JP5983152B2 - 画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、画像形成装置に関し、さらに詳しくは、像担持体表面に用いられる保護層の構成に関する。

周知のように、電子写真方式による画像形成装置においては、潜像担持体である感光体上に形成された静電潜像がトナーにより可視像処理され、トナー像が記録紙などの記録媒体に転写されたうえで、熱および圧力を作用させる定着工程が実行されて複写出力を得るようになっている。

電子写真方式による画像形成の方式は、可視像化のためのトナー粒子を帯電させる方法により、トナー粒子とキャリア粒子の攪拌乃至混合による摩擦帯電を用いる、いわゆる二成分現像方式と、キャリア粒子を用いずにトナー粒子への電荷付与を行う、いわゆる一成分現像方式とに大別される。このうち一成分現像方式は、省スペース性、低コスト化に対して二成分現像方式よりも有利であることから、小型のプリンター、ファクシミリなどに多く採用されている。

これらの電子写真方式による画像形成装置においては、現像方式の違いによらず、一般的にドラム形状やベルト形状などの像担持体を回転させつつ一様に帯電し、レーザー光などにより前記像担持体上に潜像パターンを形成し、これを現像装置により可視像化され、更に記録媒体上に転写を行っている。
また、前記記録媒体に可視像を転写した後の像担持体上には、転写されなかったトナー成分が残留する。
この残留トナー成分が、そのまま帯電工程に搬送されると、像担持体の均等な帯電を阻害することがあるため、一般的には、転写工程を経た後に、前記像担持体上に残留するトナー成分などを、クリーニング工程にて除去し、前記像担持体表面を十分に清浄な状態とした上で、帯電が行われる。

近年、前記電子写真方式による画像形成装置の小型化及び低コスト化のため、前記画像形成の帯電工程において、接触帯電方式や近接帯電方式が多く用いられている。
しかし、帯電部材と像担持体表面との微少な接触ムラ、前記帯電部材と前記像担持体表面とのギャップ変動などにより、前記像担持体表面を均一に帯電させることが困難であるため、直流ＤＣ成分に交流ＡＣ成分を重畳した、ＡＣ重畳帯電方式が用いられるようになってきた。
前記ＡＣ重畳帯電による近接帯電方式は、装置の小型化及び高画質化を実現できると同時に、帯電均一性を保ちながら前記帯電部材と前記像担持体とを非接触にできることから、前記帯電部材の劣化を抑制することができる。

しかし、前記像担持体が有機感光体ＯＰＣである場合には、前記ＡＣ重畳帯電のエネルギーが前記像担持体表面の樹脂鎖を切断し、機械的強度を低下させ、前記像担持体の摩耗が著しく進む。また、前記ＡＣ重畳帯電は前記像担持体表面を活性化させるため、前記像担持体表面とトナーとの間の付着力が増加し、前記像担持体に対するクリーニング性が低下するという問題がある。

一方、昨今、出力画像のカラー化が進み、画像の高画質化、及び画像品質の安定化のため、トナーの小粒径化、円形化の方向に開発が進んでいることから、電子写真方式の画像形成方法において、クリーニングに対する課題が大きくなってきている。
このようなトナーをクリーニングするためには、クリーニング部材の像担持体に対する摺擦力を従来よりも必要とするため、像担持体、クリーニング部材などの摩耗が著しく進むという問題がある。
このように、前記電子写真方式による画像形成の各工程においては、電気的ストレスや物理的ストレスが存在する。そして、これらのストレスを受けた前記像担持体は、使用時間を経るに伴って表面状態が変化する。

このような問題に対して、前記像担持体上に保護剤を塗布することが有効であることが知られている。例えば、ステアリン酸亜鉛を主成分とするブロック状の保護剤、いわゆる保護剤ブロックを像担持体上に塗布する方法（例えば、特許文献１）や、ステアリン酸亜鉛を主成分とする保護剤ブロックに、窒化ホウ素を添加した保護剤ブロックを像担持体上に塗布する方法（例えば、特許文献２）などがある。
前記像担持体上への保護剤ブロックの塗布は、像担持体上の摩擦係数を低下させてクリーニングブレードや像担持体の劣化を低減させるとともに、像担持体上に付着する未転写トナーなどの付着物の離脱性を向上させ、その結果、経時のクリーニング不良やフィルミングの発生を抑止することができる。

前記像担持体上に保護剤ブロックを塗布する技術として、保護剤ブロックと、該保護剤ブロックに接触して表面に付着させた保護剤を像担持体に塗布するブラシ状回転部材からなる保護剤供給部材と、保護剤ブロックを加圧して保護剤供給部材に接触させる保護剤加圧部材とを有する保護層形成装置などが提案されている（例えば、特許文献３及び４）。

しかし、これらの提案の技術では、ブラシ状回転部材の回転によって、保護剤ブロックから摺擦された保護剤の粉が大量に飛翔してしまい、大量の保護剤が無駄になるという問題がある。また、経時でブラシ繊維の毛倒れや劣化がおこり、保護剤の消費量が安定せず、長期に亘り一定の量で保護剤を供給できないという問題がある。

そこで、保護層形成装置の保護剤供給部材に、発泡体層を有するローラ状の保護剤供給部材を使用する技術が提案されている（例えば、特許文献５）。
この提案の技術では、摺擦による保護剤の粉の飛翔が殆ど発生しない。

しかし、この提案の技術では、発泡層が独立気泡で構成されているために、保護剤ブロックや像担持体との摺擦により、経時で発泡体層が劣化・破壊してしまう。結果、前記保護剤を長期にわたり像担持体へ十分に供給できず、像担持体のフィルミング等を発生させてしまう。
このような課題に対して、発泡層が連続気泡体を含む発泡体ローラにより構成された技術が本出願人から提案されている(例えば、特許文献６)。が提案されている。

一方、発泡体ローラの発泡層に代表されるポリウレタンフォームは、ポリオール、ポリイソシアネート、水、触媒、整泡剤を混合し、化学反応により発生する炭酸ガスがポリウレタン樹脂中に捕捉されることによって形成され、その製造段階では、整泡剤の使用が必須とされている。
整泡剤の役割は、相溶性のないポリウレタン原料成分を相互に均一に分散させ、その系の表面張力を下げることによって、気泡を作り易くするとともに気泡を均一にして安定化させることにある。このような方法において使用される整泡剤としては、オルガノポリシロキサン、変性シリコーンオイル等のシリコーン整泡剤が多く用いられる。

しかしながら、このような製泡剤を使用して得られたポリウレタンフォーム中には、生成過程にて残存する低分子シロキサンを含んでいる。この低分子シロキサンは、発泡体から染み出したり、またはガス化することで、周辺部材を汚染させてしまう。
電子写真装置に組み込まれた後、ポリウレタンフォームの近傍の像担持体表面が加水分解される．結果として汚染部に対応して白ポチ状の異常画像が出力されてしまう。特に、像担持体表面への汚染は、高温高湿の環境下において、汚染は激しく発生する。

このような課題に対して、特許文献７では、ケイ素原子数１０以下の低分子シロキサンの含有量を５０００ｐｐｍ以下とすることが提案されている(例えば、特許文献７)。
また、特許文献８では、ポリウレタン形成材料が分子構造中に水酸基を有するシリコーン整泡剤を使用することも提案されている(例えば、特許文献８)。

しかしながら、特許文献７に示された内容では、低分子シロキサンを除去した発泡体は製造コストが高価となる虞があり、コスト低減化を促進するうえで電子写真用部品としては適さないといえる。
また、特許文献８に示されている内容では、低分子シロキサンの染み出しを完全に除去できておらず、これが原因となって異常画像が発生する可能性は十分にあるという不具合がある。

本発明の目的は、上記従来の像担持体表面での保護層における問題に鑑み、像担持体に保護材を供給する供給部材であるローラの発泡層から触媒・整泡剤等の汚染物質がブリード（染み出し）しても、像担持体表面への汚染が防止され、結果として、長期に亘って良好な画像を出力可能な画像形成装置を提供することにある。

この目的を達成するため、本発明は、少なくともトナー像を担持する像担持体を有し、該像担持体表面に像担持体保護剤を塗布または付着させる像担持体用保護剤の供給部材を有する画像形成装置であって、前記像担持体用保護剤の供給部材が芯金とその外周に配置された発泡体層を有するローラで構成され、前記像担持体の表面層が、電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマーと電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化させた架橋構造を含む層を備えて構成されていることを特徴とする画像形成装置にある。

本発明によれば、像担持体に保護材を供給する供給部材であるローラの発泡層から触媒・整泡剤等の汚染物質がブリード（染み出し）しても、架橋構造を含む層によって像担持体表面への汚染が防止され、結果として、長期に亘って良好な画像を出力可能な画像形成装置を提供することが可能となる。

本発明の実施形態に係る像担持体を用いる画像形成装置の一例を説明するための模式図である。 本発明の実施形態に係る像担持体に対する保護剤供給装置の原理構成を説明するための模式図である。 図２に示した保護剤供給装置に用いられる保護剤塗布部材の発泡構造に関する構成および作用を説明するための図である。 図３に示した保護剤供給装置に用いられる保護剤塗布部材の構成を説明するための図である。 図２に示した保護剤供給装置に用いられる保護剤の成型方法および構成を説明するための図である。

以下、図面により本発明を実施するための形態について説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る画像形成装置の一つを示す図である。
図１に示す画像形成装置１００は、異なる色画像を形成可能な複数の作像ステーションが転写装置に用いられる中間転写体６０の展張面に沿って並置されたタンデム方式のカラープリンタである。

