JP2011071168A - プラズマ処理装置及びシャワーヘッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】内部で基板を処理する処理チャンバー201に、前記基板を載置するための載置台203と対向するように設けられ、前記載置台203と対向する対向面に複数設けられたガス吐出孔11から前記基板に向けてガスをシャワー状に供給するためのシャワーヘッド100を備えたプラズマ処理装置200であって、前記シャワーヘッド100の前記対向面と反対側の面とを貫通する複数の排気孔13と、前記反対側の面側の前記排気孔13と連通した排気空間内に、立設状態で設けられた複数の棒状の磁石柱16a,bと、前記磁石柱16a,bの少なくとも一部を移動させて前記排気孔13との距離を変更するための移動手段161a,bと、を具備している。
【選択図】図1
Description
Claims (9)
- 内部で基板を処理する処理チャンバーに、前記基板を載置するための載置台と対向するように設けられ、前記載置台と対向する対向面に複数設けられたガス吐出孔から前記基板に向けてガスをシャワー状に供給するシャワーヘッドを備えたプラズマ処理装置であって、
前記シャワーヘッドの前記対向面と反対側の面とを貫通する複数の排気孔と、
前記反対側の面側の前記排気孔と連通した排気空間内に、立設状態で設けられた複数の棒状の磁石柱と、
前記磁石柱の少なくとも一部を移動させて前記排気孔との距離を変更するための移動手段と、
を具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置であって、
前記磁石柱は、第1の磁石柱群と、前記第1の磁石柱群とは異なる第2の磁石柱群の少なくとも2つの異なる磁石柱群からなり、前記第1の磁石柱群と、前記第2の磁石柱群とは、独立に移動可能とされている
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1又は2記載のプラズマ処理装置であって、
前記対向面と前記反対側の面とを貫通し、前記対向面側から前記反対側の面側にプラズマの漏洩を許容する開閉可能なトリガー孔を具備する
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項3記載のプラズマ処理装置であって、
前記トリガー孔を複数具備し、夫々独立に開閉可能とされている
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項3又は4記載のプラズマ処理装置であって、
前記処理チャンバー内のプラズマの状態を計測する計測手段と、
前記計測手段による計測結果に基づいて、前記移動手段による前記磁石柱の移動及び前記トリガー孔の開閉を制御する制御手段と
を具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1〜5いずれか1項記載のプラズマ処理装置であって、
前記磁石柱の温度を調整するための温度調整手段を具備した
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 内部で基板を処理する処理チャンバーに、前記基板を載置するための載置台と対向するように設けられ、前記載置台と対向する対向面に複数設けられたガス吐出孔から前記基板に向けてガスをシャワー状に供給するシャワーヘッドであって、
前記対向面と反対側の面とを貫通する複数の排気孔と、
前記反対側の面側に立設状態で設けられた複数の棒状の磁石柱と、
を具備したことを特徴とするシャワーヘッド。 - 請求項7記載のシャワーヘッドであって、
前記対向面と前記反対側の面とを貫通し、前記対向面側から前記反対側の面側にプラズマの漏洩を許容する開閉可能なトリガー孔を具備する
ことを特徴とするシャワーヘッド。 - 請求項8記載のシャワーヘッドであって、
前記トリガー孔を複数具備し、夫々独立に開閉可能とされている
ことを特徴とするシャワーヘッド。
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