JP2014526615A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014526615A5 JP2014526615A5 JP2014530869A JP2014530869A JP2014526615A5 JP 2014526615 A5 JP2014526615 A5 JP 2014526615A5 JP 2014530869 A JP2014530869 A JP 2014530869A JP 2014530869 A JP2014530869 A JP 2014530869A JP 2014526615 A5 JP2014526615 A5 JP 2014526615A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- product
- coating
- bath
- base material
- silver
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 39
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 27
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 25
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 20
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 19
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical class [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 16
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 52
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 17
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 17
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 8
- 241000894007 species Species 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 3
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 3
- -1 silver-tungsten Chemical compound 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 2,2'-bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MMVYPOCJESWGTC-UHFFFAOYSA-N Mo2+ Chemical compound [Mo+2] MMVYPOCJESWGTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOPYNQPQCZIJCQ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-formylpyridin-1-ium-1-yl)propane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)CCC[N+]1=CC=CC(C=O)=C1 SOPYNQPQCZIJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001208 nuclear magnetic resonance pulse sequence Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000001187 sodium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Description
いくつかの実施の形態において、コーティング(具体的にはベース材料)上に形成された、潤滑剤層を含む製品は、潤滑剤層を含まない実質的に同様の製品と比較して、減少した摩擦係数を有しうる。いくつかの場合において、潤滑剤層を有する製品は、潤滑剤層を有しない製品の少なくとも1/2より小さい、少なくとも1/3より小さい、少なくとも1/4より小さい、少なくとも1/5より小さい、若しくは少なくとも1/10より小さい摩擦係数を有する。
銀−タングステン合金コーティングを、実施例1において上述したように、ベース材料上に様々な浴から電着させた。電着浴のpHを、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、若しくは、炭酸カリウムを用いて調整した。水酸化ナトリウム若しくは炭酸ナトリウムを含む浴において、沈殿物(例えば、酸化タングステン)は観測されなかった。一方、沈殿物は、水酸化カリウム若しくは炭酸カリウムを含む浴において観測された(図8参照)。
本明細書の開示内容は、以下の態様を含む。
態様1:
ベース材料と、
前記ベース材料の上に形成されたコーティングと、を含む製品であって、
前記コーティングは、銀ベース合金を含み、前記銀ベース合金はさらにタングステン及び/又はモリブデンを含み、前記銀ベース合金は、約100nm未満の粒子サイズを有し、
前記粒子サイズは、少なくとも1000時間、少なくとも125℃の温度に供した後、30nm以下の大きさの差をもって変動していることを特徴とする製品。
態様2:
前記製品は電気部品であることを特徴とする態様1記載の製品。
態様3:
前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする態様2記載の製品。
態様4:
前記銀ベース合金は、0.1原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンであることを特徴とする態様1記載の製品。
態様5:
前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする態様1記載の製品。
