JP2015078076A - n型窒化アルミニウム単結晶基板、および縦型窒化物半導体デバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】n型窒化アルミニウム単結晶基板の表面上にオーミック電極層を備えた縦型の窒化物半導体デバイスであって、前記n型窒化アルミニウム単結晶基板が、Si含有量が3×1017〜1×1020cm−3であり、転位密度が106cm−3以下であって、かつ前記オーミック電極層が、前記n型窒化アルミニウム単結晶基板のN極性面側に形成されてなることを特徴とする縦型窒化物半導体デバイスである。
【選択図】図1
Description
Si含有量が3×1017〜1×1020cm−3であり、転位密度が106cm−3以下であり、かつ厚みが50〜500μmであるn型窒化アルミニウム単結晶基板である。
先ず、初めに、Si含有量が一定である単層、またはSi含有量が段階的に変化する窒化アルミニウム単結晶層からなる場合について説明する。図1に、典型例として、縦型ショットキーバリアダイオード構造を示した。
(n型窒化アルミニウム単結晶基板)
n型窒化アルミニウム単結晶基板1は、転位密度が106cm−2以下であり、Siを3×1017〜1×1020cm−3の範囲で含んでいる。なお、この転位密度は、n型窒化アルミニウム単結晶基板の最表面の転位密度を指す。
本発明において、電極層は、使用する用途に応じて適宜決定すればよい。例えば、縦型のトランジスタに本発明の縦型窒化物半導体デバイスを使用する場合には、ゲート電極、ソース電極層、ドレイン電極層などを前記n型窒化アルミニウム単結晶基板の両主表面に形成すればよい。また、発光ダイオードに本発明の縦型窒化物半導体デバイスを適用する場合には、n型窒化アルミニウム単結晶基板にn型オーミック電極層を形成し、他方の面にはp型オーミック電極層を形成すればよい。中でも、本発明の縦型窒化物半導体デバイスを縦型ショットキーバリアダイオードに使用する場合には、オーミック電極層とショットキー電極層を形成することが好ましい。
次に、オーミック電極層3について説明する。このオーミック電極層3は、公知のオーミック電極材料を使用することができる。具体的には、n型窒化アルミニウム単結晶基板との接触抵抗値を低減可能な材料であれば、特に限定されるものではないが、例えば、特開2011−547604に記載されているTi、およびAlを含む電極材料を使用することが好ましい。これらの電極材料は、接触抵抗値を低減させるため、電極層を形成した後に、アルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気中でアニールすることが好ましい。アニール温度は特に制限されるものではないが、700〜1100℃であることが好ましい。また、オーミック電極層3の厚みは、特に限定されるものではなく、アニール後の接触抵抗値の低減が可能な範囲で各層の膜厚を適示決定すればよいが、電極層の生産性などを考慮すると、総厚を50〜500nmにすることが好ましい。
本発明の縦型窒化物半導体デバイスは、n型窒化アルミニウム単結晶基板1上に、ショットキー電極層2が形成されることが好ましい。
第二態様例としては、n型窒化アルミニウム単結晶基板上に、Siを含む、即ち、n型AlXGa1−XN層4が形成されている積層体を使用するものである。このn型AlXGa1−XN層は、特に制限されるものではないが、図2に示す通り、n型窒化アルミニウム単結晶1とオーミック電極層3との間に、Siを含む、即ち、n型AlXGa1−XN層4が形成されていることが好ましい。なお、第二態様例において、n型窒化アルミニウム単結晶基板1、オーミック電極層3、ショットキー電極層2は、第一態様例で説明した基板、層と同様のものである。
本発明において、積層体は、前記n型窒化アルミニウム単結晶基板の少なくとも一方の主面に、n型AlXGa1−XN層が積層されたものである。中でも、n型AlXGa1−XN層は、前記n型窒化アルミニウム単結晶基板のAl極性面1b側に形成されることが好ましい。
