bの周囲を囲むように配置された内壁部8cとが設けられている。電極板9は、内壁部8cの下端に取付けられている。この構成から、ガス導入路8の下端8aには、水平壁部8bと内壁部8cと電極板9とで囲まれたガス導入空間8dが形成されている。
ガス導入路8は、反応室2の外部にあるガス供給源(図示せず)に接続されており、ガス導入路8には、ガス供給源から成膜ガスが送られるようになっている。図2(a)に示すように、電極板9は、矩形形状の板材で形成されており、複数の成膜ガス吹出孔(ガス供給孔)10を有している。
また、図2(a)に示すように、電極板9は、平面上に対称軸Xを有している。電極板9において、複数の成膜ガス吹出孔10は、対称軸Xを挟んで対称的に配置されている。これらの構成から、ガス供給源から供給される成膜ガスは、ガス導入路8を通ってガス導入空間8dに流れ、その後、複数の成膜ガス吹出孔10を介して反応室2内に流れるようになっている(図1の矢印参照)。
図1に示すように、ガス導入路8及び水平壁部8bの周囲は、絶縁性磁気シール材11で被覆されている。シャワー電極7は、絶縁性磁気シール材11の外側を覆うように配置された固定部材12を介して反応室の上部2aに取付けられている。なお、固定部材12と反応室2の上部2aとの取付部分には、気密シール13が配置されており、反応室2内の機密性が保持されるようになっている。
また、図1及び2に示すように、シャワー電極7の対称軸Xの軸方向における両側には、反応室2内に噴出された成膜ガスを排出するガス排気部14が設けられている。ガス排気部14は、上下方向に延びる排気ダクト15と、電極板9の周辺部分16とから構成されている。電極板9の周辺部分16には、複数の成膜ガス排気孔17が設けられている。
図1に示すように、排気ダクト15の下端15aには、内壁部8cとシャワー電極7の外壁部7aとによりガス排気流路18が形成されており、このガス排気流路18が、排気ダクト15に接続している。排気ダクト15は、反応室2の外部に設けられた除外装置19に接続されており、除外装置19は、反応室2内から排出されたガスの有害な成分を人体に対して安全な値(例えば、TLV値)になるまで除害(処理)するように構成されている。
図1に示すように、排気ダクト15の周囲には、加熱ヒータ20が配置されている。また、排気ダクト15は、反応室2の上部2aに気密性シール21を介して取付けられており、反応室2内の機密性が保持されるようになっている。
本実施形態の特徴としては、ガス排気部14における成膜ガス排気孔17の開口率が、線対称軸Xから離れるにつれて徐々に大きくなっている。具体的には、図2(a)に示すように、成膜ガス排気孔17の直径が、線対称軸Xから離れるにつれて徐々に大きくなっている。例えば、線対称軸Xから離れた位置にある成膜ガス排気孔17aの直径は、線対称軸Xの近傍の位置にある成膜ガス排気孔17bの直径よりも大きくなっている。
次に、本実施形態に係る成膜装置の動作を、図面を参照しながら説明する。
図1に示すように、プラズマCVD装置1で薄膜を形成する場合、成膜ガスが、ガス供給源からガス導入路8及びガス導入空間8dを経由して反応室2内に導入される。次に、RF電源6により電極板9に電圧を印加して、基板3と電極板9との間にプラズマ22を発生させる。この際、基板3の表面に成膜ガスの化学反応により薄膜が形成される。
その後、反応室2内のガスは、ガス排気部14の成膜ガス排気孔17からガス排気流路18に流れる(図1の矢印参照)。そして、ガスは、排気ダクト15を経由して除外装置19まで流れるようになっている。
その後、反応室2内のガスは、ガス排気部14の成膜ガス排気孔17からガス排気流路18に流れる(図1の矢印参照)。そして、ガスは、排気ダクト15を経由して除外装置19まで流れるようになっている。
この第1実施形態に係るプラズマCVD装置1によれば、線対称軸Xから離れた位置にある成膜ガス排気孔17aの直径は、線対称軸Xの近傍の位置にある成膜ガス排気孔17bの直径よりも大きくなっているので、線対称軸Xから離れた位置ほどガスが排出され易くなり、線対称軸Xから離れた位置に流れるガスの流量が、線対称軸Xに近い位置に比べて大きくなる。これにより、シャワー電極7から噴出された成膜ガスが基板3上において均一に流れるようになるので、基板3上に生成される薄膜の膜厚が均一になり、基板3の成膜品質が向上する。
[第2実施形態]
以下、本発明の第2実施形態に係るプラズマCVD装置を、図面を参照しながら説明する。図3は、本発明の第2実施形態に係るプラズマCVD装置を示した図であり、(a)はシャワー電極を下方から見た図であり、(b)は(a)のB−B線断面図である。なお、前述した実施形態で説明したものと同様の部分については、同一の符号を付して重複する説明は省略する。