態様6:
前記粒子サイズは、約20nm以下の大きさの差をもって変動していることを特徴とする態様1記載の製品。
態様7:
前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする態様1記載の製品。
態様8:
前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする態様1記載の製品。
態様9:
前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする態様1記載の製品。
態様10:
前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする態様1記載の製品。
態様11:
前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする態様1記載の製品。
態様12:
ベース材料と、
前記ベース材料上に形成されたコーティングと、
前記コーティング上に形成された潤滑剤層と、を含む製品であって、
前記コーティングは、銀ベース合金を含み、前記銀ベース合金はさらにタングステン及び/又はモリブデンを含み、前記銀ベース合金中のタングステン及び/又はモリブデンの濃度は、少なくとも1.5原子パーセントであり、
前記銀ベース合金は、1ミクロン未満の平均粒子サイズを有することを特徴とする製品。
態様13:
前記製品は電気部品であることを特徴とする態様12記載の製品。
態様14:
前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする態様13記載の製品。
態様15:
前記銀ベース合金は、1.5原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンを含むことを特徴とする態様12記載の製品。
態様16:
前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする態様12記載の製品。
態様17
前記潤滑剤層は、ハロゲン含有潤滑剤、ポリフェニル含有潤滑剤、若しくは、ポリエーテル含有潤滑剤であることを特徴とする態様12記載の製品。
態様18:
前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする態様12記載の製品。
態様19:
前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする態様12記載の製品。
態様20:
前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする態様12記載の製品。
態様21:
前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする態様12記載の製品。
態様22:
前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする態様12記載の製品。
態様23:
前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも1/2より小さい摩擦係数を有することを特徴とする態様12記載の製品。
態様24:
前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも1/3より小さい摩擦係数を有することを特徴とする態様12記載の製品。
態様25:
ベース材料と、
前記ベース材料上に形成されたコーティングであって、タングステン及び/又はモリブデンをさらに含む銀ベース合金を含有するコーティングと、
前記コーティング上に形成された潤滑剤層と、を含む製品であって、
前記製品の硬度は、約1GPaより大きく、摩擦係数は、約0.3未満であることを特徴とする製品。
態様26:
前記製品は電気部品であることを特徴とする態様25記載の製品。
態様27:
前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする態様26記載の製品。
態様28:
前記銀ベース合金は、0.1原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンであることを特徴とする態様25記載の製品。
態様29:
前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする態様25記載の製品。
態様30:
前記合金の硬度は、約1.5GPa〜約3.0GPaであることを特徴とする態様25記載の製品。
態様31:
前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする態様25記載の製品。
態様32:
前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする態様25記載の製品。
態様33:
前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする態様25記載の製品。
態様34:
前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする態様25記載の製品。
態様35:
前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする態様25記載の製品。
態様36:
前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも2倍未満の摩擦係数を有することを特徴とする態様25記載の製品。
態様37:
前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも3倍未満の摩擦係数を有することを特徴とする態様25記載の製品。
態様38:
ベース材料と、
前記ベース材料上に形成されたコーティングであって、さらにタングステン及び/又はモリブデンを少なくとも1.5原子パーセントの濃度で含む銀ベース合金を含有するコーティングと、を備える製品であって、
前記コーティングは、少なくとも10%の多孔率を有することを特徴とする製品。
態様39:
前記コーティングが、約10%〜約25%の多孔率を有することを特徴とする態様38記載の製品。
態様40:
