JP2015045678A - 硬化槽 - Google Patents
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Abstract
短時間で重合阻害物質を排除可能で、低コストで重合反応を確実に起こすことができる、硬化槽を提供すること。
【解決手段】
試料を保持する試料保持部、及び、エネルギー照射手段を有する硬化槽であって、前記試料保持部は、硬化槽底部に設けられた凹部または硬化槽上部に設けられた凸部であり、前記試料保持部にガス導入口を有することを特徴とする硬化槽。
【選択図】図1
Description
これらの感光体は、クリーニングブレード等による摺擦に対する耐摩耗性に優れるため、従来よりも遥かに長い寿命を実現することができ、メンテナンスの回数を大幅に減らし、また、感光体の交換を少なくでき、コスト的にも、環境的にも非常に好ましいものである。
また、最近の電子写真装置においては、メンテナンスを容易にするため、感光体とクリーニングブレード等の他の部材とを一体にした、所謂プロセスカートリッジが用いられることが多くなっている。このプロセスカートリッジは、感光体が十分に使用可能であっても、クリーニングブレードが寿命を迎えるとプロセスカートリッジ全体を交換する必要がある。
この重合トナーは、従来の粉砕トナーに比べて転写効率が高いなどの特徴があり、上記高画質化の要求に応えることが可能である。
しかし、重合トナーは、クリーニングブレードを用いて感光体表面から除去しようとしても、その形状により十分に除去することが困難であり、クリーニング不良が発生してしまうという問題を有している。
これは、クリーニングブレードと感光体との間に形成される僅かな隙間を、小粒径で且つ球形度に優れた重合トナーがすり抜けるからである。
しかし、クリーニングブレードの当接圧を高めると、図6(a)に示すように、感光体23とクリーニングブレード262との摩擦力が高まり、クリーニングブレード262が感光体23の移動方向に引っ張られて、クリーニングブレード262の先端稜線部262cがめくれてしまう。
このクリーニングブレードは、アモルファスシリコンのように、表面が平滑な感光体に対しては優れた性能を示す。しかしながら、クリーニング性あるいは感光体の耐摩耗性を向上させるために無機微粒子を表面層に用いた有機感光体等、表面に凹凸を有する荒れた感光体においては、感光体と接する先端が早期に欠けてしまい、クリーニング不良を発生することが多い。
しかしながら、低摩耗処理層の耐久性が十分でなく、画像形成を繰り返していると、低摩耗処理層最表面の低摩耗処理物質が脱落してしまい、感光体とクリーニングブレードの摩擦力が高くなってクリーニングブレードの欠けが部分的に起き、クリーニング不良が発生してしまう。
このクリーニングブレードは、画像形成を行う初期においてはクリーニング性に問題はないものの、画像形成を繰り返していくと、感光体と接する先端が欠け、クリーニング不良を引き起こすことが多い。
また、アクリルウレタンモノマーを含浸させ、UV光を照射したウレタンエラストマーの硬度は、予想されるよりも遥かに小さく、何も処理していないウレタンエラストマーの硬度とほとんど変化がなかったり、逆に柔らかくなったりしていることもあった。
しかし、空気は、主に窒素と酸素の混合物であり、窒素を78%含有しているため、窒素パージを行っても直ぐに空気と混じってしまい、酸素濃度を下げるためには、非常に多量の窒素をパージしなければならず、非常に高いコストがかかってしまう。
そのため、UV光を照射する硬化槽は減圧に耐えられる強固な構造のものが必要となり、また、減圧、窒素補充にかかる時間も長いため、製造コストが非常に高いものとなってしまう。
(1)「試料を保持する試料保持部、及び、エネルギー照射手段を有する硬化槽であって、前記試料保持部は、硬化槽底部に設けられた凹部または硬化槽上部に設けられた凸部であり、前記試料保持部にガス導入口を有することを特徴とする硬化槽」、
(2)「前記試料保持部に設けられたガス導入口から供給されるガスが非酸化性ガスであり、該非酸化性ガスの密度は、空気の密度(0 ℃、1気圧)と0.4g/l以上異なることを特徴とする前記第(1)項に記載の硬化槽」、
(3)「少なくとも前記試料保持部を非酸化性ガスで満たし、エネルギーを照射することを特徴とする前記第(1)項または第(2)項に記載の硬化槽」、
(4)「硬化槽底部に設けられた凹部を満たす非酸化性ガスが、アルゴンであることを特徴とする前記第(1)項乃至第(3)項のいずれかに記載の硬化槽」、
