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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015089158A1 (en) * 2013-12-10 2015-06-18 Canon Nanotechnologies, Inc. Imprint lithography template and method for zero-gap imprinting
WO2016136240A1 (en) * 2015-02-27 2016-09-01 Canon Kabushiki Kaisha Nanonimprint liquid material, method for manufacturing nanoimprint liquid material, method for manufacturing cured product pattern, method for manufacturing optical component, and method for manufacturing circuit board
JP6632200B2 (ja) 2015-02-27 2020-01-22 キヤノン株式会社 パターンの形成方法、加工基板の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
JP2016162863A (ja) * 2015-02-27 2016-09-05 キヤノン株式会社 パターンの形成方法、加工基板の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
JP2016164977A (ja) * 2015-02-27 2016-09-08 キヤノン株式会社 ナノインプリント用液体材料、ナノインプリント用液体材料の製造方法、硬化物パターンの製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、および電子部品の製造方法
JP6562707B2 (ja) * 2015-05-13 2019-08-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
US10562223B2 (en) * 2015-10-29 2020-02-18 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Imprint device
JP6643048B2 (ja) * 2015-11-09 2020-02-12 キヤノン株式会社 基板を処理する装置、物品の製造方法、および気体供給経路
US11194247B2 (en) 2018-01-31 2021-12-07 Canon Kabushiki Kaisha Extrusion control by capillary force reduction
JP7278828B2 (ja) * 2019-03-26 2023-05-22 キヤノン株式会社 成形方法、成形装置、インプリント方法、および物品の製造方法
EP4084044A4 (en) 2019-12-25 2024-06-05 Scivax Corporation PRINTING DEVICE AND PRINTING METHOD
JP7581033B2 (ja) * 2020-12-11 2024-11-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、物品の製造方法、およびコンピュータプログラム
TWI898644B (zh) * 2024-06-07 2025-09-21 志聖工業股份有限公司 壓合裝置

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01229024A (ja) 1988-03-08 1989-09-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光硬化性被覆組成物
TW430672B (en) 1997-07-03 2001-04-21 Sumitomo Chemical Co A photo-curing resin composition for DVD
JP4011811B2 (ja) 2000-01-14 2007-11-21 Ｊｓｒ株式会社 光硬化性樹脂組成物及び光学部材
JP3700001B2 (ja) * 2002-09-10 2005-09-28 独立行政法人産業技術総合研究所 インプリント方法及び装置
JP2007144995A (ja) 2005-10-25 2007-06-14 Dainippon Printing Co Ltd 光硬化ナノインプリント用モールド及びその製造方法
KR100790899B1 (ko) * 2006-12-01 2008-01-03 삼성전자주식회사 얼라인 마크가 형성된 템플릿 및 그 제조 방법
JP5020844B2 (ja) * 2007-02-06 2012-09-05 キヤノン株式会社 インプリント方法及びインプリント装置、インプリント方法を用いた部材の製造方法
KR20090027169A (ko) 2007-09-11 2009-03-16 후지필름 가부시키가이샤 나노임프린트용 경화성 조성물, 경화물 및 그 제조 방법
US8119052B2 (en) 2007-11-02 2012-02-21 Molecular Imprints, Inc. Drop pattern generation for imprint lithography
NL2003762A (en) * 2008-11-18 2010-05-20 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
KR101560249B1 (ko) 2009-06-19 2015-10-14 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 저유전율 임프린트 재료
JP5364533B2 (ja) * 2009-10-28 2013-12-11 株式会社東芝 インプリントシステムおよびインプリント方法
JP5546893B2 (ja) 2010-02-16 2014-07-09 東京エレクトロン株式会社 インプリント方法
JP2011222732A (ja) * 2010-04-09 2011-11-04 Fujifilm Corp パターン形成方法及びパターン基板製造方法
WO2012002413A1 (ja) 2010-07-02 2012-01-05 株式会社トクヤマ 光硬化性インプリント用組成物及び該組成物を用いたパターンの形成方法
JP5762245B2 (ja) 2010-10-20 2015-08-12 株式会社トクヤマ 光硬化性ナノインプリント用組成物、該組成物を用いたパターンの形成方法、及び該組成物の硬化体を有するナノインプリント用レプリカ金型
EP2490151A1 (en) * 2011-02-17 2012-08-22 Nagravision S.A. Method and device to speed up face recognition
JP5679850B2 (ja) * 2011-02-07 2015-03-04 キヤノン株式会社 インプリント装置、および、物品の製造方法
JP5829177B2 (ja) 2011-07-12 2015-12-09 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP5710553B2 (ja) 2011-08-25 2015-04-30 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP2013070033A (ja) * 2011-09-05 2013-04-18 Canon Inc インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
TWI471693B (zh) 2011-11-10 2015-02-01 Canon Kk 光可固化組成物，及使用彼之圖案化方法
JP5882922B2 (ja) 2012-01-19 2016-03-09 キヤノン株式会社 インプリント方法、およびインプリント装置
JP6071312B2 (ja) 2012-08-03 2017-02-01 株式会社東芝 テンプレート作製方法、パターン形成方法、半導体素子の製造方法、テンプレート製造装置、及びテンプレート材料
JP6278645B2 (ja) 2012-09-24 2018-02-14 キヤノン株式会社 光硬化性組成物及びこれを用いた膜の製造方法
US20140239529A1 (en) * 2012-09-28 2014-08-28 Nanonex Corporation System and Methods For Nano-Scale Manufacturing
JP6748399B2 (ja) 2012-11-30 2020-09-02 キヤノン株式会社 インプリント方法およびインプリント用硬化性組成物
JP6305058B2 (ja) 2013-03-05 2018-04-04 キヤノン株式会社 感光性ガス発生剤、光硬化性組成物

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