前記製品が電気部品であることを特徴とする態様38記載の製品。
態様41:
前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする態様40記載の製品。
態様42:
前記銀ベース合金は、0.1原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンであることを特徴とする態様38記載の製品。
態様43:
前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする態様38記載の製品。
態様44:
前記銀ベース合金は、面心立方構造を有することを特徴とする態様38記載の製品。
態様45:
前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする態様38記載の製品。
態様46:
前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする態様38記載の製品。
態様47:
前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする態様38記載の製品。
態様48:
前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする態様38記載の製品。
態様49:
前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする態様38記載の製品。
態様50:
銀イオン種と、
タングステンイオン種及び/又はモリブデンイオン種と、
水酸化ナトリウムと、を含む浴であって、
前記浴は、電着プロセスに適していることを特徴とする浴。
態様51:
前記浴のpHが、約8.0未満であることを特徴とする態様50記載の浴。
態様52:
前記浴のpHが、約6.5〜約8.5であることを特徴とする態様50記載の浴。
態様53:
さらに、錯化剤を含むことを特徴とする態様50記載の浴。
態様54:
前記少なくとも1種の錯化剤により、銀とタングステンとが共析出されることを特徴とする態様53記載の浴。
態様55:
前記錯化剤が、2,2−ジメチルハイドレーションであることを特徴とする態様53記載の浴。
態様56:
前記浴は、水溶性の溶液であることを特徴とする態様50記載の浴。
態様57:
前記浴は、さらに、潤滑剤を含むことを特徴とする態様50記載の浴。
態様58:
前記浴は、さらに、光沢剤を含むことを特徴とする態様50記載の浴。
態様59:
銀イオン種と、
タングステンイオン種及び/又はモリブデンイオン種と、
2, 2−ビピリジン及び3−ホルミル−1−(3−スルホナトプロピル)ピリジニウムからなる群から選択された光沢剤と、を含むことを特徴とする浴。
態様60:
前記浴は、電着プロセスに適していることを特徴とする態様59記載の浴。
態様61:
前記光沢剤は、2, 2−ビピリジンであり、約0.2〜0.6g/Lの量で存在することを特徴とする態様59記載の浴。
態様62:
前記浴のpHは、約6.5〜約8.5であることを特徴とする態様59記載の浴。
態様63:
さらに、錯化剤を含むことを特徴とする態様59記載の浴。
態様64:
前記少なくとも1種の錯化剤により、銀とタングステンとが共析出されることを特徴とする態様63記載の浴。
態様65:
前記錯化剤が、2,2−ジメチルハイドレーションであることを特徴とする態様63記載の浴。
態様66:
前記浴は、水溶性の溶液であることを特徴とする態様59記載の浴。
態様67:
前記浴は、さらに、潤滑剤を含むことを特徴とする態様59記載の浴。
態様68:
銀を含むアノードと、
カソードと、
浴と、
電力供給装置と、を備える電着システムであって、
前記浴は、タングステンイオン種及び/又はモリブデンイオン種、及び、少なくとも1種の錯化剤を含み、
前記浴は、前記アノードと前記カソードとに関連し、
前記電力供給装置は、前記アノード及び前記カソードの少なくとも一方に接続され、
前記アノードの表面積は、前記カソードの表面積の少なくとも5倍であることを特徴とする電着システム。
態様69:
少なくとも1種の前記錯化剤が、2,2−ジメチルハイドレーションを含むことを特徴とする態様68記載の電着システム。
態様70:
前記浴は、約6.5〜約9.0のpHを有することを特徴とする態様68記載の電着システム。
態様71:
前記浴は、約6.5〜約8.5のpHを有することを特徴とする態様70記載の電着システム。
態様72:
前記浴は、水溶性の溶液であることを特徴とする態様70記載の電着システム。
態様73:
さらに、潤滑剤を含有することを特徴とする態様70記載の電着システム。
態様74:
前記電力供給装置は、リバースパルスシーケンスを有する波形を発生させることができることを特徴とする態様70記載の電着システム。
態様75:
前記浴は、光沢剤をさらに含有することを特徴とする態様70記載の電着システム。
態様76:
水溶性の浴は、水酸化ナトリウムを含有することを特徴とする態様72記載の電着システム。
本明細書の開示内容は、以下の態様を含む。
態様1:
ベース材料と、
前記ベース材料の上に形成されたコーティングと、を含む製品であって、
前記コーティングは、銀ベース合金を含み、前記銀ベース合金はさらにタングステン及び/又はモリブデンを含み、前記銀ベース合金は、約100nm未満の粒子サイズを有し、
前記粒子サイズは、少なくとも1000時間、少なくとも125℃の温度に供した後、30nm以下の大きさの差をもって変動していることを特徴とする製品。
態様2:
前記製品は電気部品であることを特徴とする態様1記載の製品。
態様3:
前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする態様2記載の製品。
態様4:
前記銀ベース合金は、0.1原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンであることを特徴とする態様1記載の製品。
態様5:
前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする態様1記載の製品。
態様6:
前記粒子サイズは、約20nm以下の大きさの差をもって変動していることを特徴とする態様1記載の製品。
態様7:
前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする態様1記載の製品。
