JP2014239187A5 - - Google Patents
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Description
本発明の一観点によれば、第1面と前記第1面とは反対側の第2面との間を貫通する開口部を有するコア部と、前記コア部の第1面に形成された第1配線層と、前記コア部の第2面に形成された第2配線層と、前記開口部内に配置されるとともに、前記コア部の第1面より前記第2面とは反対側の第1方向に向かって一部が突出された電子部品と、前記開口部内の一部に形成され、前記電子部品の側面の少なくとも一部を被覆するとともに前記コア部の第1面を被覆する第1絶縁層と、前記第1絶縁層の第1面を被覆する第2絶縁層と、前記第1絶縁層から露出された前記開口部内を充填するとともに、前記コア部の第2面を被覆する第3絶縁層と、前記第2絶縁層上に形成され、少なくとも前記第2絶縁層を貫通する第1ビア配線を介して前記電子部品と電気的に接続される第3配線層と、前記第3絶縁層上に形成され、前記第3絶縁層を貫通する第2ビア配線を介して前記第2配線層と電気的に接続される第4配線層と、を有し、前記第1配線層上に形成された前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層の厚さと、前記第2配線層上に形成された前記第3絶縁層の厚さとが等しくなるように設定されている。
Claims (9)
- 第1面と前記第1面とは反対側の第2面との間を貫通する開口部を有するコア部と、
前記コア部の第1面に形成された第1配線層と、
前記コア部の第2面に形成された第2配線層と、
前記開口部内に配置されるとともに、前記コア部の第1面より前記第2面とは反対側の第1方向に向かって一部が突出された電子部品と、
前記開口部内の一部に形成され、前記電子部品の側面の少なくとも一部を被覆するとともに前記コア部の第1面を被覆する第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の第1面を被覆する第2絶縁層と、
前記第1絶縁層から露出された前記開口部内を充填するとともに、前記コア部の第2面を被覆する第3絶縁層と、
前記第2絶縁層上に形成され、少なくとも前記第2絶縁層を貫通する第1ビア配線を介して前記電子部品と電気的に接続される第3配線層と、
前記第3絶縁層上に形成され、前記第3絶縁層を貫通する第2ビア配線を介して前記第2配線層と電気的に接続される第4配線層と、を有し、
前記第1配線層上に形成された前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層の厚さと、前記第2配線層上に形成された前記第3絶縁層の厚さとが等しくなるように設定されていることを特徴とする配線基板。 - 第1面と前記第1面とは反対側の第2面との間を貫通する開口部を有するコア部と、
前記コア部の第1面に形成された第1配線層と、
前記コア部の第2面に形成された第2配線層と、
前記開口部内に配置されるとともに、前記コア部の第1面より前記第2面とは反対側の第1方向に向かって一部が突出された電子部品と、
前記開口部内の一部に形成され、前記電子部品の側面の少なくとも一部を被覆するとともに前記コア部の第1面を被覆する第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の第1面と前記第1配線層の第1面とを被覆する第2絶縁層と、
前記第1絶縁層から露出された前記開口部内を充填するとともに、前記コア部の第2面と前記第2配線層の第2面及び側面とを被覆する第3絶縁層と、
前記第2絶縁層の第1面上に形成され、前記第2絶縁層を貫通する第1ビア配線を介して前記電子部品の接続端子の第1面と電気的に接続される第3配線層と、
前記第3絶縁層の第2面上に形成され、前記第3絶縁層を貫通する第2ビア配線を介して前記第2配線層と電気的に接続される第4配線層と、を有し、
前記第1絶縁層の第1面と、前記接続端子の第1面と、前記第1配線層の第1面とが同一平面上に形成され、
前記第1配線層の第1面から前記第2絶縁層の第1面までの厚さと、前記第2配線層の第2面から前記第3絶縁層の第2面までの厚さとが等しくなるように設定されていることを特徴とする配線基板。 - 前記第1絶縁層は、前記コア部の第1面よりも前記第1方向に突出された前記電子部品の側面全面を被覆することを特徴とする請求項1又は2に記載の配線基板。
- 前記コア部の第1面よりも前記第1方向に突出された前記電子部品の接続端子の第1面が前記第1絶縁層の第1面と面一になるように形成され、
前記接続端子の第1面は前記第2絶縁層に被覆されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の配線基板。 - 前記第1絶縁層は、前記開口部内に配置された前記電子部品の全面を被覆することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の配線基板。
