JP2015018872A - 窓部材、半導体モジュールおよび窓部材の製造方法 - Google Patents

窓部材、半導体モジュールおよび窓部材の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】信頼性を高めた窓部材およびそれを用いた半導体モジュールを提供する。【解決手段】半導体モジュール100は、上面12に開口する凹部16が設けられる基板10と、凹部16に収容される半導体素子と、凹部16の開口を覆うように上面12に設けられ、当該上面12と対向する第1主面52と、第1主面52に背向する第2主面54と、側面56と、を有する窓部材50と、上面12と窓部材50との間を埋める封止部70と、を備える。窓部材50は、第1主面52の外周部52aから側面56にかけて設けられる金属層58を有し、金属層58は、側面56のうち第2主面54側の領域を避けて設けられる。【選択図】図1

Description

本発明は、半導体素子を内部に封止した半導体モジュールに関し、特にモジュールを封止する窓部材に関する。
発光ダイオード(LED、Light Emitting Diode)は、主に可視光から赤外光の波長域における光源として照明や信号、光通信など様々な用途で利用される。一般に、LED素子は、化合物半導体からなる発光素子を外部環境から保護するため、光透過性を有する材料により封止してパッケージ化される。
封止方法としては、リード電極に取り付けた発光素子を樹脂材料で被覆する方法や、開口を設けたパッケージ本体に発光素子を収容し、ガラス板などの窓部材で開口部に蓋をする方法が挙げられる。後者に示す方法として、ガラス板の中央に円形の光透過部を残し、その周囲の片側表面にメタライズ部を設けることで、メタライズ部を介してガラス板をパッケージ本体にろう接する技術が挙げられる(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−054642号公報
パッケージ本体と窓部材に用いられる材料の熱膨張係数が異なると、ろう接の際に両者が加熱され、その後冷却されることにより材料の収縮量に差が生じ、窓部材に応力がかかる。窓部材にかかる応力が残留すると、窓部材が剥がれたり損傷したりしやすくなるため、封止の信頼性が低下することとなる。
本発明はこうした課題に鑑みてなされたものであり、そのある態様の例示的な目的のひとつは、信頼性を高めた窓部材およびそれを用いた半導体モジュールの提供にある。
上記課題を解決するために、本発明のある態様の窓部材は、第1主面と、第1主面に背向する第2主面と、側面と、を備える。第1主面の外周部から側面にかけて金属層が設けられ、当該金属層は側面のうち第2主面側の領域を避けて設けられる。
上記態様の窓部材によれば、窓部材の第1主面の外周部および側面の双方に金属層が設けられるため、封止のためのろう接材が窓部材の第1主面および側面の双方と接合される。これにより、いずれか一方の面のみにろう接材が接合される場合と比べて、封止性を高めることができる。また、窓部材の第1主面と側面とで形成される角を覆うように金属層を設けることで、窓部材の角に加わる応力を緩和することができるため、封止の信頼性を高めることができる。
上記態様の窓部材において、第1主面と側面との角度が鈍角となるように当該側面が斜めに設けられてもよい。
上記態様の窓部材において、第1主面と側面とで形成される角が面取りされていてもよい。
上記態様の窓部材において、側面と金属層との界面に微細な凹凸が形成されていてもよい。
本発明の別の態様は、半導体モジュールである。この半導体モジュールは、上面に開口する凹部が設けられる基板と、凹部に収容される半導体素子と、凹部の開口を覆うように上面に設けられ、当該上面と対向する第1主面と、第1主面に背向する第2主面と、側面と、を有する窓部材と、上面と窓部材との間を埋める封止部と、を備える。窓部材は、第1主面の外周部から側面にかけて設けられる金属層を有し、金属層は、側面のうち第2主面側の領域を避けて設けられる。
上記態様の半導体モジュールによれば、封止部が窓部材の主面および側面の双方と接合するため、いずれか一方の面のみと接合される場合と比べて封止性を高めることができる。また、封止部との接合部に金属層を設けることで、窓部材にかかる応力を緩和することができる。特に、金属層は、窓部材の主面と側面とで形成される角を覆うように設けられることから、窓部材の角に加わる応力を緩和することができる。これにより、半導体モジュールの信頼性を高めることができる。