画像形成装置１００は、ドラム状の像担持体１Ｙ，１Ｍ，１Ｃ，１Ｋの周囲に、それぞれ保護層形成装置２、帯電装置３、潜像形成装置８、現像装置５０、転写装置６、及びクリーニング装置４が配置され、以下の動作で画像形成が行われる。
以下に、画像形成のための一連のプロセスについて、ネガ−ポジプロセスで説明を行う。
有機光導電層を有する感光体（ＯＰＣ）に代表される像担持体は、除電ランプ（図示せず）等で除電され、帯電部材を有する帯電装置３で均一にマイナスに帯電される。

帯電装置による像担持体の帯電が行われる際には、電圧印加機構（図示せず）から帯電部材に、像担持体１Ｙ，１Ｍ，１Ｃ，１Ｋを所望の電位に帯電させるに適した、適当な大きさの電圧又はこれに交流電圧を重畳した帯電電圧が印加される。
帯電された像担持体１Ｙ，１Ｍ，１Ｃ，１Ｋは、レーザー光学系等の潜像形成装置８によって照射されるレーザー光で潜像形成（露光部電位の絶対値は、非露光部電位の絶対値より低電位となる）が行われる。
レーザー光は半導体レーザーから発せられて、高速で回転する多角柱の多面鏡（ポリゴン）等により像担持体１Ｙ，１Ｍ，１Ｃ，１Ｋの表面を、像担持体の回転軸方向に走査する。

このようにして形成された潜像が、現像装置５０にある現像剤担持体である現像スリーブ５０Ａ上に供給されたトナー粒子、又はトナー粒子及びキャリア粒子の混合物からなる現像剤により現像され、トナー可視像が形成される。なお、図において符号５０Ｂ，５０Ｃは撹拌搬送部材を示している。
潜像の現像時には、電圧印加機構（図示せず）から現像スリーブに、像担持体１Ｙ，１Ｍ，１Ｃ，１Ｋの露光部と非露光部の間にある、適当な大きさの電圧又はこれに交流電圧を重畳した現像バイアスが印加される。

各色に対応した像担持体１Ｙ，１Ｍ，１Ｃ，１Ｋ上に形成されたトナー像は、転写装置６にて中間転写体６０上に転写され、給紙機構２００から給送された、紙などの記録媒体上に、トナー像が転写される。
このとき、転写装置６には、転写バイアスとして、トナー帯電の極性と逆極性の電位が印加されることが好ましい。その後、中間転写体６０は、像担持体から分離され、転写像が得られる。
また、像担持体上に残存するトナー粒子は、クリーニング部材によって、クリーニング装置４内のトナー回収室へ回収される。

画像形成装置としては、上述の現像装置が複数配置されたものを用い、複数の現像装置によって順次作製された色が異なる複数トナー像を順次転写材上へ転写した後、定着機構へ送り、熱等によってトナーを定着する装置であっても、あるいは同様に作製された複数のトナー像を順次一旦中間転写体上に順次転写した後、これを一括して紙のような記録媒体に転写後に、同様に定着する装置であってもよい。
また、前記帯電装置３は、像担持体表面に接触又は近接して配設された帯電装置であることが好ましく、放電ワイヤを用いた。これにより、いわゆるコロトロンやスコロトロンなどの形式が相当するコロナ放電器と比して、帯電時に発生するオゾン量を大幅に抑制することが可能となる。

図１に示したが画像形成装置に用いられる像担持体は、表面に保護層を形成されるようになっている。
保護層は、画像形成の各工程において受ける電気的ストレスや物理的ストレスが原因した表面状態の変化を防止するために用いられる。
図２は、像担持体表面への保護層を形成するために用いられる保護層形成装置の構成を示している。

図２において保護層形成装置２、４は、像担持体である感光体ドラム１に対向して配設されており、疎水化処理された無機化合物からなる潤滑剤が用いられる像担持体用保護剤２１、保護剤供給部材２２、押圧力付与機構２３、保護層形成機構２４、保護層形成機構４１等から主に構成される。

図２に示す構成においては、保護層形成装置４がクリーニング機構を兼ねている。つまり、像担持体である感光体ドラム１に塗布または付着している像担持体用保護剤が劣化した場合には、通常のクリーニング機構により、像担持体に残存したトナー等の成分と共にクリーニング機構により除去される。
しかし、このようなクリーニング機構は、上述の保護層形成部材と兼用にしてもよいが、像担持体表面残存物を除去する機能と、保護層を形成する機能とは、適切な部材の摺擦状態が異なることがある。このため、機能を分離し、図２に示すように像担持体用保護剤供給部より上流側に、クリーニング部材４１、クリーニング押圧機構４２等からなるクリーニング機構４を設けることが好ましい。

図２において像担持体用保護剤２１は、押圧力付与機構２３からの押圧力により、後述するが、発泡体を備えた保護剤供給部材２２に接触するようになっている。
保護剤供給部材２２は、像担持体である感光体ドラム１の移動方向に相当する回転方向においてクリーニング機構として兼用される保護層形成装置４の下流側に配置されて感光体ドラム１と当接しながら回転し、この際に、保護剤供給部材２２の表面に保持された像担持体用保護剤として用いられる疎水性有機化合物２１を、像担持体表面に供給する。
保護材供給部材２２によって感光体ドラム１の表面に供給された像担持体用保護材による保護層は、保護層形成機構２４により均されて薄層化される。

上述した保護剤供給部材２２は、芯材と、前記芯材の外周に形成され複数の気泡を有する発泡体層とを少なくとも有し、必要に応じて、更にその他の部材を有する。
前記保護剤供給部材は、前記保護剤を削り取り、該保護剤を前記像担持体表面に供給する手段である。
前記保護剤供給部材の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ローラ状であることが好ましい。

以下に各部材について説明する。
−芯材−
前記芯材の材質、形状、大きさ、構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記芯材の材質としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等の樹脂；鉄、アルミ、ステンレス等の金属などが挙げられる。
前記芯材の形状としては、例えば、円柱状、円筒状などが挙げられる。

−発泡体層−
前記発泡体層は、前記芯材の外周に形成される層であり、複数の気泡（「セル」、「孔」、「空隙」などとも称することがある）を有する。
前記発泡体層の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円筒状などが挙げられる。

前記発泡体層の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、発泡ポリウレタンなどが挙げられる。

−−発泡ポリウレタン−−
前記発泡ポリウレタンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリオールと、ポリイソシアネートと、触媒と、発泡剤とを少なくとも混合し、更に必要に応じて、整泡剤等のその他の成分を混合し、反応させて得られる発泡ポリウレタンなどが挙げられる。

−−−ポリオール−−−
前記ポリオールとしては、特に制限はなく、従来公知の各種ポリオールの中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオールなどが挙げられる。これらの中でも、加工性、発泡体層の硬度などの調整が容易な点から、ポリエーテルポリオールが好ましい。

前記ポリエーテルポリオールとしては、例えば、２個〜８個の活性水素基を有する低分子ポリオール及び低分子ポリアミンの少なくともいずれかを開始剤として、これにエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの少なくともいずれかを開環付加重合させることにより得られるポリエーテルポリオールなどが挙げられる。
また、前記ポリエーテルポリオールとしては、例えば、一般に軟質ポリウレタンフォームの製造に用いられているポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートなどが挙げられる。
前記ポリエーテルポリオールとしては、成型性の点から、エチレンオキシドが５モル％以上端末に結合したポリエーテルポリエーテルポリオールが好ましい。

前記ポリエステルポリオールとしては、例えば、アジピン酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、無水マレイン酸等の二塩基酸又はその無水物と、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１、４−ブタンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン等のグリコールやトリオールとを重合させることにより得られるポリエステルポリオールなどが挙げられる。
また、前記ポリエステルポリオールとしては、ポリエチレンテレフタレート樹脂の廃材を、上記したグリコールで解重合することによって得られたものも用いることができる。
前記ポリオールは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

−−−ポリイソシアネート−−−
前記ポリイソシアネートとしては、特に制限はなく、従来公知の各種ポリイソシアネートの中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、２、４−トリレンジイソシアネート（２、４−ＴＤＩ）、２、６−トリレンジイソシアネート（２、６−ＴＤＩ）、トリジンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、ナフチレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、４、４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、カルボジイミド変成ＭＤＩ、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、ポリメリックポリイソシアネートなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記ポリイソシアネートの配合量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ポリオールの水酸基に対する前記ポリイソシアネートのイソシアネート基の当量比（ＮＣＯ／ＯＨ）として、１.０〜３.０の範囲が挙げられる。

−−−触媒−−−
前記触媒としては、特に制限はなく、従来公知のウレタン化反応に使用される触媒の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アミン系触媒、有機金属系触媒などが挙げられる。
前記アミン系触媒としては、例えば、トリエチレンジアミン、ジメチルエタノールアミン、ビス（ジメチルアミノ）エチルエーテルなどが挙げられる。
前記有機金属系触媒としては、例えば、ジオクチルスズ、ジステアリルスズジブチレートなどが挙げられる。
前記触媒は、活性水素を有するジメチルアミノエタノールなどの反応性触媒であってもよい。
これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記触媒の配合量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ポリオール１００質量部に対して、０.０１質量部〜２０質量部が挙げられる。
前記触媒の種類を適宜選択し、その使用量をコントロールすることで、前記発泡体層の気泡壁幅、開口気泡径、硬度や通気量などを調整することができる。