次に、本発明の縦型窒化物半導体デバイスの製造方法について説明する。上記第一、二態様例の縦型窒化物半導体デバイスの製造方法は、特に制限されるものではない。中でも、転位密度が104cm−2以下の窒化アルミニウム単結晶種基板上に、Si含有量が3×1017〜1×1020cm−3のn型窒化アルミニウム単結晶層を成長させ、そして、このn型窒化アルミニウム単結晶層を分離して、n型窒化アルミニウム単結晶基板として使用する方法を採用することが好ましい。つまり、転位密度が極めて低い(転位密度が104cm−2以下)の窒化アルミニウム単結晶種基板を使用することにより、Si含有量が3×1017〜1×1020cm−3であり、転位密度が、転位密度が106cm−3以下であるn型窒化アルミニム単結晶基板を容易に得ることができる。
第一態様例の縦型窒化物半導体デバイスの製造方法の一例を、図3を用いて説明する。
先ず、n型窒化アルミニウム単結晶基板を製造するために使用する、窒化アルミニウム単結晶種基板5を準備する。先ず、この窒化アルミニウム単結晶種基板について説明する。
n型窒化アルミニウム単結晶基板は、窒化アルミニウム単結晶種基板5上に、n型窒化アルミニウム単結晶層1’を形成した後、種基板5とn型窒化アルミニウム単結晶層1’を分離して、n型窒化アルミニウム単結晶基板1とする。
上記窒化アルミニウム単結晶種基板5上に、n型窒化アルミニウム単結晶層1’を形成する方法について説明する。n型窒化アルミニウム単結晶層1’は、HVPE法、MOVPE法、分子線エピタキシー(MBE:Molecule Beam Epitaxy)法など、公知の結晶成長法によって製造される。中でも、比較的高い結晶成長速度が得られるなどの生産性を考慮すると、HVPE法もしくはMOVPE法が好ましく、最も高い成長速度が得られるHVPE法が最も好ましい。
次に、上述の方法により窒化アルミニウム単結晶種基板5上にn型窒化アルミニウム単結晶層1’が形成された積層基板を作製した後、種基板5とn型窒化アルミニウム単結晶層1’とを分離する方法について説明する。
n型窒化アルミニウム単結晶基板を使用したショットキーバリアダイオードを作製する場合は、n型窒化アルミニウム単結晶基板1のAl極性面1b上に、真空蒸着法、スパッタリング法などの公知の製膜技術によって、オーミック電極層3を形成することが好ましい。n型オーミック電極層3は、Ti、Alなどの金属を所定の厚み、積層順で形成する。オーミック電極を形成した後、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下でアニールすることが好ましい。これによって、オーミック電極層とn型窒化アルミニウム単結晶(基板)との接触抵抗値を低減することができる。各層の厚み、層構成は、第一態様例におけるオーミック電極層で説明したものと同じである。
図4では、n型窒化アルミニウム単結晶層1のN極性面上にn型AlXGa1−XN層4を形成する方法を示している。この場合、n型窒化物単結晶基板1を製造するまでは、第一態様例の縦型窒化半導体デバイスの製造方法と同じである。
n型AlXGa1−XN層は、HVPE法、MOVPE法、MBE法など、公知の結晶成長法によって形成できるが、組成や膜厚制御の容易さを考慮すると、MOVPE法が最も好ましい。
以上、図3、図4、図5に基づいて、縦型ショットキーバリアダイオードの製法について説明したが、本発明は縦型ショットキーバリアダイオードに制限されるものではなく、本発明を逸脱しない範囲で、縦型発光ダイオード、バイポーラトランジスタ、ユニポーラトランジスタなどの様々なデバイスに応用することができる。例えば、縦型のトランジスタを作製する場合は、n型窒化アルミニウム単結晶基板のAl極性面1b側に、必要に応じてn型、p型AlYGa1−YN層(但し、Yは、0.0≦Y≦1.0を満足する有理数である。)を積層した後、ソース電極、ゲート電極などを形成することができる。n型、p型AlYGa1−YN層はMOVPE法で成長することが好ましく、組成および膜厚などはトランジスタの設計に応じて適宜決定すればよい。また、この場合はn型窒化アルミニウム単結晶基板のN極性面側にオーミック電極(ドレイン電極)を形成することが好ましい。
