JP2014517516A - 磁気共鳴歳差現象と2重スピンフィルター効果とを利用するスピン伝達トルク磁気メモリ素子 - Google Patents
磁気共鳴歳差現象と2重スピンフィルター効果とを利用するスピン伝達トルク磁気メモリ素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014517516A JP2014517516A JP2014510243A JP2014510243A JP2014517516A JP 2014517516 A JP2014517516 A JP 2014517516A JP 2014510243 A JP2014510243 A JP 2014510243A JP 2014510243 A JP2014510243 A JP 2014510243A JP 2014517516 A JP2014517516 A JP 2014517516A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic layer
- magnetic
- pinned
- free
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/80—Constructional details
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/161—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect details concerning the memory cell structure, e.g. the layers of the ferromagnetic memory cell
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/10—Magnetoresistive devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/80—Constructional details
- H10N50/85—Magnetic active materials
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
Abstract
Description
第1固定磁性層、第1自由磁性層、及び第2自由磁性層を含む磁気メモリ素子であって、
前記第1固定磁性層は固定磁化方向を有し、膜面に対して垂直方向に磁化される物質から形成された薄膜であり、
前記第1自由磁性層は外部から印加される電流によって磁化方向が変わり、膜面に対して垂直方向に磁化される物質から形成された薄膜であり、
前記第2自由磁性層は外部から印加される電流によって磁化方向が変わり、膜面に対して水平方向に磁化される物質から形成された薄膜であり、
前記第1固定磁性層と第1自由磁性層との間及び第1自由磁性層と第2自由磁性層との間には各々第1非磁性層及び第2非磁性層を含むことを特徴とする磁気メモリ素子を提供する。
本発明による磁気メモリ素子の効果を磁化の運動方程式を利用する微小磁気モデリングを通じて確認した。このような方式は既存のコンピューターハードディスク開発及びスピン伝達トルク研究を通じて正当性が十分に確保された。
(1)下記の図2のように本発明の一実施形態による磁気メモリ素子に対して電流を印加する場合、垂直異方性を有する第1自由磁性層及び水平異方性を有する第2自由磁性層の磁化挙動が開示される。
(2)素子の構造と物性値とは次の通りである。
全体構造の断面積=314nm2、
固定磁性層201/第1非磁性層202/第1自由磁性層203:“厚さ(t)=3nm、垂直異方性常数(K⊥)=6×106erg/cm3、飽和磁化値(MS1)=1000emu/cm3、Gilbert減衰常数(α)=0.01、スピン分極効率常数(η1)=1.0”
第2非磁性層204:厚さt=1nm
第2自由磁性層205:“厚さ(t)=1nm、垂直異方性常数(K⊥)=0erg/cm3、飽和磁化値(MS2)=700emu/cm3、Gilbert減衰常数(α)=0.01、スピン分極効率常数(η2)=1.0”
(3)下記の図4Aは時間にしたがう印加された電流を示したグラフである。磁化のスイッチング挙動を観察するために、rise timeが40psであり、幅が5nsである電流パルスを印加した。
(1)下記の図1の従来の構造と下記の図2に開示された本発明による新しい構造の素子に対してスイッチング電流を開示する。
(2)素子の構造と物性値とは次の通りである。
全体構造の断面積は2つの構造で同様に314nm2である。
下記の図1の従来の構造は固定磁性層101/非磁性層102/自由磁性層103:“厚さ(t)=3nm、垂直異方性常数(K⊥)=6×106erg/cm3、飽和磁化値(MS1)=1000emu/cm3、Gilbert減衰常数(α)=0.01、スピン分極効率常数(η1)=1.0”
下記の図2の本発明による新しい構造の物性値は次の通りである。
固定磁性層201/第1非磁性層202/第1自由磁性層203:“厚さ(t)=3nm、垂直異方性常数(K⊥)=6×106erg/cm3、飽和磁化値(MS1)=1000emu/cm3、Gilbert減衰常数(α)=0.01、スピン分極効率常数(η1)=1.0”
第2非磁性層204:厚さt=1nm
第2自由磁性層205:“厚さ(t)=1nm、垂直異方性常数(K⊥)=0erg/cm3、飽和磁化値(MS2)=700emu/cm3、Gilbert減衰常数(α)=0.01、スピン分極効率常数(η2)=1.0”
従来の構造と本発明による新しい構造で共通的に含まれた固定磁性層、第1非磁性層(非磁性層)及び自由磁性層(第1自由磁性層)は同一な構造及び物性値を有する。
(3)本実験例で考慮した素子の温度は300Kであり、各々の印加電流で100回の実験を反複して磁化がスイッチングされる確率を測定した。
(1)本発明による新しい構造で第2自由磁性層205の飽和磁化値(Ms2)にしたがうスイッチング電流の変化を開示する。
(2)素子の構造と物性値は次の通りである。
全体構造の断面積=314nm2
固定磁性層201/第1非磁性層202/第1自由磁性層203:“厚さ(t)=3nm、垂直異方性常数(K⊥)=6×106erg/cm3、飽和磁化値(MS1)=1000emu/cm3、Gilbert減衰常数(α)=0.01、スピン分極効率常数(η1)=1.0”
