JP2014526615A - 被覆された製品、電着浴、及び関連するシステム - Google Patents
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Abstract
Description
この実施例は、様々なサンプルにより達成されたコーティングの厚さ、タングステンの含有量、粒子サイズ、コーティングの硬度、及び、接触抵抗を示している。
この実施例は、潤滑剤層を含む材料についてのコーティング耐摩耗性を示す。
本実施例は、タングステンの質量割合を変化させた銀合金を含む金属めっき析出されたコーティングの多孔率の変化を示す。
本実施例は、少なくとも1つの光沢剤を含む電着浴の使用を示す。
本実施例は、銀−タングステン合金の熱的安定性を示す。
本実施例は、アノード表面領域に対するカソードの比率のバリエーションを示す。
本実施例は、電着浴のpHのバリエーションと合金中におけるタングステン含有量に対するその関係とを示す。
本実施例は、電着浴のpHを調整するための添加剤のバリエーションを示す。
Claims (76)
- ベース材料と、
前記ベース材料の上に形成されたコーティングと、を含む製品であって、
前記コーティングは、銀ベース合金を含み、前記銀ベース合金はさらにタングステン及び/又はモリブデンを含み、前記銀ベース合金は、約100nm未満の粒子サイズを有し、
前記粒子サイズは、少なくとも1000時間、少なくとも125℃の温度に供した後、30nm以下の大きさの差をもって変動していることを特徴とする製品。 - 前記製品は電気部品であることを特徴とする請求項1記載の製品。
- 前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする請求項2記載の製品。
- 前記銀ベース合金は、0.1原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンであることを特徴とする請求項1記載の製品。
- 前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする請求項1記載の製品。
- 前記粒子サイズは、約20nm以下の大きさの差をもって変動していることを特徴とする請求項1記載の製品。
- 前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする請求項1記載の製品。
- 前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする請求項1記載の製品。
- 前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする請求項1記載の製品。
- 前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の製品。
- 前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の製品。
- ベース材料と、
前記ベース材料上に形成されたコーティングと、
前記コーティング上に形成された潤滑剤層と、を含む製品であって、
前記コーティングは、銀ベース合金を含み、前記銀ベース合金はさらにタングステン及び/又はモリブデンを含み、前記銀ベース合金中のタングステン及び/又はモリブデンの濃度は、少なくとも1.5原子パーセントであり、
前記銀ベース合金は、1ミクロン未満の平均粒子サイズを有することを特徴とする製品。 - 前記製品は電気部品であることを特徴とする請求項12記載の製品。
- 前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする請求項13記載の製品。
- 前記銀ベース合金は、1.5原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンを含むことを特徴とする請求項12記載の製品。
- 前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする請求項12記載の製品。
- 前記潤滑剤層は、ハロゲン含有潤滑剤、ポリフェニル含有潤滑剤、若しくは、ポリエーテル含有潤滑剤であることを特徴とする請求項12記載の製品。
- 前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする請求項12記載の製品。
- 前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする請求項12記載の製品。
- 前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする請求項12記載の製品。
- 前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする請求項12記載の製品。
- 前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする請求項12記載の製品。
- 前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも2倍未満の摩擦係数を有することを特徴とする請求項12記載の製品。
- 前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも3倍未満の摩擦係数を有することを特徴とする請求項12記載の製品。
- ベース材料と、
前記ベース材料上に形成されたコーティングであって、タングステン及び/又はモリブデンをさらに含む銀ベース合金を含有するコーティングと、
前記コーティング上に形成された潤滑剤層と、を含む製品であって、
前記製品の硬度は、約1GPaより大きく、摩擦係数は、約0.3未満であることを特徴とする製品。 - 前記製品は電気部品であることを特徴とする請求項25記載の製品。
- 前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする請求項26記載の製品。