(5)「前記硬化槽は、試料搬入口及び/または試料搬出口が前記試料保持部よりも高い位置に存在することを特徴とする前記第(4)項に記載の硬化槽」、
(6)「硬化槽上部に設けられ凸部を満たす非酸化性ガスが、水素またはヘリウムであることを特徴とする前記第(1)項乃至第(3)項のいずれかに記載の硬化槽、
(7)「前記硬化槽は、試料搬入口及び/または試料搬出口が前記試料保持部よりも低い位置に存在することを特徴とする前記第(6)項に記載の硬化槽」、
(8)「前記硬化槽は、前記試料保持部とは異なる高さに設けられたガス導入口をさらに有し、該ガス導入口は、窒素ガスを導入するものであることを特徴とする前記第(1)項乃至第(7)項のいずれかに記載の硬化槽」、
(9)「前記エネルギー照射手段が、UV−LED露光装置であることを特徴とする前記第(1)乃至第(8)項のいずれかに記載の硬化槽」、
(10)「前記試料が、電子写真用クリーニングブレードであることを特徴とする前記第(1)項乃至第(9)項のいずれかに記載の硬化槽」。
図1に本発明の硬化槽の概略図を示す。硬化槽1は、その底部にさら一段低いに凹状の試料保持部2を有し、該試料保持部2にはガス導入口3が設けられる。該ガス導入口3は、試料保持部2に設けられていれば、試料保持部2のどこに設けられても構わないが、最底部に設けられることが好ましい。
試料保持部2にガス導入口3が設けられることで、試料保持部2内の空気が導入ガスで置換され、空気による重合阻害が防止される。
エネルギー照射手段9は、エネルギーを均一に照射できるようにできれば、どの場所に配置していても構わず、鏡や光ファイバー等により、硬化槽の外からエネルギーを照射するものであってもよい。
図1に示す硬化槽と図2に示す硬化槽とは、ガス導入口3から供給するガスの密度によって使い分けられる。
すなわち、ガス導入口3から供給するガスの密度が空気の密度よりも大きい場合は図1に示す硬化槽が用いられ、逆にガス導入口3から供給するガスの密度が空気の密度よりも小さい場合は図2に示す硬化槽が用いられる。
本発明の硬化槽は、硬化槽内に非酸化性ガスを導入し空気(酸素)を排除して硬化させる。ここで、非酸化性ガスとは、希ガスや窒素ガス等の不活性ガスの他、水素ガス、CO等の還元性のガスをも含むものである。
前記非酸化性ガスは、空気の密度(0 ℃、1気圧)と0.4g/l以上異なるものであることが好ましく、さらに1.0g/l以上異なることが好ましい。
また、前記空気との密度差が大きい非酸化性ガスは高価であることが多く、該非酸化性ガスの使用量を少なくすることができ、製造コストの低減が図れる。
空気との密度との差が小さい非酸化性ガスの導入は、試料保持部とは異なる高さに設けられた第2のガス導入口から行う。第2のガス導入口から導入することで、試料保持部内に空気との密度差が大きい非酸化性ガスが留まったまま、試料の搬出入を行うことができる。
全容積の1%/分未満では、圧力差が小さく空気の流入を防止できないことがあり、また、15%/分を超えると硬化槽内でガスの循環流が起こり、空気を引き込むことがある。
そのため、高圧水銀灯をUV光源に用いる時には、硬化槽外部からUV照射を行うか、光ファイバーのような光路を用いてUV照射を行うか、高圧水銀灯のみを隔離して、高圧水銀灯雰囲気の換気と冷却するとともに、UVフィルターを設置する工夫が必要となる。
前記UV−LEDは、一つまたは複数配置しても良く、固定して使用されるだけではなく、走査させながら、UV光を均一に照射させても良い。
クリーニングブレードの母体に使用される弾性体ブレード622は、従来公知の組成、工法で製造することができる。図3は、クリーニングブレード62の斜視図であり、図4は、クリーニングブレード62の拡大断面図である。
前記弾性体ブレード622の表面には、表面層623が形成され、該表面層623は、本発明の硬化槽を用いて硬化性物質を硬化することで形成される。
前述のように、フッ素化合物モノマーは、気液界面に存在しやすい性質があるため、塗工した溶液が、弾性体ブレード内部に過剰に染みこんでいかなければ、弾性体ブレード表面に存在し、弾性体ブレード内部に含浸したアクリレートモノマーと化学的に反応、あるいは、塗布したアクリルモノマーを介して、弾性体ブレード内部に含浸したアクリレートモノマーと化学的に結合させることができる。