第2非磁性層204:厚さt=1nm
第2自由磁性層205:“厚さ(t)=1nm、垂直異方性常数(K⊥)=0erg/cm3、飽和磁化値(MS2)=0−2000emu/cm3、Gilbert減衰常数(α)=0.01、スピン分極効率常数(η2)=0−1.0”
(3)本実験例で考慮した素子の温度は300Kであり、スイッチング電流は前記実験例2のように、各々の印加電流で実験を100回実施した後、スイッチング確率を測定した。
(1)下記の図1の従来の構造と下記の図3に開示された本発明による新しい構造の素子に対して印加された電流に対するスイッチング確率を開示する。
(2)素子の構造と物性値とは次の通りである。
全体構造の断面積は2つの構造で同様に314nm2である。
下記の図1の従来の構造は固定磁性層101/非磁性層102/自由磁性層103[厚さ(t)=3nm、垂直異方性常数(K⊥)=7×105J/m3、飽和磁化値(MS1)=1100kA/m、Gilbert減衰常数(α)=0.01、スピン分極効率常数(η1)=1.0]である。
下記の図3の本発明による新しい構造は第1固定磁性層301/第1非磁性体302[厚さ(t)=1nm]/第1自由磁性層303[厚さ(t)=3nm、垂直異方性常数(K⊥)=7×105J/m3、飽和磁化値(MS1)=1100kA/m、Gilbert減衰常数(a)=0.01、スピン分極効率常数(1)=1.0]/第2非磁性層304[厚さ(t)=1]/第2自由磁性層305[厚さ(t)=1、垂直異方性常数(K)=0erg/、飽和磁化値(MS2)=800/m、Gilbert減衰常数(α)=0.01、第1自由磁性層によるスピン分極効率常数(η2)=1.0、第2固定磁性層によるスピン分極効率常数(η3)=0]/第3非磁性層306[厚さ(t)=1nm]/第2固定磁性層307[厚さ(t)=3nm、飽和磁化値(MS)=1100kA/m]である。したがって、従来の構造と本発明による新しい構造で共通的に含まれた固定層(第1固定磁性層)、非磁性層(第1非磁性層)及び自由磁性層(第1自由磁性層)は同一な構造及び物性値を有する。
(3)本実験例で素子の温度は300Kであり、各々の印加電流で100回の実験を反複して自由層(第1自由層)の磁化の方向が初期方向で反対方向にスイッチングが行われる確率を測定した。
(1)下記の図1の従来の構造のスイッチング電流及び分布図を開示する。
(2)下記の図3に開示された本発明による新しい構造の素子に対する第2自由磁性層305の飽和磁化値(MS2)にしたがうスイッチング電流及び分布図の変化を開示する。
(3)素子の構造と物性値とは次の通りである。
全体構造の断面積は2つの構造で同様に314nm2である。
下記の図1の従来の構造は固定磁性層101/非磁性層102/自由磁性層103[厚さ(t)=3nm、垂直異方性常数(K⊥)=7×105J/m3、飽和磁化値(MS1)=1100kA/m、Gilbert減衰常数(α)=0.01、スピン分極効率常数(η1)=1.0]である。即ち、前記実験例1で考慮した構造及び物性値と同一である。
下記の図3の本発明にしたがう新しい構造は第1固定磁性層301/第1非磁性体302[厚さ(t)=1nm]/第1自由磁性層303[厚さ(t)=3nm、垂直異方性常数(K⊥)=7×105J/m3、飽和磁化値(MS1)=1100kA/m、Gilbert減衰常数(α)=0.01、スピン分極効率常数(η1)=1.0]/第2非磁性層304[厚さ(t)=1nm]/第2自由磁性層305[厚さ(t)=1nm、垂直異方性常数(K⊥)=0J/m3、飽和磁化値(MS2)=0−1500kA/m、Gilbert減衰常数(α)=0.01、第1自由磁性層によるスピン分極効率常数(η2)=1.0、第2固定磁性層によるスピン分極効率常数(η3)=0]/第3非磁性層306[厚さ(t)=1nm]/第2固定磁性層307[厚さ(t)=3nm、飽和磁化値(MS)=1100kA/m]である。
(4)本実験例で素子の温度は300Kであり、各々の印加電流で100回の実験を反複して自由層(第1自由磁性層)の磁化の方向が初期方向で反対方向にスイッチングが行われる確率を測定した。
(5)磁気メモリ素子は固定磁性層と自由磁性層との相対的な方向に沿って2つの場合のスイッチングが発生する。
101 第1磁性体(固定磁性層)
102 非磁性体
103 第2磁性体(自由磁性層)
Claims (17)
- 第1固定磁性層、第1自由磁性層、及び第2自由磁性層を含む磁気メモリ素子であって、
前記第1固定磁性層は固定磁化方向を有し、膜面に対して垂直方向に磁化される物質から形成された薄膜であり、
前記第1自由磁性層は外部から印加される電流によって磁化方向が変わり、膜面に対して垂直方向に磁化される物質から形成された薄膜であり、
前記第2自由磁性層は外部から印加される電流によって磁化方向が変わり,膜面に対して水平方向に磁化される物質から形成された薄膜であり、
前記第1固定磁性層と第1自由磁性層との間及び第1自由磁性層と第2自由磁性層との間には各々第1非磁性層及び第2非磁性層を含むことを特徴とする磁気メモリ素子。 - 前記磁気メモリ素子は第2固定磁性層をさらに含み、前記第2自由磁性層と第2固定磁性層との間には第3非磁性層をさらに含み、
前記第2固定磁性層は前記第1固定磁性層と反対になる固定磁化方向を有し、膜面に対して垂直方向に磁化される物質から形成された薄膜であることを特徴とする請求項1に記載の磁気メモリ素子。 - 前記水平方向に磁化される物質の飽和磁化値は300−2000kA/mであることを特徴とする請求項1に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第1固定磁性層及び第2固定磁性層は各々独立的にFe、Co、Ni、B、Si、Zr、Pt、Pd、及びこれらの混合物の中から選択された物質から形成されたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第1固定磁性層及び第2固定磁性層はX層及びY層から形成された2重層がn個積層されて形成された多層薄膜(n≧1)であり、前記X層及びY層は各々独立的にFe、Co、Ni、B、Si、Tb、Zr、Pt、Pd、及びこれらの混合物の中から選択された物質から形成されたことを特徴とする請求項4に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第1固定磁性層及び第2固定磁性層の全て又はこの中のいずれか1つは第1磁性層、非磁性層及び第2磁性層から形成された反磁性体構造素子であって、