- 前記銀ベース合金は、0.1原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンであることを特徴とする請求項25記載の製品。
- 前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする請求項25記載の製品。
- 前記合金の硬度は、約1.5GPa〜約3.0GPaであることを特徴とする請求項25記載の製品。
- 前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする請求項25記載の製品。
- 前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする請求項25記載の製品。
- 前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする請求項25記載の製品。
- 前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする請求項25記載の製品。
- 前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする請求項25記載の製品。
- 前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも2倍未満の摩擦係数を有することを特徴とする請求項25記載の製品。
- 前記製品は、潤滑剤層を含有しない製品の摩擦係数の少なくとも3倍未満の摩擦係数を有することを特徴とする請求項25記載の製品。
- ベース材料と、
前記ベース材料上に形成されたコーティングであって、さらにタングステン及び/又はモリブデンを少なくとも1.5原子パーセントの濃度で含む銀ベース合金を含有するコーティングと、を備える製品であって、
前記コーティングは、少なくとも10%の多孔率を有することを特徴とする製品。 - 前記コーティングが、約10%〜約25%の多孔率を有することを特徴とする請求項38記載の製品。
- 前記製品が電気部品であることを特徴とする請求項38記載の製品。
- 前記ベース材料は、導電性ベース材料であることを特徴とする請求項40記載の製品。
- 前記銀ベース合金は、0.1原子パーセント〜50原子パーセントのタングステン及び/又はモリブデンであることを特徴とする請求項38記載の製品。
- 前記コーティングは、約5マイクロインチより大きい厚さを有することを特徴とする請求項38記載の製品。
- 前記銀ベース合金は、面心立方構造を有することを特徴とする請求項38記載の製品。
- 前記コーティングは、電着プロセスを用いて形成されたことを特徴とする請求項38記載の製品。
- 前記コーティングは、浴中において形成されたことを特徴とする請求項38記載の製品。
- 前記ベース材料は、銅を含むことを特徴とする請求項38記載の製品。
- 前記コーティングは、ニッケル含有層をさらに備えることを特徴とする請求項38記載の製品。
- 前記コーティングは、Ru、Os、Rh、Re、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、若しくはこれらの組み合わせを含む層をさらに備えることを特徴とする請求項38記載の製品。
- 銀イオン種と、
タングステンイオン種及び/又はモリブデンイオン種と、
水酸化ナトリウムと、を含む浴であって、
前記浴は、電着プロセスに適していることを特徴とする浴。 - 前記浴のpHが、約8.0未満であることを特徴とする請求項50記載の浴。
- 前記浴のpHが、約6.5〜約8.5であることを特徴とする請求項50記載の浴。
- さらに、錯化剤を含むことを特徴とする請求項50記載の浴。
- 前記少なくとも1種の錯化剤により、銀とタングステンとが共析出されることを特徴とする請求項53記載の浴。
- 前記錯化剤が、2,2−ジメチルハイドレーションであることを特徴とする請求項53記載の浴。
- 前記浴は、水溶性の溶液であることを特徴とする請求項50記載の浴。
- 前記浴は、さらに、潤滑剤を含むことを特徴とする請求項50記載の浴。
- 前記浴は、さらに、光沢剤を含むことを特徴とする請求項50記載の浴。
- 銀イオン種と、
タングステンイオン種及び/又はモリブデンイオン種と、
2, 2−ビピリジン及び3−ホルミル−1−(3−スルホナトプロピル)ピリジニウムからなる群から選択された光沢剤と、を含むことを特徴とする浴。 - 前記浴は、電着プロセスに適していることを特徴とする請求項59記載の浴。
- 前記光沢剤は、2, 2−ビピリジンであり、約0.2〜0.6g/Lの量で存在することを特徴とする請求項59記載の浴。
- 前記浴のpHは、約6.5〜約8.5であることを特徴とする請求項59記載の浴。
- さらに、錯化剤を含むことを特徴とする請求項59記載の浴。
- 前記少なくとも1種の錯化剤により、銀とタングステンとが共析出されることを特徴とする請求項63記載の浴。
- 前記錯化剤が、2,2−ジメチルハイドレーションであることを特徴とする請求項63記載の浴。
- 前記浴は、水溶性の溶液であることを特徴とする請求項59記載の浴。
- 前記浴は、さらに、潤滑剤を含むことを特徴とする請求項59記載の浴。
- 銀を含むアノードと、
カソードと、
浴と、
電力供給装置と、を備える電着システムであって、
前記浴は、タングステンイオン種及び/又はモリブデンイオン種、及び、少なくとも1種の錯化剤を含み、
前記浴は、前記アノードと前記カソードとに関連し、
前記電力供給装置は、前記アノード及び前記カソードの少なくとも一方に接続され、
前記アノードの表面積は、前記カソードの表面積の少なくとも5倍であることを特徴とする電着システム。 - 少なくとも1種の前記錯化剤が、2,2−ジメチルハイドレーションを含むことを特徴とする請求項68記載の電着システム。
- 前記浴は、約6.5〜約9.0のpHを有することを特徴とする請求項68記載の電着システム。
- 前記浴は、約6.5〜約8.5のpHを有することを特徴とする請求項70記載の電着システム。
- 前記浴は、水溶性の溶液であることを特徴とする請求項70記載の電着システム。
- さらに、潤滑剤を含有することを特徴とする請求項70記載の電着システム。