態様8:
前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする態様1記載の製品。
態様9:
前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする態様1記載の製品。
態様10:
前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする態様1記載の製品。
態様11:
前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする態様1記載の製品。
態様12:
ベース材料と、
前記ベース材料上に形成されたコーティングと、
前記コーティング上に形成された潤滑剤層と、を含む製品であって、
前記コーティングは、銀ベース合金を含み、前記銀ベース合金はさらにタングステン及び/又はモリブデンを含み、前記銀ベース合金中のタングステン及び/又はモリブデンの濃度は、少なくとも1.5原子パーセントであり、
前記銀ベース合金は、1ミクロン未満の平均粒子サイズを有することを特徴とする製品。
態様13:
前記製品は電気部品であることを特徴とする態様12記載の製品。
態様14:
前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする態様13記載の製品。
態様15:
前記銀ベース合金は、1.5原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンを含むことを特徴とする態様12記載の製品。
態様16:
前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする態様12記載の製品。
態様17
前記潤滑剤層は、ハロゲン含有潤滑剤、ポリフェニル含有潤滑剤、若しくは、ポリエーテル含有潤滑剤であることを特徴とする態様12記載の製品。
態様18:
前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする態様12記載の製品。
態様19:
前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする態様12記載の製品。
態様20:
前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする態様12記載の製品。
態様21:
前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする態様12記載の製品。
態様22:
前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする態様12記載の製品。
態様23:
前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも1/2より小さい摩擦係数を有することを特徴とする態様12記載の製品。
態様24:
前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも1/3より小さい摩擦係数を有することを特徴とする態様12記載の製品。
態様25:
ベース材料と、
前記ベース材料上に形成されたコーティングであって、タングステン及び/又はモリブデンをさらに含む銀ベース合金を含有するコーティングと、
前記コーティング上に形成された潤滑剤層と、を含む製品であって、
前記製品の硬度は、約1GPaより大きく、摩擦係数は、約0.3未満であることを特徴とする製品。
態様26:
前記製品は電気部品であることを特徴とする態様25記載の製品。
態様27:
前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする態様26記載の製品。
態様28:
前記銀ベース合金は、0.1原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンであることを特徴とする態様25記載の製品。
態様29:
前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする態様25記載の製品。
態様30:
前記合金の硬度は、約1.5GPa〜約3.0GPaであることを特徴とする態様25記載の製品。
態様31:
前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする態様25記載の製品。
態様32:
前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする態様25記載の製品。
態様33:
前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする態様25記載の製品。
態様34:
前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする態様25記載の製品。
態様35:
前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする態様25記載の製品。
態様36:
前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも2倍未満の摩擦係数を有することを特徴とする態様25記載の製品。
態様37:
前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも3倍未満の摩擦係数を有することを特徴とする態様25記載の製品。
態様38:
ベース材料と、
前記ベース材料上に形成されたコーティングであって、さらにタングステン及び/又はモリブデンを少なくとも1.5原子パーセントの濃度で含む銀ベース合金を含有するコーティングと、を備える製品であって、
前記コーティングは、少なくとも10%の多孔率を有することを特徴とする製品。
態様39:
前記コーティングが、約10%〜約25%の多孔率を有することを特徴とする態様38記載の製品。
態様40:
前記製品が電気部品であることを特徴とする態様38記載の製品。
態様41:
前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする態様40記載の製品。
態様42:
前記銀ベース合金は、0.1原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンであることを特徴とする態様38記載の製品。
態様43:
前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする態様38記載の製品。
態様44:
前記銀ベース合金は、面心立方構造を有することを特徴とする態様38記載の製品。
態様45:
前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする態様38記載の製品。
態様46:
前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする態様38記載の製品。
態様47:
前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする態様38記載の製品。
態様48:
前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする態様38記載の製品。
態様49:
前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする態様38記載の製品。
態様50:
銀イオン種と、
タングステンイオン種及び/又はモリブデンイオン種と、
水酸化ナトリウムと、を含む浴であって、
前記浴は、電着プロセスに適していることを特徴とする浴。
態様51:
前記浴のpHが、約8.0未満であることを特徴とする態様50記載の浴。
態様52:
前記浴のpHが、約6.5〜約8.5であることを特徴とする態様50記載の浴。
態様53:
さらに、錯化剤を含むことを特徴とする態様50記載の浴。
態様54:
前記少なくとも1種の錯化剤により、銀とタングステンとが共析出されることを特徴とする態様53記載の浴。
態様55:
前記錯化剤が、2,2−ジメチルハイドレーションであることを特徴とする態様53記載の浴。
態様56:
前記浴は、水溶性の溶液であることを特徴とする態様50記載の浴。
態様57:
前記浴は、さらに、潤滑剤を含むことを特徴とする態様50記載の浴。
態様58:
前記浴は、さらに、光沢剤を含むことを特徴とする態様50記載の浴。
態様59:
銀イオン種と、
タングステンイオン種及び/又はモリブデンイオン種と、
2, 2−ビピリジン及び3−ホルミル−1−(3−スルホナトプロピル)ピリジニウムからなる群から選択された光沢剤と、を含むことを特徴とする浴。
態様60:
前記浴は、電着プロセスに適していることを特徴とする態様59記載の浴。
態様61:
前記光沢剤は、2, 2−ビピリジンであり、約0.2〜0.6g/Lの量で存在することを特徴とする態様59記載の浴。
態様62:
前記浴のpHは、約6.5〜約8.5であることを特徴とする態様59記載の浴。
態様63:
さらに、錯化剤を含むことを特徴とする態様59記載の浴。
態様64:
前記少なくとも1種の錯化剤により、銀とタングステンとが共析出されることを特徴とする態様63記載の浴。
態様65:
前記錯化剤が、2,2−ジメチルハイドレーションであることを特徴とする態様63記載の浴。
態様66:
前記浴は、水溶性の溶液であることを特徴とする態様59記載の浴。
態様67:
前記浴は、さらに、潤滑剤を含むことを特徴とする態様59記載の浴。
態様68:
銀を含むアノードと、
カソードと、
浴と、
電力供給装置と、を備える電着システムであって、
前記浴は、タングステンイオン種及び/又はモリブデンイオン種、及び、少なくとも1種の錯化剤を含み、
前記浴は、前記アノードと前記カソードとに関連し、
前記電力供給装置は、前記アノード及び前記カソードの少なくとも一方に接続され、
前記アノードの表面積は、前記カソードの表面積の少なくとも5倍であることを特徴とする電着システム。
態様69:
少なくとも1種の前記錯化剤が、2,2−ジメチルハイドレーションを含むことを特徴とする態様68記載の電着システム。
態様70:
前記浴は、約6.5〜約9.0のpHを有することを特徴とする態様68記載の電着システム。
態様71:
前記浴は、約6.5〜約8.5のpHを有することを特徴とする態様70記載の電着システム。
態様72:
前記浴は、水溶性の溶液であることを特徴とする態様70記載の電着システム。
態様73:
さらに、潤滑剤を含有することを特徴とする態様70記載の電着システム。
態様74:
前記電力供給装置は、リバースパルスシーケンスを有する波形を発生させることができることを特徴とする態様70記載の電着システム。
態様75:
前記浴は、光沢剤をさらに含有することを特徴とする態様70記載の電着システム。
態様76:
水溶性の浴は、水酸化ナトリウムを含有することを特徴とする態様72記載の電着システム。
Claims (8)
- ベース材料と、
前記ベース材料の上に形成されたコーティングと、を含む電気部品であって、
前記コーティングは、銀ベース合金を含み、前記銀ベース合金はさらにタングステン及び/又はモリブデンを含み、前記銀ベース合金は、100nm未満の粒子サイズを有し、
前記粒子サイズは、少なくとも1000時間、少なくとも125℃の温度に供した後、30nm以下の大きさの差をもって変動していることを特徴とする電気部品。 - 前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする請求項1記載の電気部品。
- 前記銀ベース合金は、0.1原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンを含むことを特徴とする請求項1記載の電気部品。
- 前記コーティングは、5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする請求項1記載の電気部品。
- 前記粒子サイズは、20nm以下の大きさの差をもって変動していることを特徴とする請求項1記載の電気部品。
- 前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする請求項1記載の電気部品。
- 前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の電気部品。
- 前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の電気部品。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/232,291 | 2011-09-14 | ||