前記第1磁性層及び第2磁性層は各々独立的にFe、Co、Ni、B、Si、Zr、Pt、Pd、及びこれらの混合物の中から選択された物質から形成されたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気メモリ素子。 - 前記第1磁性層及び第2磁性層の中で少なくとも1つ以上はX層及びY層から形成された2重層がn個積層されて形成された多層薄膜(n≧1)であり、前記X層及びY層は各々独立的にFe、Co、Ni、B、Si、Zr、Pt、Pd、及びこれらの混合物の中から選択された物質から形成されたことを特徴とする請求項6に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第1固定磁性層及び第2固定磁性層全て又はこの中でいずれか1つは反強磁性層、第1磁性層、非磁性層、及び第2磁性層から形成された交換バイアスされた反磁性体構造素子であって、
前記反強磁性層はIr、Pt、Mn、及びこれらの混合物の中から選択された物質から形成され、
前記第1磁性層及び第2磁性層は各々独立的にFe、Co、Ni、B、Si、Zr、Pt、Pd、及びこれらの混合物の中から選択された物質から形成されたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気メモリ素子。 - 前記第1磁性層及び第2磁性層の中の少なくとも1つ以上はX層及びY層から形成された2重層がn個積層されて形成された多層薄膜(n≧1)であり、前記X層及びY層は各々独立的にFe、Co、Ni、B、Si、Zr、Pt、Pd、及びこれらの混合物の中から選択された物質から形成されたことを特徴とする請求項8に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第1固定磁性層及び第2固定磁性層は互いに異なる物質から形成され、互いに異なる多層薄膜構造であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第1自由磁性層はFe、Co、Ni、B、Si、Zr、Pt、Pd、及びこれらの混合物の中から選択された物質から形成されたことを特徴とする請求項1に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第1自由磁性層はFe、Co、Ni、B、Si、Zr、Pt、Pd、及びこれらの混合物の中から選択される物質から形成された層と、X層及びY層から形成された2重層がn個積層されて形成された層(n≧1)と、から形成された多層薄膜であり、前記X層及びY層は各々独立的にFe、Co、Ni、B、Si、Zr、Pt、及びPdの中から選択された物質から形成されたことを特徴とする請求項1に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第2自由磁性層はFe、Co、Ni、B、Si、Zr、及びこれらの混合物の中から選択された物質から形成されたことを特徴とする請求項1に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第1非磁性層、第2非磁性層、及び第3非磁性層は互いに異なる物質から形成され、各々独立的にRu、Cu、Al、Ta、Au、Ag、AlOx、MgO、TaOx、ZrOx、及びこれらの混合物の中から選択された物質から形成されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第1非磁性層、第2非磁性層、及び第3非磁性層は前記第1固定磁性層、第1自由磁性層、第2自由磁性層、及び第2固定磁性層より電気伝導度が高いことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気メモリ素子。
- 前記第1非磁性層、第2非磁性層、及び第3非磁性層は前記第1固定磁性層、第1自由磁性層、第2自由磁性層、及び第2固定磁性層より電気伝導度が低いことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気メモリ素子。
- 前記磁気メモリ素子は素子に電流を供給する上部電極と下部電極とをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の磁気メモリ素子。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110044587A KR101195041B1 (ko) | 2011-05-12 | 2011-05-12 | 자기 공명 세차 현상을 이용한 스핀전달토크 자기 메모리 소자 |
KR10-2011-0044587 | 2011-05-12 | ||
PCT/KR2012/003345 WO2012153926A2 (ko) | 2011-05-12 | 2012-04-30 | 자기 공명 세차 현상과 이중 스핀 필터 효과를 이용한 스핀전달토크 자기 메모리 소자 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014517516A true JP2014517516A (ja) | 2014-07-17 |
JP2014517516A5 JP2014517516A5 (ja) | 2015-03-12 |
JP6028018B2 JP6028018B2 (ja) | 2016-11-16 |
Family
ID=47139766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014510243A Active JP6028018B2 (ja) | 2011-05-12 | 2012-04-30 | 磁気共鳴歳差現象と2重スピンフィルター効果とを利用するスピン伝達トルク磁気メモリ素子 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20140159175A1 (ja) |
JP (1) | JP6028018B2 (ja) |
KR (1) | KR101195041B1 (ja) |