以下、本発明の第2実施形態に係るプラズマCVD装置を、図面を参照しながら説明する。図3は、本発明の第2実施形態に係るプラズマCVD装置を示した図であり、(a)はシャワー電極を下方から見た図であり、(b)は(a)のB−B線断面図である。なお、前述した実施形態で説明したものと同様の部分については、同一の符号を付して重複する説明は省略する。
この第2実施形態においては、図3に示すように、線対称軸Xから離れた位置にある成膜ガス排気孔17aの数が、線対称軸Xの近傍の位置にある成膜ガス排気孔17bの数に比べて多くなっている。すなわち、本実施形態では、成膜ガス排気孔17の数を変化させることにより、成膜ガス排気孔17の開口率が、線対称軸Xから離れるにつれて徐々に大きくなっている。
この第2実施形態に係るプラズマCVD装置1によれば、線対称軸Xから離れた位置にある成膜ガス排気孔17aの数が、線対称軸Xの近傍の位置にある成膜ガス排気孔17bの数に比べて多くなっているので、線対称軸Xから離れた位置ほどガスが排出され易くなり、線対称軸Xから離れた位置に流れるガスの流量が、線対称軸Xに近い位置に比べて大きくなる。これにより、シャワー電極7から噴出された成膜ガスが基板3上において均一に流れるようになるので、基板3上に生成される薄膜の膜厚が均一になり、基板3の成膜品質が向上する。
[第3実施形態]
以下、本発明の第3実施形態に係るプラズマCVD装置を、図面を参照しながら説明する。図4は、本発明の第3実施形態に係るプラズマCVD装置を示した図であり、(a)はシャワー電極を下方から見た図であり、(b)は(a)のB−B線断面図である。なお、前述した実施形態で説明したものと同様の部分については、同一の符号を付して重複する説明は省略する。
以下、本発明の第3実施形態に係るプラズマCVD装置を、図面を参照しながら説明する。図4は、本発明の第3実施形態に係るプラズマCVD装置を示した図であり、(a)はシャワー電極を下方から見た図であり、(b)は(a)のB−B線断面図である。なお、前述した実施形態で説明したものと同様の部分については、同一の符号を付して重複する説明は省略する。
図4(b)に示すように、電極板9の周辺部分16において、線対称軸Xから離れた部分16aの板厚が、線対称軸Xの近傍の部分16bの板厚に比べて薄くなっている。つまり、この第3実施形態においては、成膜ガス排気孔17の深さが、線対称軸Xから離れるにつれて徐々に小さくなっている。例えば、線対称軸Xから離れた位置にある成膜ガス排気孔17aの深さが、線対称軸Xの近傍の位置にある成膜ガス排気孔17bの深さに比べて小さくなっている。
この第3実施形態に係るプラズマCVD装置1によれば、線対称軸Xから離れた位置にある成膜ガス排気孔17aの深さが、線対称軸Xの近傍の位置にある成膜ガス排気孔17bの深さに比べて小さくなっているので、線対称軸Xから離れた位置ほど圧力損失が小さくなり、線対称軸Xから離れた位置に流れるガスの流量が大きくなる。これにより、線対称軸Xから離れた位置に流れるガスの流量が、線対称軸Xに近い位置に比べて大きくなる。したがって、シャワー電極7から噴出された成膜ガスが基板3上において均一に流れるようになるので、基板3上に生成される薄膜の膜厚が均一になり、基板3の成膜品質が向上する。
[第4実施形態]
以下、本発明の第4実施形態に係るプラズマCVD装置を、図面を参照しながら説明する。図5は、本発明の第4実施形態に係るプラズマCVD装置を示した図であり、(a)はシャワー電極を下方から見た図であり、(b)は(a)のB−B線断面図である。なお、前述した実施形態で説明したものと同様の部分については、同一の符号を付して重複する説明は省略する。
以下、本発明の第4実施形態に係るプラズマCVD装置を、図面を参照しながら説明する。図5は、本発明の第4実施形態に係るプラズマCVD装置を示した図であり、(a)はシャワー電極を下方から見た図であり、(b)は(a)のB−B線断面図である。なお、前述した実施形態で説明したものと同様の部分については、同一の符号を付して重複する説明は省略する。
この第4実施形態においては、図5(a)に示すように、シャワー電極7の電極板9の端部9aに配置された成膜ガス吹出孔10aの直径が、電極板9の中心部分9bに配置された成膜ガス吹出孔10bの直径に比べて大きくなっている。すなわち、本実施形態では、成膜ガス吹出孔10の直径を変化させることにより、電極板9の端部9aにおける成膜ガス吹出孔10aの開口率が、電極板9の中心部分9bに配置されたガス供給孔10bの開口率に比べて大きくなっている。
