JP2010096866A5

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Publication number: JP2010096866A5
Application number: JP2008265715A
Authority: JP
Filing date: 2008-10-14
Publication date: 2011-12-01
Anticipated expiration: 2028-10-14

Claims

物体面のパターンを像面に投影する投影光学系であって、
紫外線の照射により屈折率が不可逆的に上昇する第１のレンズと、
前記紫外線の照射により屈折率が不可逆的に低下する第２のレンズと、
を有し、
前記物体面と前記投影光学系の光軸との交点である第１の交点と、前記像面と前記投影光学系の光軸との交点である第２の交点との間の距離をＴＴとした場合に、
前記第１のレンズの前記投影光学系の光軸における厚さの中心位置である第１の中心位置と、前記第１の交点及び前記第２の交点のうち前記第１の中心位置に近い交点の交点位置との間の距離Ｄ１は、
Ｄ１ ≦ ＴＴ／８
を満たし、
前記第２のレンズの前記投影光学系の光軸における厚さの中心位置である第２の中心位置と、前記交点位置との間の距離Ｄ２は、
Ｄ２ ≦ ＴＴ／８
を満たすことを特徴とする投影光学系。
物体面のパターンを像面に投影する投影光学系であって、
紫外線の照射により屈折率が不可逆的に上昇する第１のレンズと、
前記紫外線の照射により屈折率が不可逆的に低下する第２のレンズと、
を有し、
前記物体面と前記像面との間に少なくとも１つの中間像を形成し、
前記物体面と前記投影光学系の光軸との交点である第１の交点と、前記像面と前記投影光学系の光軸との交点である第２の交点との間の距離をＴＴとした場合に、
前記第１のレンズの前記投影光学系の光軸における厚さの中心位置である第１の中心位置と、前記第１の中心位置と最短となる中間像位置との間の距離ＤＣ１は、
ＤＣ１ ≦ ＴＴ／６
を満たし、
前記第２のレンズの前記投影光学系の光軸における厚さの中心位置である第２の中心位置と、前記中間像位置との距離ＤＣ２は、
ＤＣ２ ≦ ＴＴ／６
を満たすことを特徴とする投影光学系。
物体面のパターンを像面に投影する投影光学系であって、
紫外線の照射により屈折率が不可逆的に上昇する第１のレンズと、
前記紫外線の照射により屈折率が不可逆的に低下する第２のレンズと、
を有し、
前記物体面と前記像面との間に少なくとも１つの瞳を有し、
前記物体面と前記投影光学系の光軸との交点である第１の交点と、前記像面と前記投影光学系の光軸との交点である第２の交点との間の距離をＴＴとした場合に、
前記第１のレンズの前記投影光学系の光軸における厚さの中心位置である第１の中心位置と、前記第１の中心位置と最短となる瞳位置との間の距離ＤＰ１は、
ＤＰ１ ≦ ＴＴ／８
を満たし、
前記第２のレンズの前記投影光学系の光軸における厚さの中心位置である第２の中心位置と、前記瞳位置との距離ＤＰ２は、
ＤＰ２ ≦ ＴＴ／８
を満たすことを特徴とする投影光学系。
物体面のパターンを像面に投影する投影光学系であって、
紫外線の照射により屈折率が不可逆的に上昇する第１のレンズと、
前記紫外線の照射により屈折率が不可逆的に低下する第２のレンズと、
を有し、
前記物体面と前記投影光学系の光軸との交点である第１の交点と、前記像面と前記投影光学系の光軸との交点である第２の交点との間の距離をＴＴとした場合に、
前記第１のレンズの前記投影光学系の光軸における厚さの中心位置である第１の中心位置と、前記第１の中心位置と最短となる前記投影光学系のウエスト位置との間の距離ＤＷ１は、
ＤＷ１ ≦ ＴＴ／１１
を満たし、
前記第２のレンズの前記投影光学系の光軸における厚さの中心位置である第２の中心位置と、前記ウエスト位置との間の距離ＤＷ２は、
ＤＷ２ ≦ ＴＴ／１１
を満たし、
前記ウエスト位置は、前記投影光学系を構成する複数のレンズのレンズ面のうち最軸外主光線と前記投影光学系の光軸との距離が最大となるレンズ面と前記投影光学系の瞳との間において、有効領域が最小となるレンズ面の前記投影光学系の光軸との交点の位置であることを特徴とする投影光学系。
物体面のパターンを像面に投影する投影光学系であって、
紫外線の照射により屈折率が不可逆的に上昇する第１のレンズと、
前記紫外線の照射により屈折率が不可逆的に低下する第２のレンズと、
を有し、
前記第１のレンズと前記第２のレンズとが接合されていることを特徴とする投影光学系。
前記第２のレンズは、前記第１のレンズの主成分を含む硝材で構成されることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の投影光学系。
前記第１のレンズと前記第２のレンズとが隣接していることを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の投影光学系。
前記第１のレンズと前記第２のレンズとが接合されていることを特徴とする請求項７に記載の投影光学系。
前記第１のレンズ及び前記第２のレンズは、合成石英ガラスで構成されていることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の投影光学系。
前記第１のレンズ及び前記第２のレンズの少なくとも一方はＯＨ基を含み、
前記第１のレンズと前記第２のレンズとは、互いに異なるＯＨ基濃度を有することを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の投影光学系。
前記第１のレンズ及び前記第２のレンズの少なくとも一方は水素分子を含み、
前記第１のレンズと前記第２のレンズとは、互いに異なる水素分子濃度を有することを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の投影光学系。
前記第１のレンズと前記第２のレンズとは、オプティカルコンタクトによって接合されていることを特徴とする請求項５又は８に記載の投影光学系。
前記第１のレンズと前記第２のレンズとは、接着剤によって接合されていることを特徴とする請求項５又は８に記載の投影光学系。
光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、
前記レチクルのパターンを基板に投影する請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の投影光学系と、
を有することを特徴とする露光装置。
請求項１４に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。