JP2014517349A5 - - Google Patents

Claims (14)

1. 物体視野（４）を像視野（８）に結像するための結像光学ユニット（７；１７；２８；５０；５３；５６；５９）であって、
   前記物体視野（４）と前記像視野（８）の間の結像ビーム経路（２７；ＡＳ）が、複数の部分結像ビーム経路（２２，２３；ＴＡＳ）に再分割され、
   結像光学ユニット（７；１７；２８；５０；５３；５６；５９）は、前記部分結像ビーム経路（２２，２３；ＴＡＳ）が、互いから完全に分離される方式、及び結像光学ユニット（７；１７；２８；５０；５３；５６；５９）の光学構成要素（１８，１９；Ｍ１からＭ６；ＧＩ，Ｍ１からＭ６）によって誘導される方式で前記物体視野（４）と前記像視野（８）の間で延びるように、すなわち、該物体視野（４）と該像視野（８）の間の前記ビーム経路内のいかなる場所においても、該部分結像ビーム経路（２２，２３，ＴＡＳ）が、結像光学ユニット（７；１７；２８；５０；５３；５６；５９）のビーム誘導面（２０）の同一領域上に当たらないように具現化される、
   ことを特徴とする結像光学ユニット。
2. 前記部分結像ビーム経路（２２，２３；ＴＡＳ）を誘導する部分光学ユニット（２９，３０；５１，５２；５４，５５；５７，５８）の少なくとも２つの互いに分離された部分瞳（３３から３６；４１から４９）を特徴とする請求項１に記載の結像光学ユニット。
3. 前記部分結像ビーム経路（ＴＡＳ）を誘導する結像光学ユニットの前記部分光学ユニット（２９，３０；５１，５２；５４，５５；５７，５８）の前記部分瞳（３３から３６；４１から４９）は、前記瞳（３２；４０）と垂直に延びる中心光軸（ｏＡ）に関する多重対称性を伴って結像光学ユニットの瞳（３２；４０）に配置されることを特徴とする請求項１及び請求項２に記載の結像光学ユニット。
4. 前記部分光学ユニット（２９，３０；５１，５２；５４，５５；５７，５８）は、前記光軸（ｏＡ）に関する多重対称性を伴って配置されることを特徴とする請求項３に記載の結像光学ユニット。
5. 結像光学ユニットの前記光学構成要素（１８，１９；Ｍ１からＭ６）は、前記光軸（ｏＡ）が延びる鏡面対称平面（ＳＥ）に関する鏡像反転によって互いに移行を行うことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の結像光学ユニット。
6. ２つの部分光学ユニット（１８，１９；２９，３０；５１，５２）の前記光学構成要素（１８，１９；Ｍ１からＭ６）の各々が、前記光軸（ｏＡ）が延びる半空間分離平面（ＨＴ）によって互いから分離された２つの半空間（３８，３９）の一方にそれぞれ完全に配置されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の結像光学ユニット。
7. 前記部分光学ユニット（５３，５４；５７，５８）のうちの少なくとも１つの前記光学構成要素（ＭｌからＭ６；ＧＩ，ＭｌからＭ６）は、前記半空間分離平面（ＨＴ）によって互いから分離された両方の半空間（３８，３９）に分散方式で配置されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の結像光学ユニット。
8. 前記物体側において、結像光学ユニット（５６）の少なくとも２つの部分光学ユニット（５７，５８）の前記部分結像ビーム経路（ＴＡＳ）は、
   中心物体視野点から進み、
   半空間分離平面（ＨＴ）と垂直に拡がる子午平面（ｙｚ）内で進み、
   同じ半空間（３８）内で進む、
   主光線（ＨＳ１，ＨＳ２）を有する、
   ことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の結像光学ユニット。
9. 前記部分光学ユニット（２９，３０；５１，５２；５４，５５；５７，５８）の少なくとも１つが、０．２の像側開口数を有することを特徴とする請求項２から請求項８のいずれか１項に記載の結像光学ユニット。
10. 反射光学ユニットとして具現化されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の結像光学ユニット。
11. 前記光学構成要素（６０）の少なくとも１つが、モノリシックな方式で具現化され、かつそれぞれの部分結像ビーム経路（ＴＡＳ）を誘導するための少なくとも２つの互いに分離されたビーム誘導領域（６１，６２）を有することを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の結像光学ユニット。
12. 物体視野（４）を照明するための照明光学ユニット（６）を含み、
    請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の結像光学ユニットを含む、
    ことを特徴とする光学系。
13. 請求項１２に記載の光学系を含み、
    光源（２）を含み、
    物体ホルダ（１１）を含み、
    像ホルダ（１３）を含む、
    ことを特徴とする投影露光装置（１）。
14. パターン付き構成要素を生成する方法であって、
    レチクル（１０）及びウェーハ（１２）を与える段階と、
    請求項１３に記載の投影露光装置を用いて前記レチクル（１０）上の構造を前記ウェーハ（１２）の感光層上に投影する段階と、
    前記ウェーハ（１２）上に微細又はナノ構造を生成する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。