本発明の別の態様は、窓部材の製造方法である。この方法は、光透過性を有する平板を準備し、平板の主面が複数の領域に分割されるよう当該主面上に溝を形成し、複数の領域のそれぞれの領域の中央部にマスクを形成し、溝およびマスクが形成された平板の主面の上から金属層を形成し、金属層を形成した後に、マスクを除去する。
上記態様の窓部材の製造方法によれば、マスクが形成されない各領域の外周部および溝の側面に金属層を形成することができるため、主面上に複数設けられる領域の外周部から側面にかけて一括して金属層を設けることができる。これにより、封止性を高めた窓部材を効率的に製造することができる。
上記態様の窓部材の製造方法において、金属層を形成した後に、溝に沿って平板を切断することとしてもよい。
上記態様の窓部材の製造方法において、溝は、粒体を平板の主面に吹き付けて形成することとしてもよい。
本発明の窓部材およびそれを用いた半導体モジュールによれば、封止の信頼性を高めることができる。
第1の実施形態に係る半導体モジュールを示す断面図である。 図1に示す半導体モジュールの上面図である。 窓部材の製造に用いる平板を示す断面図である。 第1主面に溝を形成した平板を示す断面図である。 第1主面に溝を形成した平板を示す上面図である。 第1主面にマスクを形成した平板を示す断面図である。 第1主面にマスクを形成した平板を示す上面図である。 溝およびマスクを形成した第1主面の上からメタライズ層を形成した平板を示す断面図である。 メタライズ層を形成した後にマスクを除去した平板を示す断面図である。 溝に沿って平板を切断する工程を模式的に示す図である。 個片化された窓部材を示す図である。 基板と窓部材との間を封止する工程を示す断面図である。 変形例1に係る半導体モジュールを示す断面図である。 変形例1に係る窓部材の製造工程を示す図である。 変形例2に係る窓部材の製造工程を示す図である。 変形例3に係る窓部材の製造工程を示す図である。 変形例4に係る窓部材の製造工程を示す図である。 変形例5に係る窓部材の製造工程を示す図である。 第2の実施形態に係る半導体モジュールを示す断面図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係る半導体モジュール100を示す断面図であり、図2は、図1に示す半導体モジュール100の上面図である。半導体モジュール100は、紫外光を発するLEDである発光素子40が基板10の凹部16に収容され、凹部16の開口が窓部材50により覆われる。窓部材50の主面の一つである入射面52の外周部52aと、窓部材50の側面56とにはメタライズ処理により形成される金属層58が設けられ、基板10と窓部材50の間には封止部70が設けられる。半導体モジュール100は、窓部材50の主面と側面の双方に設けられる金属層58を介して封止されるため、いずれか一方の面にメタライズ処理を施す場合と比べて封止性が高められる。また、窓部材50の角を覆うように金属層58が設けられることから、窓部材50の角にかかる応力を緩和することができる。このような金属層58を有する窓部材50を用いることで、半導体モジュール100の封止の信頼性を高めることができる。
半導体モジュール100は、基板10と、枠部30と、発光素子40と、窓部材50と、封止部70とを備える。基板10は、上面12と、下面14と、凹部16とを有する。
基板10は、上面12と下面14とを有する平板形状であり、上面12に開口する凹部16が設けられる。基板10は、アルミナ(Al)や窒化アルミニウム(AlN)などを含むセラミック基板であり、いわゆる高温焼成セラミック多層基板(HTCC、High Temperature Co-fired Ceramic)である。
上面12は、矩形状であり、その中央部に矩形の開口領域C1を形成する凹部16が設けられる。上面12のうち凹部16が設けられていない外周領域C2には、メタライズ処理が施され、金属面60が形成される。金属面60は、タングステン(W)やモリブデン(Mo)等を含む基材にニッケル(Ni)や金(Au)等がメッキされて形成される。金属面60は、窓部材50との間を封止する封止部70が接合される。
下面14は、矩形状であり、発光素子40のアノードまたはカソードと接続される外部電極26が設けられる。外部電極26は、凹部16の配線面22に設けられる内部電極24と基板10の内部で電気的に接続される。