US13/232,291 US20120121925A1 (en) | 2010-03-12 | 2011-09-14 | Coated articles, electrodeposition baths, and related systems |
US13/232,261 | 2011-09-14 | ||
US13/232,261 US20120118755A1 (en) | 2010-03-12 | 2011-09-14 | Coated articles, electrodeposition baths, and related systems |
PCT/US2012/055495 WO2013040400A1 (en) | 2011-09-14 | 2012-09-14 | Coated articles, electrodeposition baths, and related systems |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014526615A JP2014526615A (ja) | 2014-10-06 |
JP2014526615A5 true JP2014526615A5 (ja) | 2017-03-23 |
JP6159726B2 JP6159726B2 (ja) | 2017-07-05 |
Family
ID=47883783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014530869A Active JP6159726B2 (ja) | 2011-09-14 | 2012-09-14 | 被覆された製品、電着浴、及び関連するシステム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2755819B1 (ja) |
JP (1) | JP6159726B2 (ja) |
CN (2) | CN104080606B (ja) |
WO (1) | WO2013040400A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6159726B2 (ja) * | 2011-09-14 | 2017-07-05 | エクスタリック コーポレイションXtalic Corporation | 被覆された製品、電着浴、及び関連するシステム |
JP2015014019A (ja) * | 2013-07-03 | 2015-01-22 | パナソニック株式会社 | 電気接点の表面処理方法、電気接点部材、コネクタ並びに接点処理剤 |
WO2017143033A1 (en) * | 2016-02-16 | 2017-08-24 | Xtalic Corporation | Articles including a multi-layer coating and methods |
CN106521284A (zh) * | 2016-11-24 | 2017-03-22 | 苏州华意铭铄激光科技有限公司 | 一种高性能电气设备用复合电阻应变材料 |
KR101913568B1 (ko) * | 2017-04-26 | 2018-10-31 | 재단법인대구경북과학기술원 | 귀금속 나노입자가 도금된 다공성 수지침 및 이의 제조방법 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3762882A (en) * | 1971-06-23 | 1973-10-02 | Di Coat Corp | Wear resistant diamond coating and method of application |
GB1418108A (en) * | 1972-09-12 | 1975-12-17 | Siemens Ag | Preparation of a catalytic material |
SU1035655A1 (ru) * | 1980-12-12 | 1983-08-15 | Предприятие П/Я А-1955 | Электрохимический управл емый резистор |
JPS61248314A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-05 | 松下電工株式会社 | 接点材料の製法 |
US5225253A (en) * | 1992-04-17 | 1993-07-06 | General Motors Corporation | Method of forming silver/molybdenum surface coating material |
US5525206A (en) * | 1995-02-01 | 1996-06-11 | Enthone-Omi, Inc. | Brightening additive for tungsten alloy electroplate |
JPH10302866A (ja) * | 1997-04-28 | 1998-11-13 | Harness Sogo Gijutsu Kenkyusho:Kk | 嵌合型接続端子 |
JP2003183882A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-07-03 | Kobe Steel Ltd | 錫めっき付き電子材料 |
SG121757A1 (en) * | 2003-02-11 | 2006-05-26 | Agency Science Tech & Res | Thin film magnetic recording media |
JP2005062624A (ja) * | 2003-08-18 | 2005-03-10 | Seiko Epson Corp | 反射膜及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法並びに電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器 |
