JP2010541292A5

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Publication number: JP2010541292A5
Application number: JP2010528290A
Authority: JP
Filing date: 2008-09-29
Publication date: 2011-10-20
Anticipated expiration: 2028-09-29

Claims

ａ）マスク平面（３６；１３６）に投影光の強度分布を生成する１次照明系（１２）、
ｂ）投影対物系（２０；１２０）、及び
ｃ）基準面（４８；１４８）に補正光の強度分布を生成する２次照明系（３０，３０’，３０’’，３０’’’）と、
前記基準面（４８；１４８）内の補正光の強度分布が、補正要素（３２；１３２）上に結像され、前記補正光及び前記投影光が、それらが補正要素（３２；１３２）上に入射する前に前記投影対物系（２０；１２０）に含まれる少なくとも１つのレンズ（３４；Ｌ１からＬ５）を通過するように、前記基準面（４８；１４８）と少なくとも実質的に光学的に共役である平面（３８；１７４）に配置され、かつ加熱材料を含む補正要素（３２；１３２）と、
を含む補正光学系、
を含み、
前記補正光と前記投影光の両方が通過する全てのレンズ（３４；Ｌ１からＬ５）が、前記補正要素（３２；１３２）に含有された前記加熱材料よりも低い該補正光に対する吸収係数を有するレンズ材料で作られる、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置（１０）。
前記補正光に対して、前記加熱材料の前記吸収係数は、前記レンズ材料の間で最も高い吸収係数を有するレンズ材料の吸収係数よりも少なくともｋ＝２倍大きいことを特徴とする請求項１に記載の装置。
前記投影対物系（２０；１２０）の像平面（１２２）に配置される層（２２）が、前記投影光に対して感光性があるが、前記補正光に対してはそうではないことを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれか１項に記載の装置。
前記投影光及び前記補正光は、異なる波長を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の装置。
ａ）前記加熱材料は、合成石英ガラスであり、前記レンズ材料は、全てフッ化カルシウムであり、
ｂ）前記投影光は、２５０ｎｍよりも短い波長を有し、
ｃ）前記補正光は、２．６５μｍと２．８５μｍの間の波長を有する光成分を含有し、
ｄ）前記合成石英ガラスは、５００ｐｐｍよりも大きいＯＨ濃度を有する、
ことを特徴とする請求項４に記載の装置。
前記補正要素（３２；１３２）は、平行平面プレートとして構成された基板を含む屈折光学要素であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の装置。
前記補正要素（３２；１３２）は、前記投影対物系（２０；１２０）の瞳平面（３８；１７４）に又はそれに近接して配置され、
前記近接性は、比Ｐ＝ｈ_mr／ｈ_cr＞３である前記瞳平面（３８；１７４）からの軸線方向距離によって定められ、ｈ_mrは、光軸上の点から出射する周辺光線の高さであり、ｈ_crは、周辺像点上に入射する主光線の高さであることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の装置。
前記補正光学系は、補正光のみが伝播することを許されるコンデンサー（５６；１５６）を含むことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の装置。
前記コンデンサー（５６；１５６）は、前記基準面（４８；１４８）と、前記マスク平面（３６；１３６）又は該マスク平面と光学的に共役な平面との間にフーリエ関係を確立することを特徴とする請求項８に記載の装置。
前記補正光学系は、前記補正光を前記投影対物系（１２０）のビーム経路内に給送するビーム折り返し要素（１９２）を含むことを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の装置。
前記ビーム折り返し要素（１９２）は、ミラー又はプリズムを含むことを特徴とする請求項１０に記載の装置。
前記補正光学系は、前記基準面（４８；１４８）における前記強度分布を変更するように構成された空間光変調器（６４；６４’；６４’’；６４’’’）を含むことを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の装置。
前記補正光学系は、少なくとも実質的に前記基準面（４８）に配置された光出射面を有する光学インテグレータ−（６８）を含むことを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の装置。
マイクロリソグラフィ投影露光装置（１０）における像誤差を補正する方法であって、
ａ）基準面（４８；１４８）に補正光の強度分布を生成する段階、及び
ｂ）装置（１０）の投影対物系（２０；１２０）に含まれる補正要素（３２；１３２）上に前記基準面（４８；１４８）を結像させる段階、
を含み、
前記補正光及び投影光が、それらが前記補正要素（３２；１３２）上に入射する前に前記投影対物系（２０；１２０）に含まれる少なくとも１つのレンズ（３４；Ｌ２からＬ５）を通過し、
前記補正光は、該補正光と前記投影光の両方が通過する前記レンズ（３４；Ｌ１からＬ５）のいずれよりも前記補正要素（３２；１３２）においてより強く吸収される、
ことを特徴とする方法。
前記基準面（４８；１４８）における前記強度分布は、変更されることを特徴とする請求項１４に記載の方法。