凹部16は、上面12に開口しており、その内部に発光素子40を収容する。凹部16の底部には、格納面20と、配線面22とが設けられる。格納面20は、凹部16の底部における中央に設けられ、発光素子40が載置されるサブマウント46が配置される。配線面22は、格納面20の周囲に設けられ、サブマウント46から延びるボンディングワイヤ48が接続される内部電極24が設けられる。格納面20と配線面22の間には段差が設けられ、配線面22は、格納面20と比べて一段高い面として形成される。
枠部30は、上面12に設けられ、上面12の外周を囲うように設けられる。枠部30は、基板10と同様にセラミック材料で構成され、基板10と一体的に成型される。窓部材50は、枠部30の内壁32の内側に配置される。同様に、上面12に設けられる金属面60や封止部70は、枠部30の内壁32の内側に配置される。
発光素子40は、化合物半導体で構成されるLEDであり、凹部16の内部に収容され、窓部材50を通して半導体モジュール100の外部に光を放射する。本実施形態では、発光素子40として紫外光LEDを用い、その中心波長又はピーク波長が約200nm〜360nmの紫外領域に含まれるものを用いる。例えば、殺菌効率の高い波長である260nm付近の紫外光を発するものを用いる。このような紫外光LEDとして、例えば、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)を用いたものが知られている。
発光素子40は、発光面42と、発光面42に対向する取付面44とを有する。発光素子40は、取付面44がサブマウント46と接するようにサブマウント46の上に載置される。発光素子40が取り付けられたサブマウント46は、基板10の格納面20に配置され、基板10と熱的に接続される。これにより、発光素子40が発する熱を基板10を介して外部に放熱させる。サブマウント46は、ボンディングワイヤ48により内部電極24と接続される。これにより、発光素子40は、サブマウント46、ボンディングワイヤ48および内部電極24を介して外部電極26と電気的に接続される。
窓部材50は、入射面52と、出射面54と、側面56とを有し、凹部16の開口を覆うように上面12に設けられる。窓部材50は、入射面52の外周部52aが基板10の外周領域C2に位置するよう配置される。窓部材50は、発光素子40が発する紫外光を透過する材料で構成され、例えば、石英(SiO)やサファイア(Al)等の材料で構成される。本実施形態では、窓部材50として石英を用いる。発光素子40が発する紫外光は入射面52に入射し、窓部材50を透過して出射面54から外部に出力される。
入射面52は、発光素子40の発光面42と対向するとともに、その外周部52aが金属面60が設けられる上面12と対向する。入射面52の外周部52aから側面56にかけて金属層58が設けられる。金属層58は、真空蒸着やスパッタリングなどの方法により形成され、例えば、窓部材50の側からチタン(Ti)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、金(Au)が順に積層される多層膜である。なお、チタンの代わりにクロム(Cr)を用いてもよい。
金属層58は、窓部材50と基板10との間を封止する封止部70と接合される。金属層58は、入射面52と側面56の双方に設けられることから、封止部70は金属層58を介して入射面52と側面56の双方と接合することとなる。これにより、金属層58が入射面52と側面56のいずれか一方の面にのみ設けられる場合と比べて、封止部70との接合性を高めることができる。また、金属層58は、入射面52と側面56とで形成される角を覆うように設けられことから、窓部材50の角に集中する応力を緩和することができる。
封止部70は、基板10と窓部材50との間に設けられ、その隙間を充填する封止材である。封止部70は、低融点の金属材料で構成され、例えば、金錫(AuSn)や銀錫(AgSn)の合金を含む。封止部70は、溶融状態において金属層58と金属面60の間に広がり、金属層58および金属面60と共晶結合を形成する。これにより、封止部70は、基板10と窓部材50の間を封止する。なお、封止時には、凹部16の内部に窒素(N)などの不活性ガスが充填される。
封止部70は、溶融状態における金属層58および金属面60との表面張力により、側面56から上面12の外周に向けて上面12からの厚さが薄くなっていくフィレット72を形成する。このようなフィレット72を設けることで、基板10と窓部材50の熱膨張率差によって窓部材50に加わる応力を緩和することができる。
以上の構成により、半導体モジュール100は、紫外光LEDである発光素子40を内部に封止し、窓部材50を通して紫外光を外部に出力可能とする。本実施形態に係る半導体モジュール100は、窓部材50として石英を用いるため、波長360nm以下の紫外光を発する発光素子40を用いた場合でも、紫外光を効率よく外部に取り出すことができる。