- 前記電力供給装置は、リバースパルスシーケンスを有する波形を発生させることができることを特徴とする請求項70記載の電着システム。
- 前記浴は、光沢剤をさらに含有することを特徴とする請求項70記載の電着システム。
- 水溶性の浴は、水酸化ナトリウムを含有することを特徴とする請求項72記載の電着システム。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101913568B1 (ko) * | 2017-04-26 | 2018-10-31 | 재단법인대구경북과학기술원 | 귀금속 나노입자가 도금된 다공성 수지침 및 이의 제조방법 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6159726B2 (ja) * | 2011-09-14 | 2017-07-05 | エクスタリック コーポレイションXtalic Corporation | 被覆された製品、電着浴、及び関連するシステム |
JP2015014019A (ja) * | 2013-07-03 | 2015-01-22 | パナソニック株式会社 | 電気接点の表面処理方法、電気接点部材、コネクタ並びに接点処理剤 |
WO2017143033A1 (en) * | 2016-02-16 | 2017-08-24 | Xtalic Corporation | Articles including a multi-layer coating and methods |
CN106521284A (zh) * | 2016-11-24 | 2017-03-22 | 苏州华意铭铄激光科技有限公司 | 一种高性能电气设备用复合电阻应变材料 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61248314A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-05 | 松下電工株式会社 | 接点材料の製法 |
JPH10302866A (ja) * | 1997-04-28 | 1998-11-13 | Harness Sogo Gijutsu Kenkyusho:Kk | 嵌合型接続端子 |
JP2003183882A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-07-03 | Kobe Steel Ltd | 錫めっき付き電子材料 |
JP2004273101A (ja) * | 2003-02-11 | 2004-09-30 | Agency For Science Technology & Research | 薄膜磁気記録媒体 |
JP2005062624A (ja) * | 2003-08-18 | 2005-03-10 | Seiko Epson Corp | 反射膜及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法並びに電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器 |
JP2006202569A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Japan Aviation Electronics Industry Ltd | コンタクト及びそれを用いたコネクタ、並びにコンタクトの製造方法 |
WO2006100917A1 (ja) * | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | 発光素子用のリフレクター及びその製造方法、並びに該リフレクターを備える発光デバイス |
JP2008233894A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-10-02 | Kobe Steel Ltd | 反射膜積層体 |
JP2011170326A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-09-01 | Kobe Steel Ltd | 反射膜積層体 |
JP2012532988A (ja) * | 2009-07-10 | 2012-12-20 | エクスタリック コーポレイション | 被コーティング物品およびそのコーティング方法 |
WO2013040400A1 (en) * | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Xtalic Corporation | Coated articles, electrodeposition baths, and related systems |
JP2013531729A (ja) * | 2010-03-12 | 2013-08-08 | エクスタリック コーポレイション | 被覆物および方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3762882A (en) * | 1971-06-23 | 1973-10-02 | Di Coat Corp | Wear resistant diamond coating and method of application |
GB1418108A (en) * | 1972-09-12 | 1975-12-17 | Siemens Ag | Preparation of a catalytic material |
SU1035655A1 (ru) * | 1980-12-12 | 1983-08-15 | Предприятие П/Я А-1955 | Электрохимический управл емый резистор |
US5225253A (en) * | 1992-04-17 | 1993-07-06 | General Motors Corporation | Method of forming silver/molybdenum surface coating material |