この第4実施形態に係るプラズマCVD装置1によれば、電極板9の端部9aに配置された成膜ガス吹出孔10aの直径が、電極板9の中心部分9bに配置された成膜ガス吹出孔10bの直径に比べて大きくなっているので、シャワー電極7の電極板9の端部9aほど成膜ガス吹出孔10から噴出される成膜ガスの流量が大きくなる。
従来では、従来では、シャワー電極のガス供給孔が全て同じ大きさで形成されていたので、シャワー電極の端部は、成膜ガスの流量が小さく、基板上に生成される膜厚が薄くなる可能性があった。これに対して、この第4実施形態によれば、電極板9の端部9aから噴出される成膜ガスの流量を大きくなるので、成膜ガスが基板3上において均一に流れるようになる。これにより、基板3上に生成される薄膜の膜厚が均一になるので、基板3の成膜品質が向上する。
従来では、従来では、シャワー電極のガス供給孔が全て同じ大きさで形成されていたので、シャワー電極の端部は、成膜ガスの流量が小さく、基板上に生成される膜厚が薄くなる可能性があった。これに対して、この第4実施形態によれば、電極板9の端部9aから噴出される成膜ガスの流量を大きくなるので、成膜ガスが基板3上において均一に流れるようになる。これにより、基板3上に生成される薄膜の膜厚が均一になるので、基板3の成膜品質が向上する。
以上、本発明の実施の形態につき述べたが、本発明は既述の実施形態に限定されるものでなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変形及び変更が可能である。
上述の実施形態では、載置台4の上に基板3を配置するような構成となっているが、この構成に限定されるものでなく、本発明のガス排気部14及びシャワー電極7の構成は、ロールtoロール方式で基板3が搬送される成膜装置においても適用することができる。
1 プラズマCVD装置(成膜装置)
2 反応室
3 基板
4 載置台(基板支持部)
5 基板加熱ヒータ
6 RF電源
7 シャワー電極
8 ガス導入路
9 電極板
10 成膜ガス吹出孔(ガス供給孔)
11 絶縁性磁気シール材
12 固定部材
13,21 気密シール
14 ガス排気部
15 排気ダクト
16 電極板の周辺部分
17 成膜ガス排気孔(排気孔)
18 ガス排気流路
19 除外装置
20 加熱ヒータ
2 反応室
3 基板
4 載置台(基板支持部)
5 基板加熱ヒータ
6 RF電源
7 シャワー電極
8 ガス導入路
9 電極板
10 成膜ガス吹出孔(ガス供給孔)
11 絶縁性磁気シール材
12 固定部材
13,21 気密シール
14 ガス排気部
15 排気ダクト
16 電極板の周辺部分
17 成膜ガス排気孔(排気孔)
18 ガス排気流路
19 除外装置
20 加熱ヒータ
Claims (3)
- 減圧可能な反応室と、
該反応室に設けられ、基板を支持する基板支持部と、
前記基板を挟んで前記基板支持部に対向するように設けられ、複数のガス供給孔から前記基板に対して成膜ガスを噴出する平面形状のシャワー電極と、
該シャワー電極の周囲に配置され、前記シャワー電極から噴出された成膜ガスを複数の排気孔から排出するガス排気部と
を備えている成膜装置において、
前記シャワー電極が、平面上に線対称軸を有し、前記ガス排気部における前記排気孔の開口率は、前記線対称軸から離れるにつれて徐々に大きくなっていることを特徴とする成膜装置。 - 減圧可能な反応室と、
該反応室に設けられ、基板を支持する基板支持部と、
前記基板を挟んで前記基板支持部に対向するように設けられ、複数のガス供給孔から前記基板に対して成膜ガスを噴出するシャワー電極と、
該シャワー電極の周囲に配置され、前記シャワー電極から噴出された成膜ガスを複数の排気孔から排出するガス排気部と
を備えている成膜装置において、
前記シャワー電極が、平面上に線対称軸を有し、前記ガス排気部における前記排気孔の深さは、前記線対称軸から離れるにつれて徐々に小さくなっていることを特徴とする成膜装置。 - 前記シャワー電極の前記複数のガス供給孔が、前記線対称軸を挟んで対称的に配置されており、前記シャワー電極の端部に配置されたガス供給孔の開口率は、前記シャワー電極の中心部分に配置されたガス供給孔の開口率に比べて大きくなっていることを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜装置。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20130507 |