次に、半導体モジュール100の製造方法について示す。まず、図3〜11を参照しながら窓部材50の製造方法について示し、つづいて、図12を参照しながら発光素子40を収容した基板10と窓部材50との封止方法について示す。
図3は、窓部材の製造に用いる平板80を示す断面図である。平板80は、矩形状の第1主面82と、第2主面84を有する。平板80は、半導体モジュール100の発光素子40が発する紫外光を透過する材料で構成され、本実施形態では石英を用いる。なお、第1主面82は、窓部材の入射面となる主面であり、第2主面84は、窓部材の出射面となる主面である。
図4は、第1主面82に溝86を形成した平板80を示す断面図であり、図5は、図4に示す平板80の上面図である。溝86は、第1主面82に設けられ、第1主面82を複数の矩形領域E1に分割するように格子状に形成される。本実施形態では、図5に示すように、紙面の縦方向に4列、横方向に6列、合計24個の矩形領域E1が形成される。溝86により分割されたそれぞれの矩形領域E1は、窓部材の入射面52となる。
溝86は、フライス盤による溝削り加工や、レーザ照射による溝掘り加工などによって形成される。なお、溝86の深さdは、平板80の厚さdの1/2以上の深さとすることが望ましく、例えば厚さdの2/3から3/4程度とすればよい。
図6は、第1主面82にマスク90を形成した平板80を示す断面図であり、図7は、図6に示す平板80の上面図である。マスク90は、第1主面82における複数の矩形領域E1のそれぞれの中央部に設けられ、入射面52の外周部52aに対応する周辺領域E3を避けるようにして、矩形領域E1の中央領域E2のみを被覆するように形成される。したがって、それぞれの矩形領域E1は、中央領域E2がマスク90により覆われ、周辺領域E3がマスク90に覆われずに露出した状態となる。マスク90は、それぞれの中央領域E2の配置に対応する印刷版を用いて、スクリーン印刷やオフセット印刷などにより形成すればよい。
図8は、溝86およびマスク90を形成した第1主面82の上からメタライズ層94を形成した平板80を示す断面図である。メタライズ層94は、図6に示した平板80の第1主面82の上から、スパッタリングや真空蒸着などにより形成される。このとき、メタライズ層94は、マスク90が形成された入射面52の上に設けられるとともに、溝86の側面86aや、平板80の側面80aの上に回り込んで設けられる。メタライズ層94は、例えば、チタン(Ti)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、金(Au)の順に積層される多層膜として形成される。なお、チタンの代わりにクロム(Cr)を用いてもよい。
図9は、メタライズ層94を形成した後にマスク90を除去した平板80を示す断面図である。マスク90は、メタライズ層94を形成した後に除去され、マスク90とともにマスク90の上に設けられた中央領域E2に位置するメタライズ層94も除去される。これにより、メタライズ層94は、入射面52の外周部52aと、溝86の側面86aと、平板80の側面80aにのみ設けられることとなる。
図10は、溝86に沿って平板80を切断する工程を模式的に示す図であり、図11は、個片化された窓部材50を示す図である。図10に示すように、マスク90を除去した後、平板80は、溝86に沿って第2主面84側から切断される。これにより、図11に示すように個片化された複数の窓部材50が形成される。切断前の平板80に形成されたメタライズ層94は、個片化された窓部材50において入射面52の外周部52aから側面56にかけて設けられる金属層58となる。
なお、金属層58は、窓部材50の側面56のうち、出射面54側の領域を避けるようにして設けられており、出射面54と側面56とで形成される角は金属層58に覆われないこととなる。これは、メタライズ層94を形成した後に第2主面84を格子状に切断することで、それぞれの窓部材50に対応する出射面54が形成されるためである。
以上が窓部材50の製造方法である。本実施形態においては、平板80の第1主面82を24の矩形領域に分割したことから、1枚の平板80から合計24個の窓部材50を一括形成することができる。
