JP2014175411A5 - - Google Patents
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Description
本発明の固体撮像装置の製造方法は、半導体基板の上面に複数の光電変換部が設けられた固体撮像装置の製造方法であって、前記半導体基板の上方に、前記複数の光電変換部における各光電変換部に対応し、それぞれが互いに接している複数のカラーフィルタ層を形成する工程と、前記複数のカラーフィルタ層の上に、ハードマスク層を形成する工程と、前記ハードマスク層の上に、第1の開口部を有するレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンに対して加熱処理を行って、前記第1の開口部よりも幅が小さい第2の開口部を有するエッチングマスクを形成する工程と、前記エッチングマスクをマスクとした第1のエッチングを行って、前記ハードマスク層における前記各カラーフィルタ層の境界部分の上方領域に開口を形成して、ハードマスクを形成する工程と、前記ハードマスクをマスクとした第2のエッチングを行って、前記複数のカラーフィルタ層の間に開口を形成する工程とを有する。
Claims (7)
- 半導体基板の上面に複数の光電変換部が設けられた固体撮像装置の製造方法であって、
前記半導体基板の上方に、前記複数の光電変換部における各光電変換部に対応し、それぞれが互いに接している複数のカラーフィルタ層を形成する工程と、
前記複数のカラーフィルタ層の上に、ハードマスク層を形成する工程と、
前記ハードマスク層の上に、第1の開口部を有するレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンに対して加熱処理を行って、前記第1の開口部よりも幅が小さい第2の開口部を有するエッチングマスクを形成する工程と、
前記エッチングマスクをマスクとした第1のエッチングを行って、前記ハードマスク層における前記各カラーフィルタ層の境界部分の上方領域に開口を形成して、ハードマスクを形成する工程と、
前記ハードマスクをマスクとした第2のエッチングを行って、前記複数のカラーフィルタ層の間に開口を形成する工程と
を有することを特徴とする固体撮像装置の製造方法。 - 前記複数のカラーフィルタ層の間に開口を形成する工程の後に、前記複数のカラーフィルタ層の間の開口を封止する封止層を形成して、エアーギャップを形成する工程を更に有することを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置の製造方法。
- 前記第2のエッチングによって、前記複数のカラーフィルタ層の間に開口が形成されるとともに、前記エッチングマスクが除去されることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像装置の製造方法。
- 前記ハードマスクと前記封止層は、同一材料、或いは、同一の屈折率を持つ材料であることを特徴とする請求項2に記載の固体撮像装置の製造方法。
- 前記ハードマスクと前記封止層は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、或いは、シリコン酸窒化物の材料からなることを特徴とする請求項2または4に記載の固体撮像装置の製造方法。
- 前記複数のカラーフィルタ層と前記ハードマスクとの間に、平坦化層を形成する工程を更に有し、
前記第2のエッチングによって、更に、前記平坦化層における前記複数のカラーフィルタ層の間の上方領域に開口が形成されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の固体撮像装置の製造方法。 - 前記エッチングマスクは、前記ハードマスクの上面上に形成されており、
前記エッチングマスクの端部の傾斜面における接線と前記ハードマスクの上面における接線との成す角度が、76°以上であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の固体撮像装置の製造方法。
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