- 第1面と前記第1面とは反対側の第2面とを有し、前記第1面に形成された第1配線層と前記第2面に形成された第2配線層とを有するコア部に、前記第1面と前記第2面との間を貫通する開口部を形成する工程と、
前記開口部を覆う粘着性を有する第1絶縁層とテープ基材とを含むテープの前記第1絶縁層を前記コア部の第1面側に貼着する工程と、
前記開口部に露出された前記第1絶縁層上に電子部品を配置する工程と、
前記電子部品及び前記コア部を前記第1絶縁層に対して押圧して前記コア部の一部を前記第1絶縁層に埋設し、前記電子部品の側面の少なくとも一部を被覆するように前記第1絶縁層を前記開口部内の一部に形成するとともに、前記第1絶縁層によって前記コア部の第1面を被覆する工程と、
前記テープ基材を剥離する工程と、
前記コア部の第1面側に形成された前記第1絶縁層の第1面を被覆する第2絶縁層を形成するとともに、前記第1絶縁層から露出された前記開口部内を充填し、前記コア部の第2面を被覆する第3絶縁層を形成する工程と、
少なくとも前記第2絶縁層を貫通して前記電子部品を露出する第1貫通孔を形成するとともに、前記第3絶縁層を貫通して前記第2配線層を露出する第2貫通孔を形成する工程と、
前記第1貫通孔に第1ビア配線を形成し、前記第2絶縁層上に前記第1ビア配線を介して前記電子部品と電気的に接続される第3配線層を形成するとともに、前記第2貫通孔に第2ビア配線を形成し、前記第3絶縁層上に前記第2ビア配線を介して前記第2配線層と電気的に接続される第4配線層を形成する工程と、
を有し、
前記第2絶縁層及び前記第3絶縁層を形成する工程では、前記第1配線層上に形成された前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層の厚さと、前記第2配線層上に形成された前記第3絶縁層の厚さとが等しくなるように、前記第2絶縁層と前記第3絶縁層の厚さが設定されることを特徴とする配線基板の製造方法。 - 第1面と前記第1面とは反対側の第2面とを有し、前記第1面に形成された第1配線層と前記第2面に形成された第2配線層とを有するコア部に、前記第1面と前記第2面との間を貫通する開口部を形成する工程と、
前記開口部を覆う粘着性を有する第1絶縁層とテープ基材とを含むテープの前記第1絶縁層を前記コア部の第1面側に貼着する工程と、
前記開口部に露出された前記第1絶縁層上に電子部品を配置する工程と、
前記電子部品及び前記コア部を前記第1絶縁層に対して押圧して、前記電子部品の接続端子の第1面及び前記第1配線層の第1面が前記テープ基材に接触するまで前記電子部品及び前記コア部を前記第1絶縁層に埋設し、前記電子部品の側面の少なくとも一部を被覆するように前記第1絶縁層を前記開口部内の一部に形成するとともに、前記第1絶縁層によって前記コア部の第1面を被覆する工程と、
前記テープ基材を剥離する工程と、
前記コア部の第1面側に形成された前記第1絶縁層の第1面と前記接続端子の第1面と前記第1配線層の第1面とを被覆する第2絶縁層を形成するとともに、前記第1絶縁層から露出された前記開口部内を充填し、前記コア部の第2面と前記第2配線層の第2面及び側面とを被覆する第3絶縁層を形成する工程と、
前記第2絶縁層を貫通して前記接続端子の第1面を露出する第1貫通孔を形成するとともに、前記第3絶縁層を貫通して前記第2配線層の第2面を露出する第2貫通孔を形成する工程と、
前記第1貫通孔に第1ビア配線を形成し、前記第2絶縁層の第1面上に前記第1ビア配線を介して前記接続端子と電気的に接続される第3配線層を形成するとともに、前記第2貫通孔に第2ビア配線を形成し、前記第3絶縁層の第2面上に前記第2ビア配線を介して前記第2配線層と電気的に接続される第4配線層を形成する工程と、
を有し、
前記第1絶縁層の第1面と、前記接続端子の第1面と、前記第1配線層の第1面とが同一平面上に形成され、
前記第2絶縁層及び前記第3絶縁層を形成する工程では、前記第1配線層の第1面から前記第2絶縁層の第1面までの厚さと、前記第2配線層の第2面から前記第3絶縁層の第2面までの厚さとが等しくなるように、前記第2絶縁層と前記第3絶縁層の厚さが設定されることを特徴とする配線基板の製造方法。 - 前記開口部内に前記第1絶縁層を形成する工程では、
前記電子部品の接続端子が前記テープ基材に接触するまで前記電子部品を前記第1絶縁層に埋設することを特徴とする請求項6に記載の配線基板の製造方法。 - 前記開口部内に前記第1絶縁層を形成する工程では、
前記開口部内に配置された前記電子部品の全面を被覆するように前記第1絶縁層が形成されることを特徴とする請求項6〜8のいずれか1つに記載の配線基板の製造方法。
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