図12は、基板10と窓部材50との間を封止する工程を示す図である。基板10の凹部16には、サブマウント46の上に置かれた発光素子40が設けられており、サブマウント46と内部電極24との間がボンディングワイヤ48で接続されている。また、上面12の金属面60には、封止部となる封止材74が設けられている。封止材74は、例えば、金錫や銀錫の合金を含むペーストであり、スクリーン印刷やオフセット印刷などにより金属面60の上に塗布される。
基板10に封止材74を設けた後、窓部材50を上面12に配置する。窓部材50は、外周部52aに金属層58が設けられる入射面52が上面12と対向する向きで、凹部16の開口を覆う位置に配置される。これにより、窓部材50の金属層58と、封止材74とが接した状態となる。この状態で、基板10および窓部材50をリフロー炉に入れて封止材74を加熱することにより、溶融状態となった封止材74により基板10と窓部材50の間がろう接される。溶融状態の封止材74は、金属層58および金属面60との濡れ性が高いため、金属層58および金属面60に沿って広がるとともに、窓部材50の側面56から外周方向に広がるフィレットを形成する。これにより、半導体モジュール100が形成される。
以下、実施形態に係る半導体モジュール100が奏する効果について示す。
半導体モジュール100が備える窓部材50は、入射面52の外周部52aから側面56にかけて金属層58が形成されており、金属層58を介して封止部70と接合される。金属層58と封止部70とは共晶結合を形成することから、金属層58を形成することで窓部材50と基板10の間の封止性を高めることができる。
窓部材50は、金属層58を介して入射面52と側面56の双方において封止部70と接合されるため、金属層58が入射面52と側面56のいずれか一方の面にのみ設けられる場合と比べて、封止部70との接合性を高めることができる。また、入射面52と側面56の双方に封止部70が接合することで、窓部材50の入射面52に沿った方向にかかる力と、入射面52に交差する方向にかかる力の双方に対して強い構造とすることができる。これにより、封止の信頼性を高めることができる。
窓部材50は、溝加工をした平板80にメタライズ処理を施して形成されるため、入射面52の外周部52aから側面56にかけて金属層58が設けられるとともに、1枚の平板80から一度に複数の窓部材50が形成されることとなる。したがって、個片化した窓部材50のそれぞれに金属層58を設ける場合と比べて、窓部材1個あたりにかかる製造の手間を削減することができる。
半導体モジュール100は、封止部70として、基板10や窓部材50と比べて柔らかい材料である金属を用いる。これにより、基板10や窓部材50に用いる材料の熱膨張率差に起因して窓部材50に応力が加わる場合においても、封止部70が応力を緩和させる緩衝層として機能する。これにより、窓部材50にかかる応力を緩和し、半導体モジュール100の封止の信頼性を高めることができる。
半導体モジュール100は、基板10の上面12に金属面60が設けられており、封止部70は、金属面60の上において上面12の外周方向に延びるフィレット72を形成する。フィレット72を形成することによって、封止部70による応力緩和の効果を高めることができ、半導体モジュール100の封止の信頼性を向上させることができる。
(変形例1)
図13は、変形例1に係る半導体モジュール100を示す図である。変形例1に係る窓部材50は、入射面52と側面56の角度θが鈍角となるように側面56が斜めに設けられる点で、上述の実施形態と異なる。側面56を斜めに設けることで、入射面52よりも出射面54の方が一回り大きな面積を有することとなり、金属面60に広がる封止部70の上方が窓部材50により覆われることとなる。これにより、金属面60や封止部70を保護することができ、窓部材50による封止の信頼性を高めることができる。
図14は、変形例1に係る窓部材の製造工程を示す図である。変形例1においては、溝86の側面86aと入射面52の角度が鈍角となるように溝86がテーパー状に形成され、入射面52に対して斜めに設けられた側面86aの上にメタライズ層94が形成される。その後、溝86に沿って平板80を切断することにより、側面56が斜めに設けられた窓部材50が形成される。
変形例1においては、溝86の側面86aを斜めに設けることで、第1主面82の上からスパッタリングや真空蒸着を施す場合に、溝86の奥の方までメタライズ層94を積層させることができる。これにより、窓部材50の側面56と金属層58との接合性を高め、金属層58を介した封止の信頼性を向上させることができる。
(変形例2)