WO (1) | WO2012153926A2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013115300A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Sony Corp | 記憶素子、記憶装置 |
JP2015525426A (ja) * | 2012-05-31 | 2015-09-03 | ノースロップ グラマン システムズ コーポレイションNorthrop Grumman Systems Corporation | ジョセフソン磁気メモリセルシステム |
WO2017169291A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | ソニー株式会社 | 磁気抵抗素子、メモリ素子及び電子機器 |
KR20180018779A (ko) * | 2015-06-16 | 2018-02-21 | 스핀 트랜스퍼 테크놀로지스, 인크. | Mram용 세차 운동 스핀 전류 구조체 |
US10777736B2 (en) | 2015-07-30 | 2020-09-15 | Spin Memory, Inc. | Polishing stop layer(s) for processing arrays of semiconductor elements |
US11271149B2 (en) | 2017-02-28 | 2022-03-08 | Integrated Silicon Solution, (Cayman) Inc. | Precessional spin current structure with nonmagnetic insertion layer for MRAM |
US11355699B2 (en) | 2017-02-28 | 2022-06-07 | Integrated Silicon Solution, (Cayman) Inc. | Precessional spin current structure for MRAM |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6237162B2 (ja) * | 2013-11-27 | 2017-11-29 | 富士通株式会社 | 磁気抵抗メモリ素子および磁気抵抗メモリ |
JP6018599B2 (ja) * | 2014-03-20 | 2016-11-02 | 株式会社東芝 | 不揮発性記憶装置 |
KR20160019253A (ko) * | 2014-08-11 | 2016-02-19 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 전자 장치 |
WO2016148393A1 (ko) * | 2015-03-18 | 2016-09-22 | 한양대학교 산학협력단 | 메모리 소자 |
US10580964B2 (en) | 2015-03-18 | 2020-03-03 | Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University | Memory device |
WO2016148394A1 (ko) * | 2015-03-18 | 2016-09-22 | 한양대학교 산학협력단 | 메모리 소자 |
KR101698532B1 (ko) * | 2015-03-18 | 2017-01-20 | 한양대학교 산학협력단 | 메모리 소자 |
KR101721618B1 (ko) * | 2015-03-18 | 2017-03-30 | 한양대학교 산학협력단 | 메모리 소자 |
KR101756883B1 (ko) * | 2015-03-18 | 2017-07-12 | 한양대학교 산학협력단 | 메모리 소자 |
US10468590B2 (en) | 2015-04-21 | 2019-11-05 | Spin Memory, Inc. | High annealing temperature perpendicular magnetic anisotropy structure for magnetic random access memory |
US9728712B2 (en) | 2015-04-21 | 2017-08-08 | Spin Transfer Technologies, Inc. | Spin transfer torque structure for MRAM devices having a spin current injection capping layer |
US10134808B2 (en) | 2015-11-02 | 2018-11-20 | Qualcomm Incorporated | Magnetic tunnel junction (MTJ) devices with heterogeneous free layer structure, particularly suited for spin-torque-transfer (STT) magnetic random access memory (MRAM) (STT MRAM) |
US9741926B1 (en) | 2016-01-28 | 2017-08-22 | Spin Transfer Technologies, Inc. | Memory cell having magnetic tunnel junction and thermal stability enhancement layer |
US10332576B2 (en) * | 2017-06-07 | 2019-06-25 | International Business Machines Corporation | Magnetic exchange coupled MTJ free layer with double tunnel barriers having low switching current and high data retention |
US10510390B2 (en) * | 2017-06-07 | 2019-12-17 | International Business Machines Corporation | Magnetic exchange coupled MTJ free layer having low switching current and high data retention |
