JP2015053457A - 光半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
実際の反応炉内の反応過程は複雑であるが、InGaAlAs系のMOVPE成長の反応過程とエッチングの過程の簡略的な化学反応式は以下のとおりである。
(成長時)
x(CH3)3In +y(C2H5)3Ga + z(CH3)3Al + AsH3 → InxGayAlzAs + (3x+6y+3z)CH4
(エッチング時)
InxGayAlzAs + 3(x+y+z)HCl → xInCl3 + yGaCl3 + zAlCl3 + AsH3 + H2
2 InGaAlAs量子井戸層
3 InP基板
4 圧力を上げて反応管内で塩化水素エッチングされた部分
Claims (5)
- 1つの半導体基板上に複数の半導体が集積された光半導体装置の製造方法の製造方法であって、
所定の圧力の下で相成長法により、前記半導体基板に形成された互いに接した2つの領域を有するリッジ上に量子井戸構造を成長することと、
前記所定の圧力とことなる圧力の下で、前記量子井戸構造をエッチングすることと
を含むことを特徴とする製造方法。 - 前記相成長法は、有機金属気相成長法によることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記エッチングすることは、反応性ガスエッチングによることを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記光半導体装置の前記2つの領域の一つには活性層に前記多重量子井戸構造をもつ分布帰還形レーザが集積され、前記光半導体装置の前記2つの領域の別の一つには前記分布帰還形レーザの発振波長より短い波長の吸収端をもつ前記多重量子井戸構造よりなる光変調器が集積されたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多重量子井戸構造の材料は、InGaAsP、InGaAlAs、InGaAsN、InGaAsのいずれかであり、前記分布帰還形レーザの発振波長が1.1μm以上1.6μm以下とする材料が選択され、前記多重量子井戸層は前記前記分布帰還形レーザの発振波長を達成する厚みおよび結晶格子間の歪を有していることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の製造方法。
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