図15は、変形例2に係る窓部材の製造工程を示す図である。変形例2においては、溝86の側面86aと入射面52とで形成される角部86bが面取りされており、角部86bが入射面52に対して斜面となるように溝86が形成される点で上述の実施形態と異なる。このように、溝86の角部86bを面取りすることによって、溝86の開口を広げることができ、溝86の奥の方までメタライズ層94を積層させることができる。これにより、窓部材の側面と金属層との接合性を高め、金属層を介した封止の信頼性を向上させることができる。
(変形例3)
図16は、変形例3に係る窓部材の製造工程を示す図である。変形例3においては、溝86の底部86cが斜面となるように溝86が形成される点で上述の実施形態と異なる。このように溝86の底部86cを斜面とすることで、溝86の奥の方までメタライズ層94を積層させることができる。
(変形例4)
図17は、変形例4に係る窓部材の製造工程を示す図である。変形例4においては、溝86の底部86cが椀状の曲面となるように溝86が形成される点で上述の実施形態と異なる。このように溝86の底部86cを曲面とすることで、溝86の奥の方まで側面86aにメタライズ層94を積層させることができる。
図18は、変形例5に係る窓部材の製造工程を示す図である。変形例5においては、溝86の側面86aが斜めに形成されるとともに、側面86aに微細な凹凸が形成される点で上述の実施形態と異なる。微細な凹凸を有する側面86aは、粒体を吹き付けて平板80の第1主面82を削り取るサンドブラスト処理により溝86を掘ることで形成される。例えば、入射面52に対応する矩形領域の全体にマスクを施し、その後に第1主面82にサンドブラスト処理を施すことで、溝86を形成できる。
側面86aに微細な凹凸を形成することで、側面86aと、側面86aに積層されるメタライズ層94との接触面積を増加させて両者の接合性を高めることができる。また、サンドブラスト処理により溝86を形成することにより、フライス加工やレーザ加工により溝を形成する場合と比べて、加工によって窓部材に残留する応力を低減させることができる。これにより、残留応力によって窓部材が損傷することを防ぎ、窓部材の信頼性を高めることができる。
(第2の実施形態)
図19は、第2の実施形態に係る半導体モジュール200を示す断面図である。半導体モジュール200は、基板110と、複数の発光素子40と、窓部材150と、封止部70と、を備える。半導体モジュール200は、アレイ状に配置された複数の発光素子40を備え、それぞれの発光素子40を収容する複数の凹部116は、1枚の窓部材150で封止される。窓部材150は、図9に示した平板80であり、第1の実施形態として示した窓部材に個片化する前の平板80に対応する。
半導体モジュール200は、複数の発光素子40からの光を出力する主面として、一続きの平坦な出射面154を有することから、それぞれの凹部116を個別の窓部材で封止する場合と比べて、意匠性の高いモジュールとすることができる。以下、半導体モジュール200について第1の実施形態との相違点を中心に示し、第1の実施形態と共通する内容については適宜記載を省略する。
基板110は、アレイ状に配列される複数の凹部116と、それぞれの凹部116を囲うように格子状に構成される枠体120と、枠体120から突出する突起部130とを有する。枠体120の上面122には、封止部70が接合される金属面160が形成される。複数の凹部116のそれぞれには、発光素子40が収容される。
窓部材150は、複数の入射面152と、出射面154と、溝86と、メタライズ層94とを有する。入射面152は、溝86により仕切られる矩形領域であり、基板110に設けられる凹部116に対応してアレイ状に複数設けられる。出射面154は、入射面152に背向する主面であり、一続きの平坦面である。溝86は、凹部116の突起部130に対応して格子状に形成される。メタライズ層94は、溝86の側面86aから入射面152の外周部152aにかけて形成される。窓部材150は、基板110の突起部130が溝86に挿入されるように基板110の上に配置され、金属面160とメタライズ層94の間が封止部70により接合される。
窓部材150は、上述した第1の実施形態に係る窓部材と同様の工程により製造することができ、図3〜9に示した工程の後に、図10に示す切断工程を省くことで形成される。つまり、平板80を溝86に沿って切断せず、つながったままの状態とすることで、窓部材150を形成できる。