また、低分子量ポリオールとして、例えば、1,4−ブタンジオール、エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヒドロキノン−ビス(2−ヒドロキシエチル)エーテル、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフエニルメタン、4,4’−ジアミノジフエニルメタン等の二価アルコールや、1,1,1−トリメチロールプロパン、グリセリン、1,2,6−ヘキサントリオール、1,2,4−ブタントリオール、トリメチロールエタン、1,1,1−トリス(ヒドロキシエトキシメチル)プロパン、ジグリセリン、ペンタエリスリトール等の三価及びそれ以上の多価アルコールを用いたものであってもよい。
前記感光体としては、単層型の感光層を有するもの、または、電荷発生層と電荷輸送層とを積層した積層型感光層を有するもののいずれであってもよく、必要に応じて下引き層や保護層が設けられる。
下引層に用いる樹脂としてはポリアミド、ポリビニルアルコール、カゼイン、メチルセルロース等の熱可塑性樹脂、アクリル、フェノール、メラミン、アルキッド、不飽和ポリエステル、エポキシ等の熱硬化性樹脂、これらの中の一種あるいは多種の混合物を例示することができる。
・モノフェノール系化合物
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3−t−ブチル−4−ヒドロキシニソールなど。
2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)など。
1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、トコフェノール類など。
N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−tーブチル−p−フェニレンジアミンなど。
2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−3,3’−チオジプロピオネートなど。
トリフェニルホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキシ)ホスフィンなど。
保護層の膜厚が0.1μm以下では、薄すぎてクリーニングブレードとの摩擦により部分的に消失しやすくなり、消失した部分から感光層の磨耗が進んでしまうため好ましくない。保護層の膜厚が12μm以上では、感度低下、露光後電位上昇、残留電位上昇が生じやすく、特に電荷輸送能力を有する高分子を用いる場合には、電荷輸送能力を有する高分子のコストが高くなってしまうため好ましくない。
弾性体ブレード(リコー製imagio Neo C4500用ポリウレタン製のクリーニングブレード)をガラス製容器に入れ、感光体と当接する面と対向する側の面をアルミ製金属板に貼り付け、感光体と接する面とその面と垂直な面との頂点から1cmの以上の領域をマスキングした。この弾性体ブレードを下記処方の溶液に3分間浸漬した。
その後、弾性体ブレードを前記溶液から引き上げ、10分間真空乾燥を行った。
(日本化薬製KAYARAD DPCA−120)
重合開始剤 1部
(シ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、チバケミカル製I−184)
2−ブタノール 74部
硬化槽底部の試料保持部に設けたガス導入口より、硬化槽の全容積の10%/分となる流量でアルゴンガスを導入しながら、前記乾燥した弾性体ブレードを硬化槽に入れ、紫外線(UV)照射(1000mJ/cm2)を行い、[クリーニングブレード1]を作製した。
アルゴンガスの流量を5%/分に代える他は実施例1と同様にして[クリーニングブレード2]を作製した。
予め、硬化槽の全容積の1倍に相当する窒素ガスを硬化槽底部の試料保持部に設けたガス導入口から導入し、さらに該ガス導入口部からアルゴンガスを硬化槽の全容積の0.3倍に相当する量(試料保持部の容積の1.2倍に相当する量)を導入した。
その後、試料保持部以外の硬化槽上部に設けられたガス導入口から硬化槽の全容積の10%/分の流量で窒素ガス、試料保持部に設けたガス導入口から硬化槽の全容積の2%/分の流量でアルゴンガスを導入しながら、弾性体ブレードを硬化槽に入れる他は実施例1と同様にして[クリーニングブレード3]を作製した。
試料保持部に設けたガス導入口から硬化槽の全容積の0.7%/分の流量でアルゴンガスを導入しながら、弾性体ブレードを硬化槽に入れる他は実施例3と同様にして[クリーニングブレード4]を作製した。
実施例1において、アルゴンガスに代えて窒素ガスを用い、硬化槽底部の試料保持部に設けたガス導入口より窒素ガスを、硬化槽全体の20%/分で導入する以外は実施例1と同様にして[クリーニングブレード5]を作製した。