US10339993B1 (en) | 2017-12-30 | 2019-07-02 | Spin Memory, Inc. | Perpendicular magnetic tunnel junction device with skyrmionic assist layers for free layer switching |
US10468588B2 (en) | 2018-01-05 | 2019-11-05 | Spin Memory, Inc. | Perpendicular magnetic tunnel junction device with skyrmionic enhancement layers for the precessional spin current magnetic layer |
WO2019167197A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | Tdk株式会社 | スピン素子の安定化方法及びスピン素子の製造方法 |
US10686123B2 (en) * | 2018-08-16 | 2020-06-16 | International Business Machines Corporation | Multilayered magnetic free layer structure for spin-transfer torque (STT) MRAM |
US11195991B2 (en) * | 2018-09-27 | 2021-12-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Magnetic random access memory assisted devices and methods of making |
US10580827B1 (en) | 2018-11-16 | 2020-03-03 | Spin Memory, Inc. | Adjustable stabilizer/polarizer method for MRAM with enhanced stability and efficient switching |
US10811596B2 (en) | 2018-12-06 | 2020-10-20 | Sandisk Technologies Llc | Spin transfer torque MRAM with a spin torque oscillator stack and methods of making the same |
US10797227B2 (en) | 2018-12-06 | 2020-10-06 | Sandisk Technologies Llc | Spin-transfer torque MRAM with a negative magnetic anisotropy assist layer and methods of operating the same |
US10862022B2 (en) | 2018-12-06 | 2020-12-08 | Sandisk Technologies Llc | Spin-transfer torque MRAM with magnetically coupled assist layers and methods of operating the same |
KR20210040229A (ko) | 2019-10-02 | 2021-04-13 | 삼성전자주식회사 | 자기 기억 소자 |
GB2588151B (en) * | 2019-10-09 | 2022-05-04 | Huo Suguo | Hybrid perpendicular and in-plane STT-MRAM |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009231753A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Toshiba Corp | 磁気抵抗効果素子及び磁気ランダムアクセスメモリ |
JP2010016408A (ja) * | 2009-10-19 | 2010-01-21 | Toshiba Corp | 磁気抵抗素子及び磁気メモリ |
JP2012064863A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Toshiba Corp | 磁気記録素子および不揮発性記憶装置 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6765819B1 (en) * | 2002-07-25 | 2004-07-20 | Hewlett-Packard Development Company, Lp. | Magnetic memory device having improved switching characteristics |
KR100544690B1 (ko) * | 2003-04-25 | 2006-01-24 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 비휘발성 자기 메모리 셀, 동작 방법 및 이를 이용한다진법 비휘발성 초고집적 자기 메모리 |
US7573737B2 (en) | 2003-08-19 | 2009-08-11 | New York University | High speed low power magnetic devices based on current induced spin-momentum transfer |
US6937497B1 (en) * | 2004-11-18 | 2005-08-30 | Maglabs, Inc. | Magnetic random access memory with stacked toggle memory cells |
JP2007081280A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Fujitsu Ltd | 磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ装置 |