半導体モジュール200は、格子状に突出する突起部130と、格子状に掘られる溝86とが嵌合された状態で、基板110と窓部材150との間が封止されるため、窓部材150の出射面154に沿った方向に加わる力に対して強い構造とすることができる。また、封止部70は、窓部材150の側面86aに沿って設けられるメタライズ層94と接合されることとから、窓部材150の出射面154に交差する方向に加わる力に対しても強い構造とすることができる。これにより、半導体モジュール200における封止の信頼性を高めることができる。
なお、半導体モジュール200の変形例として、紫外光LEDの代わりに、赤色、緑色、青色のRGB各色に対応するLEDを発光素子40として配置してもよい。RGBの各色を発光するLEDを設けることで、半導体モジュール200をカラーディスプレイとして用いることができる。
本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形を加えることも可能であり、そのような変形が加えられた実施形態も本発明の範囲に含まれうるものである。また、上述の実施形態および変形例に開示されている複数の構成要素の適宜組合せにより種々の発明を形成してもよいし、実施形態および変形例に示される全構成要素からいくつかの構成要素を削除してもよい。
上述した実施形態および変形例においては、発光素子として紫外光を発するものを用いる場合を示したが、可視光や赤外光を発する発光素子を用いてもよい。また、発光素子の代わりに受光素子を配置することとしてもよく、その他の半導体素子を内部に格納することとしてもよい。
上述した実施形態および変形例においては、窓部材の材質として石英もしくはサファイアを用いる場合を示したが、窓部材の材質はこれらに限られず、透明プラスチックなどの樹脂材料を窓部材として用いてもよい。
上述した実施形態および変形例においては、基板や枠部の材料として高温焼成セラミック多層基板(HTCC)を用いる場合を示したが、セラミック材料としてシリカ(SiO)、酸化カルシウム(CaO)、酸化ホウ素(B)等を含む低温焼成セラミック多層基板(LTCC、Low Temperature Co-fired Ceramic)を用いてもよい。この場合、金属面60としてタングステンやモリブデンなどの高融点材料の代わりに、銅や銀など比較的融点の低い材料を基材として用いてもよい。
10…基板、12…上面、16…凹部、30…枠部、32…内壁、40…発光素子、50…窓部材、52a…外周部、56…側面、58…金属層、70…封止部、72…フィレット、100…半導体モジュール。

Claims (8)

  1. 第1主面と、前記第1主面に背向する第2主面と、側面と、を備える窓部材であって、
    前記第1主面の外周部から前記側面にかけて金属層が設けられ、当該金属層は前記側面のうち第2主面側の領域を避けて設けられることを特徴とする窓部材。
  2. 前記窓部材は、前記第1主面と前記側面との角度が鈍角となるように当該側面が斜めに設けられることを特徴とする請求項1に記載の窓部材。
  3. 前記窓部材は、前記第1主面と前記側面とで形成される角が面取りされていることを特徴とする請求項1または2に記載の窓部材。
  4. 前記窓部材は、前記側面と前記金属層との界面に微細な凹凸が形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の窓部材。
  5. 上面に開口する凹部が設けられる基板と、
    前記凹部に収容される半導体素子と、
    前記凹部の開口を覆うように前記上面に設けられ、当該上面と対向する第1主面と、前記第1主面に背向する第2主面と、側面と、を有する窓部材と、
    前記上面と前記窓部材との間を埋める封止部と、
    を備え、
    前記窓部材は、前記第1主面の外周部から前記側面にかけて設けられる金属層を有し、
    前記金属層は、前記側面のうち第2主面側の領域を避けて設けられることを特徴とする半導体モジュール。
  6. 光透過性を有する平板を準備し、
    前記平板の主面が複数の領域に分割されるよう当該主面上に溝を形成し、
    前記複数の領域のそれぞれの領域の中央部にマスクを形成し、
    前記溝および前記マスクが形成された前記平板の主面の上から金属層を形成し、
    前記金属層を形成した後に、前記マスクを除去することを特徴とする窓部材の製造方法。
  7. 前記金属層を形成した後に、前記溝に沿って前記平板を切断することを特徴とする請求項6に記載の窓部材の製造方法。
  8. 前記溝は、粒体を前記平板の主面に吹き付けて形成することを特徴とする請求項6または7に記載の窓部材の製造方法。
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