−−−発泡剤−−−
前記発泡剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば水、フロン系化合物、低沸点炭化水素系化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記フロン系化合物としては、例えば、ＨＣＦＣ−１４１ｂ、ＨＦＣ−１３４ａ、ＨＦＣ−２４５ｆａ、ＨＦＣ−３６５ｍｆｃなどが挙げられる。
前記の低沸点炭化水素系化合物としては、例えば、シクロペンタン、ｎ−ペンタン、ｉｓｏ−ペンタン、ｎ−ブタンなどが挙げられる。
前記発泡剤の配合量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ポリオール１００質量部に対して、５質量部〜５０質量部が挙げられる。
前記発泡剤の種類を適宜選択し、その使用量をコントロールすることで、前記発泡体層の気泡壁幅、開口気泡径、硬度や通気量などを調整することができる。

−−−その他の成分−−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、整泡剤、架橋剤、破泡剤、導電剤、帯電防止剤、難燃剤、減粘剤、顔料、安定剤、着色剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記整泡剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シリコーン系界面活性剤などが挙げられる。
前記シリコーン系界面活性剤としては、市販品を用いることができ、該市販品の具体例としては、ジメチルシロキサン系整泡剤（例えば、トーレダウコーニングシリコーン社製の「ＳＲＸ−２５３」、信越化学工業株式会社製の「Ｆ−１２２」等）、ポリエーテル変性ジメチルシロキサン系整泡剤（例えば、日本ユニカー株式会社製の「Ｌ−５３０９」、「ＳＺ−１３１１」等）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記整泡剤の配合量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ポリオール１００質量部に対して、０.２質量部〜１０質量部などが挙げられる。

前記架橋剤、破泡剤は、前記発泡体層の気泡の独立気泡性、連続気泡性をコントロールする目的で配合される。
前記架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。
前記破泡剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記整泡剤の中で破泡性の高いものが挙げられる。
前記架橋剤、破泡剤の配合量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

通常、前記ポリイソシアネート以外の成分は予め混合し、成型の直前にポリイソシアネート成分と混合して用いられる。
前記発泡体層の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、独立気泡型、連続気泡型、及びこれらの混合型などが挙げられる。

図３は、発泡体層の構造およびこれの作用について説明する図であり、同図(Ａ)は、連続気泡型の発泡体を、そして同図(Ｂ）は独立気泡型の発泡体を示している。
図３（Ａ）に示す連続気泡型の発泡体層は、隣接する気泡が互いにつながっているため、空気や水を通す構造の発泡体層である。また、図３（Ｂ）に示す独立気泡型の発泡体層は、気泡が独立しており、空気や水を通さない構造の発泡体層である。

前記発泡体層は、これらの中でも、連続気泡型が、圧縮残留ひずみが小さく、圧縮させても元の形状に戻りやすいため、長期の使用においてもほとんど変形しない点で好ましい。また連続気泡型は、独立気泡型と比べて摺擦による保護剤の粉の飛翔が生じにくく、コスト面で有利であり、また少量の保護剤の供給量（保護剤ブロック削り量）でムラなく十分に像担持体を保護できるため、像担持体のフィルミングを防止でき、更に小さい保護剤ブロックにすることができ、装置を小型化できる点でも有利である。

前記発泡体層の密度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、経時でのローラ外径の変化が無いという観点から、２０ｇ／ｃｍ^３〜 １５０ｇ／ｃｍ^３が好ましい。
前記発泡体層の密度は、巾、長さ、高さそれぞれ約３０ｃｍの立方体試料を作製し、重量と見かけ容積を測定して求めた値であり、ＪＩＳ Ｋ７２２２に従い測定することができる。

前記発泡体層の平均気泡径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００μｍ〜１２００μｍが好ましい。
前記発泡体層の平均気泡径は、例えば、レーザー顕微鏡（キーエンス社製VK９５００）により測定できる。

前記発泡体層の１インチあたりの気泡の数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、４０個／インチ〜１００個／インチが好ましい。前記気泡の数ｍが、３０個／インチ未満であると、像担持体と保護剤供給部材との線速差を大きくしても効率的に像担持体保護剤を塗布できないことがあり、１００個／インチを超えると、発泡体層の硬度が上昇することがある。像担持体と保護剤供給部材との線速差を設けた場合、硬度が大きいと、それぞれの駆動トルクが上昇してしまう。

発泡体層の１インチあたりでの気泡の数は、例えば、図４に示す方向により測定できる。 図４（Ａ）は、芯材（便宜上、符号２２Ａで示す）の外周に発泡体層（便宜上、符号２２Ｂで示す）を有する保護剤供給部材２２の一例を示す側面図である。
図４（Ｂ）は、隣接する複数の気泡（便宜上、符号Ｂで示す）が互いにつながっている連続発泡型の発泡体層２２Ｂの露出面の一例を示す拡大模式図である。なお、以下の説明において、１インチとは、２５．４ｍｍを意味する。

図４（Ａ）に示すように、発泡体層２２Ｂの表面において、保護剤供給部材２２の軸方向の両端部と中央部とで測定箇所を任意に３点選択する。ここでは、図４（Ａ）中、符号Ｓ１が端部の測定箇所、符号Ｓ２が中央部の測定箇所を示す。
次いで、各測定箇所（Ｓ１、Ｓ２）において、保護剤供給部材２２Ｂの周方向に更に２点ずつ選択して(図示しない)、合計９点の測定箇所を決定する。
次に、マイクロスコープ（例えば、デジタルマイクロスコープ ＶＨＸ−１００、キーエンス社製）を用い、それぞれの測定箇所の写真画面を観察する。

そして、図４（Ｂ）に示すように、写真画面の中心部に実寸１インチ（２５．４ｍｍ）に対応する長さの線（Ｘ）を引き、線（Ｘ）上に存在する気泡（１１）の数をカウントし、測定箇所９点の平均値を求め、これを気泡の数（個／インチ）とする。
ここで、線（Ｘ）上に存在する気泡（１１）とは、線（Ｘ）が、気泡（１１）内部を突き抜けている場合だけでなく、線（Ｘ）と気泡（１１）の外周の一部とが、たとえわずかであっても接触したものを全て含み、これを１つの気泡としてカウントする。
例えば、図４（Ｂ）の場合の気泡の数は、１２個／インチである。

なお、前記気泡の数を測定する際の１インチとは、前記測定方法において、平面写真から算出する関係で、図２Ａの測定箇所（３０、３１）に示すように、軸方向の１インチであるが、後述の保護剤供給部材の製造方法に示すように、前記保護剤供給部材は、予め作製した発泡体の一部を切り出して前記芯材に巻きつけたものであるため、前記保護剤供給部材における軸方向の１インチあたりの気泡の数と、前記保護剤供給部材における周方向の１インチあたりの気泡の数とは、実質的に同じである。

次に発泡体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｍｍ〜４ｍｍが好ましい。
前記平均厚みが、１ｍｍ未満であると、シャフト（芯材）の影響を拾いやすく、４ｍｍを超えると、保護剤の削れてしまう量が減ることがある。
なお、前記発泡体層が円筒状の場合には、円筒状の内周面と外周面との距離を厚みとする。ここで、前記平均厚みとは、前記発泡体層の前記厚みを任意に３点測定した際の平均値である。

前記発泡体層の硬度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０Ｎ〜４３０Ｎが好ましい。
前記硬度は、前記発泡体層表面における任意の３点においてＪＩＳ Ｋ ６４００に基づいて測定された値の平均値である。

前記発泡体層における、前記気泡の形態（連続気泡型又は独立気泡型）、前記気泡の数ｍ、前記発泡体層の硬度などは、該発泡体層を製造する際の、発泡ポリウレタン原料の種類、発泡剤の量、反応条件などを適宜調整することにより制御することができる。

保護剤供給部材２２の製造方法に関していうと、保護剤供給部材２２の製造方法には特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することが可能である。
例えば、前記発泡ポリウレタンを前記発泡体層の材質とした場合の製造例を説明すると次の通りである。
まず、公知の方法により発泡ポリウレタン原料を発泡硬化させてブロック状の発泡ポリウレタンを形成する。そして、必要な形状に切り出して表面を研磨し、表面に開口した気泡を有する円筒状に加工した後、円筒状の内部に前記芯材を挿入する。

その後、研磨機及び切削機を用いて発泡ポリウレタンを回転させながら研磨刃等を当てて、保護剤供給部材の軸方向に平行に刃を移動させ、所定の厚まで切削する（トラバース研削）。これにより、表面に開口した気泡を有する円筒状の保護剤供給部材が得られる。更に、保護剤供給部材の回転速度や移動させる速度を変化させることで、発泡体層表面に不規則な凹凸を形成することもできる。
前記芯材には、発泡体層との接着性を高めるために、接着材を塗布しておいてもよい。これら工程により、前記保護剤供給部材が製造される。

前記保護剤供給部材の製造方法の他の一例についても説明すると次の通りである。
前記芯材を収納した保護剤供給部材成型用の成型型に発泡ポリウレタン原料を注入し、発泡硬化させる。このことにより、前記保護剤供給部材が製造される。
これら製造方法のうち、発泡体層の形成とその表面を開口させることが同時にでき、加工精度も良好であることから、成型型を用いる方法が好ましい。
前記成型型を用いる製造方法においては、複雑な加工を必要とせず、好適な開口性を有する前記発泡体層を形成できる点から、成型型内表面にフッ素樹脂コーティング剤、離型剤等による離型層を設けておくことが好ましい。