US20080246104A1 (en) * | 2007-02-12 | 2008-10-09 | Yadav Technology | High Capacity Low Cost Multi-State Magnetic Memory |
US7732881B2 (en) | 2006-11-01 | 2010-06-08 | Avalanche Technology, Inc. | Current-confined effect of magnetic nano-current-channel (NCC) for magnetic random access memory (MRAM) |
US20070297220A1 (en) * | 2006-06-22 | 2007-12-27 | Masatoshi Yoshikawa | Magnetoresistive element and magnetic memory |
JP4874884B2 (ja) * | 2007-07-11 | 2012-02-15 | 株式会社東芝 | 磁気記録素子及び磁気記録装置 |
WO2009020251A1 (en) | 2007-08-07 | 2009-02-12 | Chang Young Choi | Nonflammable paint composition |
US7982275B2 (en) * | 2007-08-22 | 2011-07-19 | Grandis Inc. | Magnetic element having low saturation magnetization |
US8154913B2 (en) | 2007-10-25 | 2012-04-10 | Nec Corporation | Magnetoresistance effect element and magnetic random access memory |
JP5370907B2 (ja) * | 2008-04-03 | 2013-12-18 | 日本電気株式会社 | 磁気抵抗効果素子、及び磁気ランダムアクセスメモリ |
US7985994B2 (en) * | 2008-09-29 | 2011-07-26 | Seagate Technology Llc | Flux-closed STRAM with electronically reflective insulative spacer |
KR101178767B1 (ko) | 2008-10-30 | 2012-09-07 | 한국과학기술연구원 | 이중 자기 이방성 자유층을 갖는 자기 터널 접합 구조 |
JP5514059B2 (ja) | 2010-09-17 | 2014-06-04 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子及び磁気ランダムアクセスメモリ |
JP5485846B2 (ja) | 2010-09-17 | 2014-05-07 | 富士通テン株式会社 | 情報記録装置 |
-
2011
- 2011-05-12 KR KR1020110044587A patent/KR101195041B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2012
- 2012-04-30 US US14/116,959 patent/US20140159175A1/en not_active Abandoned
- 2012-04-30 WO PCT/KR2012/003345 patent/WO2012153926A2/ko active Application Filing
- 2012-04-30 JP JP2014510243A patent/JP6028018B2/ja active Active
-
2015
- 2015-07-30 US US14/814,163 patent/US9478729B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009231753A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Toshiba Corp | 磁気抵抗効果素子及び磁気ランダムアクセスメモリ |
JP2010016408A (ja) * | 2009-10-19 | 2010-01-21 | Toshiba Corp | 磁気抵抗素子及び磁気メモリ |
JP2012064863A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Toshiba Corp | 磁気記録素子および不揮発性記憶装置 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013115300A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Sony Corp | 記憶素子、記憶装置 |
JP2015525426A (ja) * | 2012-05-31 | 2015-09-03 | ノースロップ グラマン システムズ コーポレイションNorthrop Grumman Systems Corporation | ジョセフソン磁気メモリセルシステム |
KR20180018779A (ko) * | 2015-06-16 | 2018-02-21 | 스핀 트랜스퍼 테크놀로지스, 인크. | Mram용 세차 운동 스핀 전류 구조체 |
JP2018522409A (ja) * | 2015-06-16 | 2018-08-09 | スピン トランスファー テクノロジーズ インク | Mramのための歳差スピン電流構造 |
KR102479222B1 (ko) * | 2015-06-16 | 2022-12-19 | 인테그레이티드 실리콘 솔루션, (케이만) 인코포레이티드 | Mram용 세차 운동 스핀 전류 구조체 |
US10777736B2 (en) | 2015-07-30 | 2020-09-15 | Spin Memory, Inc. | Polishing stop layer(s) for processing arrays of semiconductor elements |