US7320832B2 (en) * | 2004-12-17 | 2008-01-22 | Integran Technologies Inc. | Fine-grained metallic coatings having the coefficient of thermal expansion matched to the one of the substrate |
JP4176081B2 (ja) * | 2005-01-19 | 2008-11-05 | 日本航空電子工業株式会社 | コンタクトの製造方法 |
WO2006100917A1 (ja) * | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | 発光素子用のリフレクター及びその製造方法、並びに該リフレクターを備える発光デバイス |
US7695808B2 (en) * | 2005-11-07 | 2010-04-13 | 3M Innovative Properties Company | Thermal transfer coating |
JP5144302B2 (ja) * | 2007-02-20 | 2013-02-13 | 株式会社神戸製鋼所 | 反射膜積層体 |
US9005420B2 (en) * | 2007-12-20 | 2015-04-14 | Integran Technologies Inc. | Variable property electrodepositing of metallic structures |
JP2012508322A (ja) * | 2008-11-07 | 2012-04-05 | エクスタリック コーポレイション | 電着浴、電着システム、及び電着方法 |
US8652649B2 (en) * | 2009-07-10 | 2014-02-18 | Xtalic Corporation | Coated articles and methods |
JP5719179B2 (ja) * | 2010-01-25 | 2015-05-13 | 株式会社神戸製鋼所 | 反射膜積層体 |
WO2011112939A1 (en) * | 2010-03-12 | 2011-09-15 | Xtalic Corporation | Coated articles and methods |
US9694562B2 (en) * | 2010-03-12 | 2017-07-04 | Xtalic Corporation | Coated articles and methods |
JP6159726B2 (ja) * | 2011-09-14 | 2017-07-05 | エクスタリック コーポレイションXtalic Corporation | 被覆された製品、電着浴、及び関連するシステム |
-
2012
- 2012-09-14 JP JP2014530869A patent/JP6159726B2/ja active Active
- 2012-09-14 CN CN201280055952.2A patent/CN104080606B/zh active Active
- 2012-09-14 WO PCT/US2012/055495 patent/WO2013040400A1/en active Application Filing
- 2012-09-14 EP EP12831829.2A patent/EP2755819B1/en active Active
- 2012-09-14 CN CN201611001346.9A patent/CN106947986B/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2014526615A5 (ja) | ||
JP2013531729A5 (ja) | ||
JP2015524024A5 (ja) | ||
TW201038767A (en) | An electroless gold plating solution for forming a gold microstructure, a method for forming the gold microstructure using this plating soltion, and a gold microstructure formed by this method | |
JP2007254860A (ja) | めっき膜及びその形成方法 | |
JP2011149092A (ja) | 金属ナノワイヤー及びその製造方法、並びに透明導電体及びタッチパネル | |
JP2012237060A5 (ja) | ||
JPWO2014207975A1 (ja) | めっき材の製造方法及びめっき材 | |
JP2015078431A5 (ja) | ||
US9999148B2 (en) | Electronics housing and manufacturing method of electronics housing | |
JP2013525606A5 (ja) | ||
JP2018123421A5 (ja) | ||
JP6182757B2 (ja) | めっき材の製造方法及びめっき材 | |
JP2017078194A (ja) | ルテニウムを含む積層めっき被覆材 | |
JP2017165996A (ja) | ニッケルナノワイヤー | |
JP2014181354A (ja) | 銀めっき材 | |
WO2017066069A8 (en) | Water soluble and air stable phosphaadamantanes as stabilizers for electroless metal deposition | |
WO2015060449A1 (ja) | めっき品の製造方法 | |
JP2016165675A5 (ja) | ||
KR102295180B1 (ko) | 전기전도성, 내식성 및 내구성 향상을 위한 은-나노 합금 도금액 조성물 및 이를 이용한 도금 방법 | |
JPH05506887A (ja) | 金の無電流析出のための水性浴の組合せ | |
JP4230813B2 (ja) | 金めっき液 | |
JP2016524048A5 (ja) | ||
JP6878752B2 (ja) | フレキシブル熱電変換部材の作製方法 | |
JP6621169B2 (ja) | めっき品の製造方法 |