図2に示す硬化槽を用い、硬化槽上部の試料保持部に設けられたガス導入口から水素ガスを導入した。硬化槽上部の試料保持部に設けたガス導入口より、硬化槽の全容積の10%/分となる流量で水素ガスを導入しながら、弾性体ブレードを硬化槽に入れる他は実施例1と同様にして[クリーニングブレード6]を作製した。
水素ガスの流量を5%/分に代える他は実施例5と同様にしてクリーニングブレード7を作製した。
予め、硬化槽の全容積の1倍に相当する窒素ガスを硬化槽上部の試料保持部に設けたガス導入口から導入し、さらに該ガス導入口部から水素ガスを硬化槽の全容積の0.3倍に相当する量(試料保持部の容積の1.2倍に相当する量)を導入した。
その後、試料保持部以外の硬化槽底部に設けられたガス導入口から硬化槽の全容積の10%/分の流量で窒素ガス、試料保持部に設けたガス導入口から硬化槽の全容積の2%/分の流量で水素ガスを導入しながら、弾性体ブレードを硬化槽に入れる他は実施例5と同様にして[クリーニングブレード8]を作製した。
試料保持部に設けたガス導入口から硬化槽の全容積の0.7%/分の流量で水素ガスを導入しながら、弾性体ブレードを硬化槽に入れる他は実施例7と同様にして[クリーニングブレード9]を作製した。
実施例5において、水素ガスに代えて窒素ガスを用い、硬化槽上部の試料保持部に設けたガス導入口より窒素ガスを、硬化槽全体の20%/分で導入する以外は実施例5と同様にして[クリーニングブレード10]を作製した。
実験室環境:21[℃]・65[%RH]
通紙条件:画像面積率5%チャートを3プリント/ジョブで、50,000枚(A4横)
トナー母体:円形度0.98、平均粒径4.9[μm]
外添剤 :小粒径シリカ1.5部(クラリアント製H2000)
小粒径酸化チタン0.5部(テイカ製MT−150AI)
大粒径シリカ1.0部(電気化学工業製UFP−30H)
(クリーニング評価)
紙進行方向に対して43[mm]幅の縦帯パターンが3本のチャートを20枚(A4横)出力し、クリーニング不良発生の有無を目視により確認した。
(クリーニングブレードエッジ摩耗幅)
図7に示す、クリーニングブレード下面側からみた摩耗幅を測定した。
評価結果を表1に示す。
2 試料保持部
3 ガス導入口
4 排気弁
5 第2のガス導入口
6 試料搬入口
7 試料搬出口
8 試料
9 エネルギー照射手段
23 感光体
62 クリーニングブレード
62a 先端面
62b ブレード下面
62c 先端稜線部
621 ホルダー
622 弾性体ブレード
623 表面層
Claims (10)
- 試料を保持する試料保持部、及び、エネルギー照射手段を有する硬化槽であって、前記試料保持部は、硬化槽底部に設けられた凹部または硬化槽上部に設けられた凸部であり、前記試料保持部にガス導入口を有することを特徴とする硬化槽。
- 前記試料保持部に設けられたガス導入口から供給されるガスが非酸化性ガスであり、該非酸化性ガスの密度は、空気の密度(0 ℃、1気圧)と0.4g/l以上異なることを特徴とする請求項1に記載の硬化槽。
- 少なくとも前記試料保持部を非酸化性ガスで満たし、エネルギーを照射することを特徴とする請求項1または2に記載の硬化槽。
- 硬化槽底部に設けられた凹部を満たす非酸化性ガスが、アルゴンであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の硬化槽。
- 前記硬化槽は、試料搬入口及び/または試料搬出口が前記試料保持部よりも高い位置に存在することを特徴とする請求項4に記載の硬化槽。
- 硬化槽上部に設けられ凸部を満たす非酸化性ガスが、水素またはヘリウムであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の硬化槽。
- 前記硬化槽は、試料搬入口及び/または試料搬出口が前記試料保持部よりも低い位置に存在することを特徴とする請求項6に記載の硬化槽。
- 前記硬化槽は、前記試料保持部とは異なる高さに設けられたガス導入口をさらに有し、該ガス導入口は、窒素ガスを導入するものであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の硬化槽。
- 前記エネルギー照射手段が、UV−LED露光装置であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の硬化槽。
- 前記試料が、電子写真用クリーニングブレードであることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の硬化槽。
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