次に像担持体用保護剤（以下、便宜上、保護剤と称する場合もある）２１について説明すると、像担持体用保護剤２１は、脂肪酸金属塩と無機潤滑剤とを少なくとも含有し、必要に応じて、さらにその他の成分を含有させてある。

含有されている成分は次の通りである。
−脂肪酸金属塩−
前記脂肪酸金属塩としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ステアリン酸金属塩、オレイン酸金属塩、パルミチン酸金属塩、カプリル酸金属塩、リノレン酸金属塩、リシノール酸金属塩などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記ステアリン酸金属塩としては、例えば、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸鉛、ステアリン酸鉄、ステアリン酸ニッケル、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸銅、ステアリン酸ストロンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜鉛などが挙げられる。

前記オレイン酸金属塩としては、例えば、オレイン酸亜鉛、オレイン酸マグネシウム、オレイン酸鉄、オレイン酸コバルト、オレインサン銅、オレイン酸鉛、オレイン酸マンガンなどが挙げられる。

前記パルミチン酸金属塩としては、例えば、パルミチン酸亜鉛、パルミチン酸コバルト、パルミチン酸鉛、パルミチン酸マグネシウム、パルミチン酸アルミニウム、パルミチン酸カルシウムなどが挙げられる。
前記カプリル酸金属塩としては、例えば、カプリル酸鉛などが挙げられる。

前記リノレン酸金属塩としては、リノレン酸亜鉛、リノレン酸コバルト、リノレン酸カルシウムなどが挙げられる。
前記リシノール酸金属塩としては、例えば、リシノール酸亜鉛、リシノール酸カドミウムなどが挙げられる。

これらの中でも、前記脂肪酸金属塩としては、ラメラ結晶を有する物質が、両親媒性分子が自己組織化した層状構造を有しており、せん断力が加わると層間にそって結晶が割れて滑りやすく潤滑性に優れる点で好ましく、像担持体表面を比較的均等に覆い帯電工程における電気的ストレスから良好に保護し、像担持体の汚染の抑制に優れる点で、ステアリン酸金属塩が好ましく、ステアリン酸亜鉛がより好ましい。
前記保護剤における前記脂肪酸金属塩の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

−無機潤滑剤−
前記無機潤滑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マイカ、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、タルク、カオリン、モンモリロナイト、フッ化カルシウム、グラファイトなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、前記無機潤滑剤としては、窒化ホウ素、マイカ、タルクが好ましく、窒化ホウ素が、帯電部材の汚染の抑制に優れる点でより好ましい。

前記保護剤における前記無機潤滑剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記保護剤における前記脂肪酸金属塩と前記無機潤滑剤との含有比としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、脂肪酸金属塩：無機潤滑剤が、質量比で、１００：０〜５０：５０が好ましく、９０：１０〜６０：４０がより好ましい。

前記含有比において、５０：５０よりも脂肪酸金属塩が少なくなると、像担持体上に保護層を形成することが困難になることがある。前記含有比が、前記より好ましい範囲であると、像担持体の汚染及び帯電部材の汚染の抑制に優れる点で有利である。

前記保護剤の大きさ、形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記形状としては、例えば、四角柱状、円柱状等のバー状などが挙げられる。これらの中でも、前記保護剤の形状は、四角柱状が好ましい。

−成型方法−
前記保護剤の成型方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶融成型法、圧縮成型などが挙げられる。なお、一般的に、前記溶融成型法で形成された保護剤は、半透明であり、圧縮成型法で形成された保護剤は、白色であるため、これらは目視により判別が可能である。
これらの中でも、前記保護剤の成型方法としては、圧縮成型方が好ましい。

前記圧縮成型の方法の一例を、図５を用いて説明する。
図５は、保護剤の製造装置を示し、図５（Ｂ）は図５（Ａ）に示した製造装置の概略断面をそれぞれ示している。

図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示すように、前記保護剤の製造装置５０は、下型５１と、前記下型５１を挟むように配置され前記保護剤の長手方向に延在する側面を形成する一対の横型５２と、前記下型５１及び前記横型５２を挟むように配置され前記保護剤ブロックの長手方向における端面を形成する一対の端型５３と、上型５４とを有している。

図５（Ａ）において、前記端型５３の一方は分解した状態を示しているが、実際には、他方の前記端型５３に対向する位置を占めており、次に述べる前記保護剤の圧縮成型時には、これら前記端型５３、前記下型５１、前記横型５２により、前記上型５４が進入する空間を除いて密閉空間を形成する。
また、図５（Ａ）、（Ｂ）において矢印Ｙで示すように前記上型５４が移動してかかる密閉空間に進入すると、前記下型５１、前記横型５２、前記端型５３、前記上型５４により、完全な密閉空間が形成される。

前記上型５４が外された状態で、形成された空間に、前記保護剤の原材料となる粉体Ｇが充填される。前記粉体Ｇは、粒状であってもよいし、顆粒状であってもよいし、これらの混合物であってもよい。

前記粉体Ｇの投入が終了すると、前記上型５４をかかる密閉空間に向けて矢印Ｙ方向に進入させ、完全な密閉空間を形成しつつ、プレスを行い、保護剤のブロックが形成される。
以上の工程により、圧縮成型により図５（Ｃ）に示すような四角柱状の保護剤ブロックが製造される。
保護剤は、図５（Ｄ）に示すように、研削された表面と反対側である裏面をホルダに取り付けられて用いられる。

図２に示した押圧力付与機構２３、保護層形成機構２４、保護層形成機構４１に関しては、次の構成を用いることが可能である。
−押圧力付与機構２３−
これは、像担持体用保護剤２１を押圧して保護剤供給部材２２に当接させる部材であれば特に制限はなく、例えば、加圧バネなどの弾性体が用いられる。

−保護層形成機構２４、４１−
保護層形成部材としては、像担持体表面に供給された像担持体用保護剤２１を薄層化して保護層を形成可能なものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択でき、例えば、ブレードが挙げられる。

前記ブレードの材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ウレタンゴム、ヒドリンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらブレードは、像担持体との接点部分を低摩擦係数材料で、コーティングや含浸処理してもよい。また、前記ブレードの硬度を調整するために、有機フィラー、無機フィラーなどの充填材を分散させてもよい。

前記ブレードは、ブレード支持体に、先端部が像担持体表面へ押圧当接できるように、接着や融着等の任意の方法によって固定される。前記ブレードの厚みについては、押圧で加える力との兼ね合いで一義的に規定できるものではないが、０．５ｍｍ〜５ｍｍが好ましく、１ｍｍ〜３ｍｍがより好ましい。
また、前記ブレード支持体から突き出し、たわみを持たせることができるブレードの長さ、いわゆる自由長についても同様に押圧で加える力との兼ね合いで一義的に規定できるものではないが、１ｍｍ〜１５ｍｍが好ましく、２ｍｍ〜１０ｍｍがより好ましい。

上述したように、保護層形成機構では、像担持体表面に付着した像担持体用保護剤を薄層化することで像担持体表面での保護効果を確保させることを意図しているが、保護剤は、比較的組成変形しやすい。このため、塊状の像担持体保護剤成分を直接像担持体表面へ押し付け保護層を形成させようとした場合、供給が過剰になり保護層形成効率がよくないばかりでなく、保護層が多層化し静電潜像を形成する際等の露光工程で光の透過を阻害する要因となることがあるため、使用できる像担持体保護剤の種類が制限されることがある。
そこで、像担持体保護剤と像担持体の間に保護層形成部材を介させることにより、軟質な像担持体保護剤を用いた場合にでも、像担持体表面へ均等に供給することができる点で有利となる。

前記保護層形成部材の他の構成としては、バネ板等の弾性金属ブレード表面に、必要に応じてカップリング剤やプライマー成分等を介して、樹脂、ゴム、エラストマー等の被覆層をコーティング、ディッピング等の方法で形成し、必要により熱硬化等を行い、更に必要であれば表面研摩等を施したものが挙げられる。
前記被覆層は、少なくともバインダー樹脂及び充填剤を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。

前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる、例えば、パーフルオロアルコキシアルカン（ＰＦＡ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶｄＦ）等のフッ素樹脂；フッ素系ゴム、メチルフェニルシリコーンエラストマー等のシリコーン系エラストマーなどが挙げられる。
前記弾性金属ブレードの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０５ｍｍ〜３ｍｍが好ましく、０．１ｍｍ〜１ｍｍがより好ましい。前記弾性金属ブレードでは、ブレードのねじれを抑止するために、取り付け後に支軸と略平行となる方向に、曲げ加工等の処理を施してもよい。

前記保護層形成部材で像担持体を押圧する力は、像担持体用保護剤が延展し保護層の状態になる力で十分であり、線圧として５ｇｆ／ｃｍ〜８０ｇｆ／ｃｍが好ましく、１０ｇｆ／ｃｍ〜６０ｇｆ／ｃｍがより好ましい。

前記保護層形成部材は、クリーニング部材を兼ねてもよいが、より確実に保護層を形成するには、予めクリーニング部材により像担持体上のトナーを主成分とする残存物を除去し、残存物が保護層内に混入しないようにすることが好ましい。

次に、像担持体について説明する。
本形態での像担持体（以下、便宜上、感光体と称することもある）は、その表面層が電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマーと電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とを硬化させた架橋構造の層構成としてことを特徴としている。

この理由は次の通りである。
感光体の表面層は、加熱又は光エネルギー照射によって硬化されており、有機溶媒に対し不溶性となっており、長期繰り返し使用によっても感光体の機械的劣化が少なく、また感光体表面の耐傷性が顕著に向上し、高耐久化と同時に優れたクリーニング性を維持することが望まれる。

硬化可能な硬化性樹脂としては、熱硬化樹脂、光硬化樹脂、電子線硬化樹脂等が挙げられ、中でも紫外線硬化樹脂は硬度が高く、耐傷性に優れるため特に有効である。例えば、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等が好ましく用いられる。

一方、感光体の静電特性を満足させるためには、表面層に電荷輸送機能を付与する必要がある。電荷輸送機能を持たせないと残留電位上昇や感度劣化を引き起こし、感光体の画質安定性を大きく低下させてしまう。

そこで、本発明の形態においては、上述したように、電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマーと電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とを硬化させた架橋構造とすることにより、静電特性の安定化を図ると共に、表面層の劣化や変化を防止するようになっている。

ちなみに、官能基を有しない低分子電荷輸送物質を表面層中に含有させた場合は、その相溶性の低さから低分子電荷輸送物質の析出や白濁現象が起こり、表面層の機械的強度の低下、残留電位上昇、感度劣化、表面粗さの著しい増加等により画像欠陥の発生等を引き起こす。 このような点からも、表面層に電荷輸送機能を持たせるには、電荷輸送機能と官能基を有するラジカル重合性化合物を用い、ラジカル重合性モノマーと硬化させることが好ましいといえる。

本発明の形態において、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、２官能以上のものを用いることも感光体表面の平滑性、静電特性、あるいは耐久性を損なわない範囲であれば可能である。
しかし、２官能以上の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含有すると架橋結合密度を高めることはできるが、嵩高い正孔輸送性化合物が多数の結合で絡み合うため、表面層に歪みが生じ硬化反応が不均一となる。
このため外部応力に対する回復力が局部的に低下し、耐摩耗性のバラツキが大きくなる。これにより局部的に凹凸が生じることによって本発明の効果が低減する恐れがある。
従って、２官能以上の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物よりも、１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を用いた方が好ましいといえる。

上記電荷輸送機能を有するラジカル重合性化合物と硬化させる電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとしては、１官能及び２官能のラジカル重合性モノマーを用いてもよいが、表面層中の架橋結合が希薄となり飛躍的な耐傷性向上が達成されない場合がある。 本発明での感光体においては、表面層に３官能以上のラジカル重合性モノマーを用いることがより好ましく、これにより３次元の網目構造が発達し、架橋度並びに弾性変位率が高くなる傾向を示し、弾性変位率と硬度とを両立しやすくなる。
このように、多官能のラジカル重合性モノマーを用いて硬化させることにより、感光体の機械的な耐摩耗性のみならず、耐傷性を顕著に向上させることが可能となり有効である。

よって、本発明においては、少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化した表面層が最も好ましく、これにより優れた耐摩耗性とクリーニング性が両立され、高耐久化を実現することが可能となる。

次に、本発明の実施形態に係る画像形成装置に用いられる像担持体の表面層塗布液の構成材料について説明する。
本発明で用いられる電荷輸送性を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーとは、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾールなどの正孔輸送性構造、例えば縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しておらず、且つラジカル重合性官能基を３個以上有するモノマーを指す。
このラジカル重合性官能基としては、炭素−炭素２重結合を有し、ラジカル重合可能な基であれば何れでもよい。
これらラジカル重合性官能基としては、例えば、下記に示す１−置換エチレン官能基、１、１−置換エチレン官能基が挙げられる。

（１）１-置換エチレン官能基としては、例えば以下の式１で表わされる官能基が挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ１− ・・・・（式１）
（ただし、式中、Ｘ１は、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＣＯＮ（Ｒ１０）−基（Ｒ１０は、水素、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表す。）、または−Ｓ−基を表わす。）
これらの置換基を具体的に例示すると、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１、３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、ビニルチオエーテル基等が挙げられる。

（２）１、１−置換エチレン官能基としては、例えば以下の式で表わされる官能基が挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨ（Ｙ）−Ｘ２− ・・・・（式２）
（ただし、式中、Ｙは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基あるいはエトキシ基等のアルコキシ基、−ＣＯＯＲ１１基（Ｒ１１は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、または−ＣＯＮＲ１２Ｒ１３（Ｒ１２およびＲ１３は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、あるいはフェネチル基等のアラルキル基、または置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表わし、互いに同一または異なっていてもよい。）
また、Ｘ２は上記式１のＸ１と同一の置換基及び単結合、アルキレン基を表わす。ただし、Ｙ、Ｘ２の少なくとも何れか一方がオキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基、及び芳香族環である。

これらの置換基を具体的に例示すると、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノエチレン基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。
なお、これらＸ１、Ｘ２、Ｙについての置換基にさらに置換される置換基としては、例えばハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
これらのラジカル重合性官能基の中では、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用であり、３個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば水酸基がその分子中に３個以上ある化合物とアクリル酸（塩）、アクリル酸ハライド、アクリル酸エステルを用い、エステル反応あるいはエステル交換反応させることにより得ることができる。また、３個以上のメタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして得ることができる。また、ラジカル重合性官能基を３個以上有する単量体中のラジカル重合性官能基は、同一でも異なっても良い。

電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーとしては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
すなわち、本発明において使用する上記ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、２、２、５、５、−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは、単独又は２種類以上を併用しても差し支えない。

また、本発明に用いられる電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーとしては、表面層中に緻密な架橋結合を形成するために官能基割合（分子量／官能基数）が２５０以下であることが望ましい。
これにより、表面層の弾性変位率や硬度が向上し、感光体表面の耐傷性が高まる傾向が見られている。
また、表面層に用いられる電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーの成分割合は、表面層全量に対し２０〜８０重量％、好ましくは３０〜７０重量％であり、実質的には塗工液固形分中の３官能以上のラジカル重合性モノマーの割合に依存する。

モノマー成分が２０重量％未満では表面層の３次元架橋結合密度が少なく、従来の熱可塑性バインダー樹脂を用いた場合に比べ飛躍的な耐傷性向上が達成されない場合がある。また、８０重量％を超えると電荷輸送性化合物の含有量が低下し、静電特性の劣化、特に残留電位上昇や感度劣化が生じる。
使用されるプロセスによって要求される耐摩耗性や静電特性が異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると３０〜７０重量％の範囲が最も好ましい。

本発明に用いられる１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とは、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾールなどの正孔輸送性構造、例えば縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しており、且つ１個のラジカル重合性官能基を有する化合物を指す。このラジカル重合性官能基としては、先のラジカル重合性モノマーで示したものが挙げられ、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用である。また、電荷輸送性構造としてはトリアリールアミン構造が有効であり、中でも以下に挙げる一般式（１）又は（２）の構造で示される化合物を用いた場合、感度、残留電位等の静電特性が良好に持続される。

（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、−ＣＯＯＲ７（Ｒ７は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基）、ハロゲン化カルボニル基若しくはＣＯＮＲ８Ｒ９（Ｒ８及びＲ９は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよい）を表わし、Ａｒ１、Ａｒ２は置換もしくは未置換のアリーレン基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ａｒ３、Ａｒ４は置換もしくは未置換のアリール基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ｘは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。Ｚは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、アルキレンオキシカルボニル基を表わす。ｍ、ｎは０〜３の整数を表わす。）

以下に、一般式（１）、（２）の具体例を示す。
前記一般式（１）、（２）において、Ｒ１の置換基中、アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等により置換されていても良い。

Ｒ１の置換基のうち、特に好ましいものは水素原子、メチル基である。
置換もしくは未置換のＡｒ３、Ａｒ４はアリール基であり、アリール基としては縮合多環式炭化水素基、非縮合環式炭化水素基及び複素環基が挙げられる。
該縮合多環式炭化水素基としては、好ましくは環を形成する炭素数が１８個以下のもの、例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ−インダセニル基、ｓ−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、及びナフタセニル基等が挙げられる。

該非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル及びジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物の１価基、あるいはビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、１、１−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、及びポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物の１価基、あるいは９、９−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物の１価基が挙げられる。

複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、及びチアジアゾール等の１価基が挙げられる。
また、前記Ａｒ３、Ａｒ４で表わされるアリール基は例えば以下に示すような置換基を有してもよい。

［１］ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等。
［２］アルキル基、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−プロピル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。

［３］アルコキシ基（−ＯＲ２）であり、Ｒ２は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
［４］アリールオキシ基であり、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
［５］アルキルメルカプト基またはアリールメルカプト基であり、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
［６］

（式中、Ｒ３及びＲ４は各々独立に水素原子、前記（２）で定義したアルキル基、またはアリール基を表わす。アリール基としては、例えばフェニル基、ビフェニル基又はナフチル基が挙げられ、これらはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。Ｒ３及びＲ４は共同で環を形成してもよい）
具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジ（トリール）アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
［７］メチレンジオキシ基、又はメチレンジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基等が挙げられる。
［８］置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等。

前記Ａｒ１、Ａｒ２で表わされるアリーレン基としては、前記Ａｒ３、Ａｒ４で表されるアリール基から誘導される２価基である。
前記Ｘは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。

置換もしくは無置換のアルキレン基としては、Ｃ１〜Ｃ１２、好ましくはＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖または分岐鎖のアルキレン基であり、これらのアルキレン基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチレン基、エチレン基、ｎ−ブチレン基、ｉ−プロピレン基、ｔ−ブチレン基、ｓ−ブチレン基、ｎ−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、２−ヒドロキエチレン基、２−エトキシエチレン基、２−シアノエチレン基、２−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、４−クロロフェニルエチレン基、４−メチルフェニルエチレン基、４−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。

置換もしくは無置換のシクロアルキレン基としては、Ｃ５〜Ｃ７の環状アルキレン基であり、これらの環状アルキレン基にはフッ素原子、水酸基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基を有していても良い。具体的にはシクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、３、３−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。

置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基としては、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコールを表わし、アルキレンエーテル基アルキレン基はヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基を有してもよい。

ビニレン基は、

で表わされ、
Ｒ５は水素、アルキル基（前記（２）で定義されるアルキル基と同じ）、アリール基（前記Ａｒ３、Ａｒ４で表わされるアリール基と同じ）、ａは１または２、ｂは１〜３を表わす。

前記Ｚは置換もしくは未置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、アルキレンオキシカルボニル基を表わす。
置換もしくは未置換のアルキレン基としは、前記Ｘのアルキレン基と同様なものが挙げられる。
置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基としては、前記Ｘのアルキレンエーテル基が挙げられる。
アルキレンオキシカルボニル基としては、カプロラクトン変性基が挙げられる。

また、本発明の１官能の電荷輸送構造を有するラジカル重合性化合物として更に好ましくは、下記一般式（３）の構造の化合物が挙げられる。

（式中、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ０又は１の整数、Ｒａは水素原子、メチル基を表わし、Ｒｂ、Ｒｃは水素原子以外の置換基で炭素数１〜６のアルキル基を表わし、複数の場合は異なっても良い。ｓ、ｔは０〜３の整数を表わす。Ｚａは単結合、メチレン基、エチレン基、を表わす。）

上記一般式で表わされる化合物としては、Ｒｂ、Ｒｃの置換基として、特にメチル基、エチル基である化合物が好ましい。

本発明で用いる上記一般式（１）及び（２）特に（３）の１官能の電荷輸送構造を有するラジカル重合性化合物は、炭素−炭素間の二重結合が両側に開放されて重合するため、末端構造とはならず、連鎖重合体中に組み込まれ、３官能以上のラジカル重合性モノマーとの重合で架橋形成された重合体中では、高分子の主鎖中に存在し、かつ主鎖−主鎖間の架橋鎖中に存在（この架橋鎖には１つの高分子と他の高分子間の分子間架橋鎖と、１つの高分子内で折り畳まれた状態の主鎖のある部位と主鎖中でこれから離れた位置に重合したモノマー由来の他の部位とが架橋される分子内架橋鎖とがある）する。
そして、主鎖中に存在する場合であってもまた架橋鎖中に存在する場合であっても、鎖部分から懸下するトリアリールアミン構造は、窒素原子から放射状方向に配置する少なくとも３つのアリール基を有し、バルキーであるが、鎖部分に直接結合しておらず鎖部分からカルボニル基等を介して懸下しているため立体的位置取りに融通性ある状態で固定されている。
これにより、これらトリアリールアミン構造は重合体中で相互に程よく隣接する空間配置が可能であるため、分子内の構造的歪みが少なく、また、電子写真感光体の表面層とされた場合に、電荷輸送経路の断絶を比較的免れた分子内構造を採りうるものと推測される。

本発明の１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の具体例を以下に示すが、これらの構造の化合物に限定されるものではない。

また、本発明に用いられる１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、表面層の電荷輸送性能を付与するために重要で、この成分は表面層全量に対し２０〜８０重量％、好ましくは３０〜７０重量％である。この成分が２０重量％未満では表面層の電荷輸送性能が充分に保てず、繰り返しの使用で感度低下、残留電位上昇などの電気特性の劣化が現れる。また、８０重量％を超えると電荷輸送構造を有しない３官能モノマーの含有量が低下し、架橋結合密度の低下を招き高い耐摩耗性が発揮されない。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると３０〜７０重量％の範囲が最も好ましい。

本発明の表面層は、少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化したものが好ましいが、もちろん１官能及び２官能のラジカル重合性モノマー及びラジカル重合性オリゴマーを用いたり、あるいは併用させることもできる。これらのラジカル重合性モノマー、オリゴマーとしては、公知のものが利用できる。

１官能のラジカルモノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、セチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンモノマーなどが挙げられる。

２官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、１、３−ブタンジオールジアクリレート、１、４−ブタンジオールジアクリレート、１、４−ブタンジオールジメタクリレート、１、６−ヘキサンジオールジアクリレート、１、６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。

機能性モノマーとしては、例えば、オクタフルオロペンチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチルアクリレートなどのフッ素原子を置換したもの、特公平５−６０５０３号公報、特公平６−４５７７０号公報記載のシロキサン繰り返し単位：２０〜７０のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチルなどのポリシロキサン基を有するビニルモノマー、アクリレート及びメタクリレートが挙げられる。

ラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
また、本発明の表面層に上記硬化系樹脂を用いる場合、必要に応じて架橋反応を効率よく進行させるために表面層中に重合開始剤を使用してもよい。

熱重合開始剤としては、２、５−ジメチルヘキサン−２、５−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２、５−ジメチル−２、５−ジ（パーオキシベンゾイル）ヘキシン−３、ジ−ｔ−ブチルベルオキサイド、ｔ−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロベルオキサイド、ラウロイルパーオキサイドなどの過酸化物系開始剤、アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、４、４’−アゾビス−４−シアノ吉草酸などのアゾ系開始剤が挙げられる。

光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１、２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、などのアセトフェノン系またはケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１、４−ベンゾイルベンゼン、などのベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２、４−ジメチルチオキサントン、２、４−ジエチルチオキサントン、２、４−ジクロロチオキサントン、などのチオキサントン系光重合開始剤、その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２、４、６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２、４、６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２、４、６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２、４−ジメトキシベンゾイル）−２、４、４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９、１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、が挙げられる。

また、光重合促進効果を有するものを単独または上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４、４‘−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。
これらの重合開始剤は１種又は２種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性を有する総含有物１００重量部に対し、０．５〜４０重量部、好ましくは１〜２０重量部である。

さらに、本発明の塗工液は必要に応じて各種可塑剤（応力緩和や接着性向上の目的）、レベリング剤、ラジカル反応性を有しない低分子電荷輸送物質などの添加剤が含有できる。これらの添加剤は公知のものが使用可能であり、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂に使用されているものが利用可能で、その使用量は塗工液の総固形分に対し２０重量％以下、好ましくは１０％以下に抑えられる。

また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが利用でき、その使用量は塗工液の総固形分に対し３重量％以下が適当である。これらの添加量が必要以上に多くなると、硬化を阻害したり、表面に析出したり、塗膜が白濁化したりすることがあり、感光体の耐傷性や耐摩耗性に大きな影響を及ぼす恐れがあるため、必要最小量に留める必要がある。

本発明の表面層は、各種ラジカル重合性化合物等を含有する塗工液を塗布、硬化することにより形成される。かかる塗工液は、ラジカル重合性モノマーが液体である場合、これに他の成分を溶解して塗布することも可能であるが、必要に応じて溶媒により希釈して塗布される。
このとき用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテルなどのエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ系などが挙げられる。

これらの溶媒は、単独または２種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行うことができる。
塗工液の希釈溶媒については、下層（感光層、電荷輸送層あるいは電荷発生層）を容易に溶解する溶媒を多量に用いると下層の樹脂バインダーや低分子電荷輸送物質などの組成物が表面層に混入し、硬化反応の妨げになるばかりでなく、塗工液中に予め非硬化材料を多量に含有させた場合と同様な状態となり、表面の不均一硬化が発生する。逆に、下層を全く溶解しない溶媒を使用した場合、表面層と下層の接着性が低下し、硬化反応時の体積収縮から表面層にクレーター状のはじきが現れ、感光体の表面粗さが増大したり、低い弾性変位率の下層が部分的に露出する。

これらの対策としては、混合溶媒を使用し下層の溶解性をコントロールする、液組成や塗工法により塗工表面層に含有される溶媒量を低減する、下層に高分子電荷輸送物質などを用い下層成分の混入を抑える、下層と表面層の間に溶解性の低い中間層や良好な接着性の中間層を設ける、などが挙げられる。

本発明においては、かかる塗工液を塗布後、外部からエネルギーを与え硬化させ、表面層を形成するものが好ましいが、このとき用いられる外部エネルギーとしては熱、光、放射線がある。熱のエネルギーを加える方法としては、空気、窒素などの気体、蒸気、あるいは各種熱媒体、赤外線、電磁波を用い塗工表面側あるいは支持体側から加熱することによって行なわれる。加熱温度は１００℃以上、１７０℃以下が好ましく、１００℃未満では反応速度が遅く、完全に反応が終了しない。１７０℃より高温では反応が不均一に進行し表面層中に大きな歪みが発生する。

硬化反応を均一に進めるために、１００℃未満の比較的低温で加熱後、更に１００℃以上に加温し反応を完結させる方法も有効である。光のエネルギーとしては主に紫外光に発光波長をもつ高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのＵＶ照射光源が利用できるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。照射光量は５０ｍＷ／ｃｍ^２以上、１０００ｍＷ／ｃｍ^２以下が好ましく、５０ｍＷ／ｃｍ^２未満では硬化反応に時間を要する。１０００ｍＷ／ｃｍ^２より強いと反応の進行が不均一となり、表面層の荒れが激しくなる。放射線のエネルギーとしては電子線を用いるものが挙げられる。これらのエネルギーの中で、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから熱及び光のエネルギーを用いたものが有用である。

本発明の表面層においては、静電特性を維持するため嵩高い電荷輸送性構造を含有させ、且つ高強度化のため架橋結合密度を高める必要がある。この様な表面層塗工後の硬化にあたっては、非常に高いエネルギーを外部から加え急激に反応を進めると、硬化が不均一に進行し弾性変位率τｅのばらつきが大きくなり、本発明の有効性が低下する恐れがある。このため加温条件、光の照射強度、重合開始剤量により反応速度制御が可能な熱や光の外部エネルギーを用いたものが好ましい。

本発明における感光体表面層を得るための具体的な手法について例示すると、例えば、塗工液として、３つのアクリロイルオキシ基を有するアクリレートモノマーと、一つのアクリロイルオキシ基を有するトリアリールアミン化合物を使用する場合、アクリレート化合物に加え、重合開始剤をアクリレート化合物全量に対し３〜１０重量％添加し、さらに溶媒を加えて塗工液を調製する。例えば、表面層の下層となる電荷輸送層において、電荷輸送物質としてトリアリールアミン系ドナー、及びバインダー樹脂として、ポリカーボネートを使用し、表面層をスプレー塗工により形成する場合、上記塗工液の溶媒としては、テトラヒドロフラン、２−ブタノン、酢酸エチル等が好ましく、その使用割合は、アクリレート化合物全量に対し２倍量〜８倍量である。

次いで、例えば、アルミシリンダー等の支持体上に、下引き層、電荷発生層、上記電荷輸送層を順次積層した感光体上に、上記調製した塗工液をスプレー等により塗布する。その後、比較的低温で短時間乾燥し（２５〜８０℃、１〜１０分間）、ＵＶ照射あるいは加熱して硬化させる。
ＵＶ照射の場合、メタルハライドランプ等を用いるが、照度は５０ｍＷ／ｃｍ^２以上、１０００ｍＷ／ｃｍ^２以下が好ましく、例えば２００ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶ光を照射する場合、多方向から均一に２０秒程度照射すればよい。このときドラム温度は５０℃を超えないように制御する。熱硬化の場合、加熱温度は１００〜１７０℃が好ましく、例えば加熱手段として送風型オーブンを用い、加熱温度を１５０℃に設定した場合、加熱時間は２０分〜３時間である。硬化終了後は、残留溶媒低減のため１００〜１５０℃で１０〜３０分加熱して、本発明の感光体を得る。

表面層が電荷輸送層の表面部分である場合、前述の表面層作製方法に記載したように、かかる電荷輸送層の下層部分上に本発明のラジカル重合性組成物を含有する塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、熱や光の外部エネルギーにより硬化反応を開始させ、表面層が形成される。このとき、表面層の膜厚は、１〜２０μｍ、好ましくは２〜１０μｍである。１μｍより薄いと膜厚ムラによって耐久性がバラツキ、２０μｍより厚いと電荷輸送層全体の膜厚が厚くなり電荷の拡散から画像の再現性が低下する。

また、本発明においては、表面層中にフィラーを含有させることもできる。フィラーを入れることで、表面層中に適度な凹凸が形成され、クリーニング性の向上が見込まれる。
表面層中に含有させるフィラーとしては、有機フィラーと無機フィラーのどちらを用いても良いが、無機フィラーが特に好ましく用いられる。
有機フィラー材料としては、ポリテトラフルオロエチレンのようなフッ素樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末、a-カーボン粉末等が挙げられ、無機フィラー材料としては、シリカ、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、酸化カルシウム、アンチモンをドープした酸化錫、錫をドープした酸化インジウム等の金属酸化物、フッ化錫、フッ化カルシウム、フッ化アルミニウム等の金属フッ化物、チタン酸カリウム、窒化硼素等が挙げられる。これらのフィラーは単独で用いても、或いは２種以上を混合して用いても良い。また、分散性を向上させるために、これらのフィラーは表面処理剤で表面処理を行っても良い。
これらのフィラーはボールミル、サンドミル等公知の手段で表面層塗工液中に分散させ、使用することができる。

フィラーの含有量及び粒径については、静電特性の面から含有量は全固形分に対して５〜４０重量%が好ましく、更に好ましくは１０〜３０％である。このように、架橋型樹脂にフィラーを含有させることによって形成した感光体表面の凹凸は、長期間使用されることで感光体表面が摩耗した場合にも初期からの変化が少なく、後述する潤滑剤の安定塗布に対して優れる。

次に導電性支持体について説明する。
導電性支持体としては、体積抵抗１０^１０ Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらを、押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理した管などを使用することができる。また、特開昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。
この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものについても、本発明の導電性支持体として用いることができる。

この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、またアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体などがあげられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
さらに、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体として良好に用いることができる。

次に感光層について説明する。感光層は単層でも積層でもよいが、説明の都合上、先ず電荷発生層と電荷輸送層で構成される場合から述べる。

電荷発生層は、電荷発生物質を主成分とする層である。電荷発生層には公知の電荷発生物質を用いることが可能であり、その代表として、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、キナクリドン系顔料、キノン系縮合多環化合物、スクアリック酸系染料、他のフタロシアニン系顔料、ナフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩系染料等が挙げられ用いられる。これら電荷発生物質は単独でも、２種以上混合してもかまわない。
電荷発生層は、電荷発生物質を必要に応じて結着樹脂とともに適当な溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、超音波などを用いて分散し、これを導電性支持体上に塗布し、乾燥することにより形成される。

必要に応じて電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。結着樹脂の量は、電荷発生物質１００重量部に対し０〜５００重量部、好ましくは１０〜３００重量部が適当である。結着樹脂の添加は、分散前あるいは分散後どちらでも構わない。

ここで用いられる溶剤としては、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等が挙げられるが、特にケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒が良好に使用される。これらは単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
電荷発生層は、電荷発生物質、溶媒及び結着樹脂を主成分とするが、その中には、増感剤、分散剤、界面活性剤、シリコーンオイル等のいかなる添加剤が含まれていても良い。
塗布液の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の方法を用いることができる。

電荷発生層の膜厚は、０.０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０.１〜２μｍである。
電荷輸送層は、電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要により単独あるいは２種以上の可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。

電子輸送物質としては、例えばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２、４、７−トリニトロ−９−フルオレノン、２、４、５、７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２、４、５、７−テトラニトロキサントン、２、４、８−トリニトロチオキサントン、２、６、８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１、２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１、３、７−トリニトロジベンゾチオフェン−５、５−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等の電子受容性物質が挙げられる。

正孔輸送物質としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等、その他公知の材料が挙げられる。これらの電荷輸送物質は単独、または２種以上混合して用いられる。

結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。
電荷輸送物質の量は結着樹脂１００重量部に対し、２０〜３００重量部、好ましくは４０〜１５０重量部が適当である。また、電荷輸送層の膜厚は解像度・応答性の点から、２５μｍ以下とすることが好ましい。下限値に関しては、使用するシステム（特に帯電電位等）に異なるが、５μｍ以上が好ましい。

ここで用いられる溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトンなどが用いられる。これらは単独で使用しても２種以上混合して使用しても良い。

本発明は感光層が単層構成の感光体にも適用できる。かかる感光体としては、上述した電荷発生物質を結着樹脂中に分散した感光体が使用できる。感光層は電荷発生物質および電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することによって形成できる。また、必要により可塑剤やレベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。

結着樹脂としては先に電荷輸送層で挙げた結着樹脂のほかに、電荷発生層で挙げた結着樹脂を混合して用いてもよい。もちろん、先に挙げた高分子電荷輸送物質も良好に使用できる。結着樹脂１００重量部に対する電荷発生物質の量は５〜４０重量部が好ましく、電荷輸送物質の量は０〜１９０重量部が好ましく、さらに好ましくは５０〜１５０重量部である。感光層は、電荷発生物質、結着樹脂を電荷輸送物質とともにテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサン等の溶媒を用いて分散機等で分散した塗工液を、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコートなどで塗工して形成できる。感光層の膜厚は、５〜２５μｍ程度が適当である。

本発明の感光体においては、導電性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができる。
下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。

これらの下引き層は、前述の感光層の如く適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。
さらに本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、本発明の下引き層には、Ａｌ_２Ｏ_３を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、ＩＴＯ、ＣｅＯ_２等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。

以上のような構成に基づく実施例を挙げ、表面塗工液を含有しない場合の比較例と対比した結果を次に説明する。

（実施例１〜３）
（感光体の作製）
φ４０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、３．５μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層、１８μｍの電荷輸送層を形成した。
この電荷輸送層上に下記組成の表面層用塗工液をスプレー塗工し、メタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離：１２０ｍｍ、照射強度：２００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間：２０秒の条件で光照射を行い、さらに１３０℃で２０分乾燥を加え４μｍの表面層を設け、電子写真感光体を作製した。
〔下引き層用塗工液〕
アルキッド樹脂 ６部
（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業製）
メラミン樹脂 ４部
（スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製）
酸化チタン ４０部
メチルエチルケトン ５０部
〔電荷発生層用塗工液〕
下記構造式「化７」（Ａ）のビスアゾ顔料 ２．５部
ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ製） ０．５部
シクロヘキサノン ２００部
メチルエチルケトン ８０部

〔電荷輸送層用塗工液〕
ビスフェノールＺポリカーボネート １０部
（パンライトＴＳ−２０５０、帝人化成製）
下記構造式「化８」（Ｂ）の低分子電荷輸送物質（Ｄ−１） ７部
テトラヒドロフラン １００部
１％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液 １部
（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業製）

〔架橋表面層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有さない３ 官能以上のラジカル重合性モノマー １０部
トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、日本化薬製）
分子量：２９６、官能基数：３官能、分子量／官能基数＝９９
１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 １０部
（例示化合物Ｎｏ．５４）
光重合開始剤 １部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル− フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
テトラヒドロフラン １００部

（実施例４：３官能以上のラジカル重合性モノマーを含有＋フィラー）
実施例１〜３における、表面層用塗工液にフィラーとしてアルミナ微粒子（ＡＡ０３：住友化学製）を５部加えたものを用いて表面層を塗布した以外は全て実施例１〜３と同様に感光体を作製した。

（実施例５：３官能以上のラジカル重合性モノマーを含有＋分子量／官能基数=２１１）
実施例１〜３の表面層用塗工液を下記構成のものとすること以外は全て実施例１〜３と同じにして電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマー１０部
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−６０、日本化薬製）
分子量：１２６３、官能基数：６官能、分子量／官能基数＝２１１

（実施例６（△）：３官能以上のラジカル重合性モノマーを含有＋分子量／官能基数=３２５）
実施例１の架橋表面層用塗工液に含有される電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマーを下記のモノマーに変えた以外は全て実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。膜厚は４．０μｍとした。
電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー １０部
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−１２０、日本化薬製）
分子量：１９４７、官能基数：６官能、分子量／官能基数＝３２５

（実施例７（△）：ラジカル重合性モノマーを３官能⇒２官能）
実施例１の架橋表面層用塗工液に含有される電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマーを、下記構造式の電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性モノマー１０部に換えた以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性モノマー １０部
１、６−ヘキサンジオールジアクリレート（和光純薬製）
分子量：２２６、官能基数：２官能、分子量／官能基数＝１１３

（実施例８（△）：ラジカル重合性化合物を１官能⇒２官能）
実施例１〜３の架橋表面層用塗工液に含有される１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル
重合性化合物を、下記構造式の２官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物１０部に換えた以外は実施例１〜３と同様に電子写真感光体を作製した。
２官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 １０部

（比較例１：架橋表面層塗工液を含有させない）
実施例１〜３の架橋表面層を設けずに、電荷輸送層膜厚を２５μｍとすること以外は全て実施例１〜３と同じにして電子写真感光体を作製した。

（比較例２：表面ポリカ層）
架橋表面層塗工液を下記構成の表面層塗工液に代える以外は全て実施例１〜３と同じにして電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
電荷輸送層塗工液に用いた低分子電荷輸送物質 ２部
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート ２部
テトラヒドロフラン ７０部
シクロヘキサノン ２５部

（比較例３：表面ポリカ層＋フィラー）
〔表面層用塗工液〕
架橋表面層塗工液を下記構成表面層塗工液に代える以外は全て実施例１〜３と同じにして電子写真感光体を作製した。
電荷輸送層塗工液に用いた低分子電荷輸送物質 ２部
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート ２部
アルミナ微粒子（ＡＡ０３：住友化学製） ５部
テトラヒドロフラン ７０部
シクロヘキサノン ２５部

（比較例４ 表面ポリアリレート層）
実施例１の架橋表面層用塗工液を下記組成に変更した以外は実施例１と同様に電子写真
感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
電荷輸送層塗工液に用いた低分子電荷輸送物質 ２部
ポリアリレート（Ｕポリマー Ｕ−１００、ユニチカ製） ２部
テトラヒドロフラン ７０部
シクロヘキサノン ２５部

（比較例５：３官能以上のラジカル重合性モノマーを含有させない。）
実施例１〜３の架橋表面層用塗工液中に電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマーを含有させず、電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物量を１８部に変えた以外は全て実施例１〜３と同様に電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー ０部
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 １８部
（例示化合物Ｎｏ．５４）
光重合開始剤 １部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
テトラヒドロフラン １００部

（比較例６：ラジカル重合性化合物を含有させない。）
実施例１〜３の架橋表面層用塗工液中に電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含有させず、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー量を１８部に変えた以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
〔表面層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー １８部
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 ０部
（例示化合物Ｎｏ．５４）
光重合開始剤 １部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
テトラヒドロフラン １００部

本実施例における発泡体ローラについて、実施例１では、イノアック製ＥＰ７０を使用した。
実施例２では、イノアック製ＲＭＭ５０を使用した。
実施例３では、ブリヂストン化成製ＨＲ５０を使用した。
実施例４〜８、及び比較例１〜６では、イノアック製ＥＰ７０を使用した。

全てのローラについての諸元は、シャフト（芯金）径：６ｍｍ、ウレタン層：３mm厚とした。

対比条件としては次の通りである。
本実施例における保護剤は、脂肪酸金属塩の一種であるステアリン酸亜鉛と、無機潤滑剤の一つである窒化ホウ素を混合した粉体を図５に示した圧縮成形により製造した。
窒化ホウ素の配合比は、保護剤全体で１０重量％とした。
ステアリン酸亜鉛：日本油脂製 ＧＦ−２００
窒化ホウ素 ：モメンティブパフォーマンステクノロジー社製 ＮＸ１０
リコー製 ｉｍａｇｉｏ ＭＰ Ｃ５０００の作像部において、図２中、符号２２で示した保護剤供給部材として各発泡体ローラを設置した。
また、図２において符号１で示す像担持体に各条件の感光体を設置した。
それぞれの感光体および発泡体ローラを組み付けた後、恒温恒湿槽にて、４５℃５０％の条件で５日間保存した。
その後、ｉｍａｇｉｏ ＭＰ Ｃ５０００の黒ステーションにセットして、A３全ベタ画像を１０枚出力した。
出力された画像に対して、白ポチ画像が出力されていないかどうかを目視で評価した。

以上の条件下において実験した対比結果は表２に示すとおりである。

上記の対比結果から明らかなように、本実施例では、発泡体を含む保護剤供給部材から像担持体用保護剤が供給される場合でも、像担持体表面が三次元架橋構造を構成することで、機械的強度のみならず化学的強度（耐汚染性など）において極めて効果が高く、供給された保護剤がガス化して加水分解するような場合でも表面層への影響を少なくすることが可能となる。この結果、表面層の変化を抑えて異常画像の発生を防止することができる。

１ 像担持体
２，４ 保護層形成装置
２２ 保護剤供給部材
２２Ａ 芯金
２２Ｂ 発泡体層
２３ 押圧力付与機構
２４，４１ 保護層形成機構

特公昭５１-２２３８０号公報 特開２００６-３５０２４０号公報 特開２００７−６５１００号公報 特開２００７−２９３２４０号公報 特開２００９−１５０９８６号公報 特願２０１０-２０２３６３号 特開２０００−３１３７３０号公報 特開２００７−１４５９０４号公報

Claims (9)

1. 少なくともトナー像を担持する像担持体を有し、該像担持体表面に像担持体保護剤を塗布または付着させる像担持体用保護剤の供給部材を有する画像形成装置であって、
   前記像担持体用保護剤の供給部材が芯金とその外周に配置された発泡体層を有するローラで構成され、
   前記像担持体の表面層が、電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマーと電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化させた架橋構造を含む層を備えて構成されていることを特徴とする画像形成装置。
2. 前記像担持体用保護剤の供給部材は、発泡体層として発泡ウレタンを含有していることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
3. 前記像担持体用保護剤の供給部材は、発泡体層として連続気泡型の発泡体層を含有していることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
4. 前記電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマーが３官能以上であり、前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物が１官能を設定されていることを特徴とする請求項１乃至３のうちの一つに記載の画像形成装置。
5. 前記電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーにおける官能基数に対する分子量の割合（分子量／官能基数）が、２５０以下であることを特徴とする請求項４記載の画像形成装置。
6. 前記電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマーの官能基が、アクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基であることを特徴とする請求項４または５記載の画像形成装置。
7. 前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の官能基が、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることを特徴とする請求項４乃至６のうちの一つに記載の画像形成装置。
8. 前記像担持体の最表面層に用いられる電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の電荷輸送構造が、トリアリールアミン構造であることを特徴とする請求項４乃至７のうちの一つに記載の画像形成装置。
9. 前記表面層に用いられる１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物が、下記一般式（１）又は（２）の一種以上であることを特徴とする請求項４乃至８のうちの一つに記載の画像形成装置。
   

   

   

   （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアラルキル基、置換又は無置換のアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、−ＣＯＯＲ７（Ｒ７は水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアラルキル基又は置換又は無置換のアリール基）、ハロゲン化カルボニル基若しくはＣＯＮＲ８Ｒ９（Ｒ８及びＲ９は水素原子、ハロゲン原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアラルキル基又は置換又は無置換のアリール基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよい）を表わし、Ａｒ１、Ａｒ２は置換もしくは無置換のアリーレン基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ａｒ３、Ａｒ４は置換もしくは無置換のアリール基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ｘは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。Ｚは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、アルキレンオキシカルボニル基を表わす。ｍ、ｎは０〜３の整数を表わす。）

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