US5525206A (en) * | 1995-02-01 | 1996-06-11 | Enthone-Omi, Inc. | Brightening additive for tungsten alloy electroplate |
US7320832B2 (en) * | 2004-12-17 | 2008-01-22 | Integran Technologies Inc. | Fine-grained metallic coatings having the coefficient of thermal expansion matched to the one of the substrate |
US7695808B2 (en) * | 2005-11-07 | 2010-04-13 | 3M Innovative Properties Company | Thermal transfer coating |
US9005420B2 (en) * | 2007-12-20 | 2015-04-14 | Integran Technologies Inc. | Variable property electrodepositing of metallic structures |
JP2012508322A (ja) * | 2008-11-07 | 2012-04-05 | エクスタリック コーポレイション | 電着浴、電着システム、及び電着方法 |
US9694562B2 (en) * | 2010-03-12 | 2017-07-04 | Xtalic Corporation | Coated articles and methods |
-
2012
- 2012-09-14 JP JP2014530869A patent/JP6159726B2/ja active Active
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Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61248314A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-05 | 松下電工株式会社 | 接点材料の製法 |
JPH10302866A (ja) * | 1997-04-28 | 1998-11-13 | Harness Sogo Gijutsu Kenkyusho:Kk | 嵌合型接続端子 |
JP2003183882A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-07-03 | Kobe Steel Ltd | 錫めっき付き電子材料 |
JP2004273101A (ja) * | 2003-02-11 | 2004-09-30 | Agency For Science Technology & Research | 薄膜磁気記録媒体 |
JP2005062624A (ja) * | 2003-08-18 | 2005-03-10 | Seiko Epson Corp | 反射膜及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法並びに電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器 |
JP2006202569A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Japan Aviation Electronics Industry Ltd | コンタクト及びそれを用いたコネクタ、並びにコンタクトの製造方法 |
WO2006100917A1 (ja) * | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | 発光素子用のリフレクター及びその製造方法、並びに該リフレクターを備える発光デバイス |
JP2008233894A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-10-02 | Kobe Steel Ltd | 反射膜積層体 |
JP2012532988A (ja) * | 2009-07-10 | 2012-12-20 | エクスタリック コーポレイション | 被コーティング物品およびそのコーティング方法 |
JP2011170326A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-09-01 | Kobe Steel Ltd | 反射膜積層体 |
JP2013531729A (ja) * | 2010-03-12 | 2013-08-08 | エクスタリック コーポレイション | 被覆物および方法 |
WO2013040400A1 (en) * | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Xtalic Corporation | Coated articles, electrodeposition baths, and related systems |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101913568B1 (ko) * | 2017-04-26 | 2018-10-31 | 재단법인대구경북과학기술원 | 귀금속 나노입자가 도금된 다공성 수지침 및 이의 제조방법 |
WO2018199610A1 (ko) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 재단법인대구경북과학기술원 | 귀금속 나노입자가 도금된 침술용 다공성 침 및 이의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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