本発明のn型窒化アルミニウム単結晶基板を作製するための窒化アルミニウム単結晶種基板にはC面窒化アルミニウム単結晶種基板(□15mm×厚み500μm)を用いた。この窒化アルミニウム単結晶種基板の転位密度(エッチピット密度)は、1×104cm−2であった。なお、この転位密度は、下記に記述するn型窒化アルミニウム単結晶基板の転位密度の測定方法と同じ方法で求めた。
実施例1において、40℃に加熱した塩酸中で表面を洗浄したその他の基板の1つを使用して、N極性面側にオーッミック電極層、Al極性面側にショットキー電極層を形成した以外は、実施例1と同様の条件で縦型ショットキーバリアダイオードを作製し、同じ評価を行った。電流―電圧特性を図6に示す。立ち上がり電圧10V程度のショットキーダイオード特性が確認された。また、逆方向電圧値を100Vとしたときの、電流密度は実施例1と同様に5×10−7Acm−2であった。
実施例1において、40℃に加熱した塩酸中で表面を洗浄したその他の基板の1つを使用して、該基板のAl極性面側にn型Al0.7Ga0.3N層MOVPE法により、1080℃で30nm成長させた以外は、実施例1と同様の条件で縦型ショットキーバリアダイオードを作製し、同じ評価を行った。なお、SIMS分析により求めたn型Al0.7Ga0.3N層中のSi濃度は1×1019cm−3であった。電流―電圧特性を図6に示す。立ち上がり電圧3Vのショットキーバリアダイオード特性が確認された。また、逆方向電圧値を100Vとしたときの、電流密度は5×10−7Acm−2であった。
特許文献6の実施例3に記載されている方法により種基板となる窒化アルミニウム自立基板を作製した。得られた自立基板のエッチピット密度(転位密度)は2×106cm−2であった。この自立基板を種基板として使用し、1300℃で成長した以外は、実施例1と同様にしてn型窒化アルミニウム単結晶層を300μm形成した。反応炉から取り出したn型窒化アルミニウム単結晶層にはクラックが発生しており、ショットキーバリアダイオードを形成することは不可能であった。
1a N極性面
1b Al極性面
2 ショットキー電極層(電極層)
3 オーミック電極層(電極層)
4 n型AlXGa1−XN層
5 窒化アルミニウム単結晶種基板
1’ n型窒化アルミニウム単結晶層
Claims (9)
- Si含有量が3×1017〜1×1020cm−3であり、転位密度が106cm−3以下であり、かつ厚みが50〜500μmであるn型窒化アルミニウム単結晶基板。
- 請求項1に記載のn型窒化アルミニウム単結晶基板の上下の主面に電極層を備えた縦型窒化物半導体デバイス。
- 請求項2に記載の縦型窒化物半導体デバイスにおいて、一方の主面側にオーミック電極層を有し、他方の主面にショットキー電極層有する縦型ショットキーバリアダイオード。
- 請求項1に記載のn型窒化アルミニウム単結晶基板の少なくとも一方の主面上に、Si含有量が1×1018〜5×1019cm−3であるAlXGa1−XN(但し、Xは、0.3≦X≦0.8を満足する有理数である。)からなる層が積層された積層体。
- 請求項4に記載の積層体の上下の主面に電極層を備えた縦型窒化物半導体デバイス。
- AlXGa1−XN(但し、Xは、0.3≦X≦0.8を満足する有理数である。)からなる層上の電極層がオーミック電極層である請求項5に記載の縦型窒化物半導体デバイス。
- 請求項6の縦型窒化物半導体デバイスにおいて、n型窒化アルミニウム単結晶基板上の電極層がショットキー電極層である縦型ショットキーバリアダイオード。
- 逆方向電圧値を100Vとしたとき、電流密度が10−6Acm−2以下となる請求項3または7に記載の縦型ショットキーバリアダイオード。
- 転位密度が104cm−2以下の窒化アルミニウム単結晶種基板上に、Si含有量が1×1017〜1×1020cm−3であり、転位密度が106cm−3以下であるn型窒化アルミニム単結晶層を形成する工程と、前記窒化アルミニウム単結晶種基板と前記n型窒化アルミニウム単結晶層を分離することにより、前記n型窒化アルミニウム単結晶層をn型窒化アルミニウム基板とする工程と、を含むことを特徴とする請求項1に記載のn型窒化アルミニウム単結晶基板の製造方法。
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