WO2017169291A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | ソニー株式会社 | 磁気抵抗素子、メモリ素子及び電子機器 |
JPWO2017169291A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2019-02-07 | ソニー株式会社 | 磁気抵抗素子、メモリ素子及び電子機器 |
US11271149B2 (en) | 2017-02-28 | 2022-03-08 | Integrated Silicon Solution, (Cayman) Inc. | Precessional spin current structure with nonmagnetic insertion layer for MRAM |
US11355699B2 (en) | 2017-02-28 | 2022-06-07 | Integrated Silicon Solution, (Cayman) Inc. | Precessional spin current structure for MRAM |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012153926A2 (ko) | 2012-11-15 |
US20140159175A1 (en) | 2014-06-12 |
KR101195041B1 (ko) | 2012-10-31 |
WO2012153926A3 (ko) | 2013-01-17 |
JP6028018B2 (ja) | 2016-11-16 |
US9478729B2 (en) | 2016-10-25 |
US20150340595A1 (en) | 2015-11-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6028018B2 (ja) | 磁気共鳴歳差現象と2重スピンフィルター効果とを利用するスピン伝達トルク磁気メモリ素子 | |
JP5514059B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子及び磁気ランダムアクセスメモリ | |
JP4250644B2 (ja) | 磁気記憶素子およびこの磁気記憶素子を備えた磁気メモリならびに磁気メモリの駆動方法 | |
JP5414681B2 (ja) | 電流によって誘起されるスピン運動量移動に基づいた、高速かつ低電力な磁気デバイス | |
KR101683440B1 (ko) | 자기 메모리 소자 | |
JP6219395B2 (ja) | 面内電流と電場を利用した磁気メモリ素子 | |
JP5847190B2 (ja) | 双極性スピン転移反転 | |
JP2012059906A (ja) | 記憶素子、メモリ装置 | |
JP2012059808A (ja) | 記憶素子、メモリ装置 | |
JP5062538B2 (ja) | 磁気メモリー素子、その駆動方法及び不揮発性記憶装置 | |
JP2012064623A (ja) | 記憶素子、メモリ装置 | |
JPWO2012004883A1 (ja) | 磁気抵抗効果素子及びそれを用いたランダムアクセスメモリ | |
TW201250681A (en) | Multibit cell with synthetic storage layer | |
TWI422083B (zh) | Magnetic memory lattice and magnetic random access memory | |
JP5034317B2 (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP5742142B2 (ja) | 記憶素子、メモリ装置 | |
CN102385923A (zh) | 存储元件和存储设备 | |
KR101375871B1 (ko) | 자기 공명과 이중 스핀필터 효과를 이용한 스핀전달토크 자기 메모리 소자 | |
JP5151503B2 (ja) | 磁気デバイス及び磁気メモリ | |
JP2018014376A (ja) | 双極性電圧書き込み型磁気メモリ素子 | |
KR101368298B1 (ko) | 스핀전달토크현상을 이용한 고주파 마이크로 웨이브 및 고주파 자기장 생성 소자 | |
JP2007027197A (ja) | 記憶素子 | |
JP4970407B2 (ja) | 磁気記憶素子およびこの磁気記憶素子を備えた磁気メモリならびに磁気メモリの駆動方法 | |
JP2007027196A (ja) | 記憶素子 | |
TW202333387A (zh) | 磁阻元件及磁性記憶體 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20141127 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20141127 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20141226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150116 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150116 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160307 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160510 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160916 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161017 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6028018 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |