JP2015029073A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015029073A5
JP2015029073A5 JP2014121911A JP2014121911A JP2015029073A5 JP 2015029073 A5 JP2015029073 A5 JP 2015029073A5 JP 2014121911 A JP2014121911 A JP 2014121911A JP 2014121911 A JP2014121911 A JP 2014121911A JP 2015029073 A5 JP2015029073 A5 JP 2015029073A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
imprint
photocurable composition
condensable gas
mold
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014121911A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2015029073A (ja
JP6494185B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2014121911A external-priority patent/JP6494185B2/ja
Priority to JP2014121911A priority Critical patent/JP6494185B2/ja
Priority to EP14818394.0A priority patent/EP3000120B1/en
Priority to US14/900,126 priority patent/US10386717B2/en
Priority to KR1020167001312A priority patent/KR101967966B1/ko
Priority to PCT/JP2014/066753 priority patent/WO2014208571A1/en
Priority to CN201480036290.3A priority patent/CN105359254A/zh
Priority to TW103121712A priority patent/TWI541857B/zh
Publication of JP2015029073A publication Critical patent/JP2015029073A/ja
Publication of JP2015029073A5 publication Critical patent/JP2015029073A5/ja
Publication of JP6494185B2 publication Critical patent/JP6494185B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2014121911A 2013-06-26 2014-06-12 インプリント方法および装置 Active JP6494185B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014121911A JP6494185B2 (ja) 2013-06-26 2014-06-12 インプリント方法および装置
PCT/JP2014/066753 WO2014208571A1 (en) 2013-06-26 2014-06-18 Imprint method and apparatus
US14/900,126 US10386717B2 (en) 2013-06-26 2014-06-18 Imprint method and apparatus
KR1020167001312A KR101967966B1 (ko) 2013-06-26 2014-06-18 임프린트 방법 및 장치
EP14818394.0A EP3000120B1 (en) 2013-06-26 2014-06-18 Imprint method, system of a condensable gas and an imprint apparatus and use of such a system
CN201480036290.3A CN105359254A (zh) 2013-06-26 2014-06-18 压印方法和设备
TW103121712A TWI541857B (zh) 2013-06-26 2014-06-24 壓印方法和設備

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013133541 2013-06-26
JP2013133541 2013-06-26
JP2014121911A JP6494185B2 (ja) 2013-06-26 2014-06-12 インプリント方法および装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015029073A JP2015029073A (ja) 2015-02-12
JP2015029073A5 true JP2015029073A5 (enExample) 2017-07-20
JP6494185B2 JP6494185B2 (ja) 2019-04-03

Family

ID=52141903

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014121911A Active JP6494185B2 (ja) 2013-06-26 2014-06-12 インプリント方法および装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10386717B2 (enExample)
EP (1) EP3000120B1 (enExample)
JP (1) JP6494185B2 (enExample)
KR (1) KR101967966B1 (enExample)
CN (1) CN105359254A (enExample)
TW (1) TWI541857B (enExample)
WO (1) WO2014208571A1 (enExample)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102241025B1 (ko) * 2013-12-10 2021-04-16 캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드 임프린트 리소그래피 주형 및 제로-갭 임프린팅 방법
JP6632200B2 (ja) 2015-02-27 2020-01-22 キヤノン株式会社 パターンの形成方法、加工基板の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
JP2016162863A (ja) * 2015-02-27 2016-09-05 キヤノン株式会社 パターンの形成方法、加工基板の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
JP2016164977A (ja) * 2015-02-27 2016-09-08 キヤノン株式会社 ナノインプリント用液体材料、ナノインプリント用液体材料の製造方法、硬化物パターンの製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、および電子部品の製造方法
CN114975098A (zh) * 2015-02-27 2022-08-30 佳能株式会社 纳米压印液体材料及其制造方法、固化产物图案的制造方法和电路板的制造方法
JP6562707B2 (ja) * 2015-05-13 2019-08-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
US10562223B2 (en) * 2015-10-29 2020-02-18 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Imprint device
JP6643048B2 (ja) * 2015-11-09 2020-02-12 キヤノン株式会社 基板を処理する装置、物品の製造方法、および気体供給経路
US11194247B2 (en) 2018-01-31 2021-12-07 Canon Kabushiki Kaisha Extrusion control by capillary force reduction
JP7278828B2 (ja) * 2019-03-26 2023-05-22 キヤノン株式会社 成形方法、成形装置、インプリント方法、および物品の製造方法
CN122165633A (zh) 2019-12-25 2026-06-09 Scivax株式会社 印模及其制造方法、压印用模具与微机电系统的制造方法
JP7581033B2 (ja) 2020-12-11 2024-11-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、物品の製造方法、およびコンピュータプログラム
TWI898644B (zh) * 2024-06-07 2025-09-21 志聖工業股份有限公司 壓合裝置

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01229024A (ja) 1988-03-08 1989-09-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光硬化性被覆組成物
TW430672B (en) 1997-07-03 2001-04-21 Sumitomo Chemical Co A photo-curing resin composition for DVD
JP4011811B2 (ja) 2000-01-14 2007-11-21 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物及び光学部材
JP3700001B2 (ja) * 2002-09-10 2005-09-28 独立行政法人産業技術総合研究所 インプリント方法及び装置
JP2007144995A (ja) 2005-10-25 2007-06-14 Dainippon Printing Co Ltd 光硬化ナノインプリント用モールド及びその製造方法
KR100790899B1 (ko) * 2006-12-01 2008-01-03 삼성전자주식회사 얼라인 마크가 형성된 템플릿 및 그 제조 방법
EP2584408B1 (en) * 2007-02-06 2020-10-07 Canon Kabushiki Kaisha Imprint method and imprint apparatus
KR20090027169A (ko) 2007-09-11 2009-03-16 후지필름 가부시키가이샤 나노임프린트용 경화성 조성물, 경화물 및 그 제조 방법
US8119052B2 (en) 2007-11-02 2012-02-21 Molecular Imprints, Inc. Drop pattern generation for imprint lithography
NL2003762A (en) * 2008-11-18 2010-05-20 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
KR101560249B1 (ko) 2009-06-19 2015-10-14 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 저유전율 임프린트 재료
JP5364533B2 (ja) * 2009-10-28 2013-12-11 株式会社東芝 インプリントシステムおよびインプリント方法
JP5546893B2 (ja) * 2010-02-16 2014-07-09 東京エレクトロン株式会社 インプリント方法
JP2011222732A (ja) * 2010-04-09 2011-11-04 Fujifilm Corp パターン形成方法及びパターン基板製造方法
CN102959679B (zh) 2010-07-02 2016-01-20 株式会社德山 光固化性压印用组合物以及使用该组合物的图案的形成方法
JP5762245B2 (ja) 2010-10-20 2015-08-12 株式会社トクヤマ 光硬化性ナノインプリント用組成物、該組成物を用いたパターンの形成方法、及び該組成物の硬化体を有するナノインプリント用レプリカ金型
EP2490151A1 (en) * 2011-02-17 2012-08-22 Nagravision S.A. Method and device to speed up face recognition
JP5679850B2 (ja) * 2011-02-07 2015-03-04 キヤノン株式会社 インプリント装置、および、物品の製造方法
JP5829177B2 (ja) 2011-07-12 2015-12-09 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP5710553B2 (ja) 2011-08-25 2015-04-30 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP2013070033A (ja) * 2011-09-05 2013-04-18 Canon Inc インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
TWI471693B (zh) 2011-11-10 2015-02-01 Canon Kk 光可固化組成物,及使用彼之圖案化方法
JP5882922B2 (ja) 2012-01-19 2016-03-09 キヤノン株式会社 インプリント方法、およびインプリント装置
JP6071312B2 (ja) 2012-08-03 2017-02-01 株式会社東芝 テンプレート作製方法、パターン形成方法、半導体素子の製造方法、テンプレート製造装置、及びテンプレート材料
JP6278645B2 (ja) 2012-09-24 2018-02-14 キヤノン株式会社 光硬化性組成物及びこれを用いた膜の製造方法
US20140239529A1 (en) * 2012-09-28 2014-08-28 Nanonex Corporation System and Methods For Nano-Scale Manufacturing
JP6748399B2 (ja) 2012-11-30 2020-09-02 キヤノン株式会社 インプリント方法およびインプリント用硬化性組成物
JP6305058B2 (ja) 2013-03-05 2018-04-04 キヤノン株式会社 感光性ガス発生剤、光硬化性組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008260273A5 (enExample)
JP2013168645A5 (enExample)
MY171887A (en) Hdd patterning using flowable cvd film
TW201129872A (en) Pattern forming method and composition for forming resist underlayer film
JP2013075521A5 (enExample)
JP2016222526A5 (ja) グラフェンを含む膜の作製方法
BR112014004428B8 (pt) método de fabricação de estrutura e aparelho de fabricação
MX387862B (es) Metodo y dispositivo de aplicacion para aplicar una capa de transferencia de una pelicula a un sustrato.
EA201692450A1 (ru) Способ получения подложки, покрытой функциональным слоем при помощи жертвенного слоя
JP2010532429A5 (enExample)
WO2012166462A3 (en) Method for making microstructured tools having discontinuous topographies, articles produced therefrom
WO2012141293A3 (ja) 積層体とその製造方法および、この積層体を用いたデバイス構造体の作成方法
JP2014207480A5 (enExample)
BR112015012419A2 (pt) método para fabricar corpo estrutural e aparelho de fabricação para o mesmo
PH12014502176A1 (en) Release film for ceramic green sheet production process
JP2014120604A5 (enExample)
JP2010201927A5 (ja) 画像を形成する方法およびそのプロセスにより形成された画像
JP2016213423A5 (enExample)
JP2015222448A5 (enExample)
JP2016072517A5 (enExample)
WO2009108323A3 (en) Real time imprint process diagnostics for defects
SA519401365B1 (ar) ركائز مطبوعة
BR112017017268A2 (pt) processo para produzir padrões de metal em um substrato, processo para a fabricação de objetos compreendendo padrões metálicos, dispositivo e conjunto de consumíveis
JP2016065297A5 (enExample)
SG11201903267UA (en) High etch resistance spin-on carbon hard mask composition and patterning method using same