JP2014175361A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板の処理に伴って発生した排気を内部で浄化でき、排気を洗浄する洗浄液の種類を排気に含まれる汚染物質の種類に応じて変更できる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、複数種の薬液の少なくとも一つを基板に供給する処理ユニット２と、排気に洗浄液を接触させることにより排気を浄化するスクラバー３とを含む。スクラバー３は、処理ユニット２で発生した薬液を含む排気を基板処理装置１の外に配置された排気設備の方に導く排気通路と、排気を浄化する複数種の洗浄液を排気通路内で個別に吐出できる吐出器とを含む。制御装置５は、排気に含まれる薬液の種類に基づいて複数種の洗浄液のいずれか一つを選択し、選択された洗浄液を吐出器から吐出させる。
【選択図】図１

Description

本発明は、薬液などの処理液を基板に供給する処理ユニットと、処理ユニットから排出された排気を洗浄するスクラバー（scrubber/気体洗浄装置）とを備える基板処理装置に関する。
処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。

半導体装置や液晶表示装置などの製造工程では、酸性またはアルカリ性の薬液や有機薬液（液状の有機溶剤）が基板の処理に使用されるので、薬液成分などの汚染物質を含む排気が発生する。このような排気は、スクラバーなどの排気を洗浄する装置によって汚染物質が除去された後、無害な状態で大気に放出される。
たとえば特許文献１には、基板を洗浄する洗浄装置と、洗浄された基板を有機溶剤を用いて乾燥させる乾燥機とを備え、乾燥機による乾燥処理で用いられた有機溶剤を除去する溶剤除去装置を内蔵する半導体製造装置が開示されている。乾燥処理で発生した排気に含まれる有機溶剤は、溶剤除去装置の蒸気ミスト噴射器から噴射された水のミストによって除去される。これにより、汚染物質を含む排気が浄化される。

特開２００９−２０６３０３号公報

洗浄液（scrubbing liquid）を用いて排気を浄化するウェットスクラバーは、排気と洗浄液との接触によって汚染物質を除去または中和することにより排気を浄化する。排気から汚染物質を効率的に除去するには、排気に含まれる汚染物質に特化した洗浄液を排気に接触させる必要がある。たとえば、アルカリ性の汚染物質が排気に含まれる場合には、中和反応を起こさせるために、酸性の洗浄液を排気に接触させることが好ましい。

半導体装置や液晶表示装置などの製造工程では、酸性薬液、アルカリ性薬液、および有機薬液などの複数種の薬液が同一の基板に供給される場合がある。また、一種類の薬液が基板に供給される場合でも、薬液の種類が処理の内容に応じて変更される場合もある。そのため、排気に含まれる汚染物質の種類が基板の処理中に変わる場合があるし、排気に含まれる汚染物質の種類が処理の内容に応じて変わる場合もある。

特許文献１では、排気に含まれる汚染物質が一種類（ＩＰＡ（イソプロピルアルコール））に限られているので、蒸気ミスト噴射器が一種類の洗浄液（水）しか噴射できなくても問題ないかもしれない。しかしながら、複数種の薬液が基板に供給される場合や、基板に供給される薬液の種類が処理の内容に応じて変更される場合には、基板の処理に伴って発生した排気を効率的に浄化できないおそれがある。

そこで、本発明の目的は、基板の処理に伴って発生した排気を内部で浄化でき、排気を洗浄する洗浄液の種類を排気に含まれる汚染物質の種類に応じて変更できる基板処理装置を提供することである。

前記目的を達成するための請求項１記載の発明は、複数種の薬液の少なくとも一つを基板に供給する処理ユニットと、前記処理ユニットで発生した薬液を含む排気を基板処理装置の外に配置された排気設備の方に導く排気通路と、前記排気を浄化する複数種の洗浄液を前記排気通路内で個別に吐出できる吐出器とを含み、前記排気通路内を流れる前記排気に洗浄液を接触させることにより、前記排気を浄化するスクラバーと、前記排気に含まれる薬液の種類に基づいて前記複数種の洗浄液のいずれか一つを選択し、選択された洗浄液を前記吐出器から吐出させる制御装置とを含む、基板処理装置である。吐出器は、洗浄液を噴霧することにより洗浄液を霧状にする噴霧器であってもよいし、複数の孔から洗浄液を連続的に吐出するシャワーヘッドであってもよい。

この構成によれば、複数種の薬液の少なくとも一つが基板に供給される。具体的には、処理ユニットは、二種類以上の薬液をそれぞれ異なる期間に基板に供給したり、複数種の薬液から選択された一種類の薬液を基板に供給したりする。したがって、排気に含まれる汚染物質（薬液成分など）の種類が基板の処理中に変わる場合があるし、排気に含まれる汚染物質の種類が処理の内容に応じて変わる場合もある。

処理ユニットで発生した薬液を含む排気は、スクラバーの排気通路によって、基板処理装置の外に向けて案内される。スクラバーの吐出器は、複数種の洗浄液を排気通路内で個別に吐出することができる。スクラバーは、洗浄液を吐出器によって排気通路内で吐出させることにより、排気通路内を流れる排気に洗浄液を接触させる。これにより、汚染物質が排気から除去され、浄化された排気が、基板処理装置の外に配置された排気設備に排出される。

排気に含まれる薬液の種類は、処理ユニットによって基板に供給される薬液の種類に応じて変化する。制御装置は、排気に含まれる薬液の種類に基づいて吐出器が吐出する洗浄液の種類を選択する。たとえば排気に含まれる汚染物質の種類が基板の処理中に変わる場合には、制御装置は、複数種の洗浄液をそれぞれ異なる期間に吐出器から吐出させる。また、排気に含まれる汚染物質の種類が処理の内容に応じて変わる場合には、制御装置は、洗浄液の種類を処理の内容ごとに変更する。

このように、制御装置は、基板に供給される薬液の種類に基づいて複数種の洗浄液のいずれか一つを選択するので、排気に含まれる汚染物質の種類が基板の処理中に変わる場合や、排気に含まれる汚染物質の種類が処理の内容に応じて変わる場合であっても、排気に含まれる汚染物質に特化した洗浄液を排気に接触させることができる。これにより、処理ユニットで発生した排気を基板処理装置内で浄化でき、排気に含まれる汚染物質の残留量を低減できる。

請求項２に記載の発明は、前記スクラバーは、前記排気通路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持するフィルターをさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、気体を通過させるスクラブフィルターが、排気通路に配置されている。吐出器が洗浄液を吐出すると、洗浄液を含む雰囲気がスクラブフィルターに付着する。そのため、スクラブフィルターの外表面やスクラブフィルターの内表面に洗浄液が保持される。基板処理装置の外に向かって排気通路内を流通方向に流れる排気は、スクラブフィルターの内部の空隙を通過する。

汚染物質を含む排気は、スクラブフィルターの内部を通過する際に、スクラブフィルターに保持されている洗浄液に接触する。洗浄液をスクラブフィルターに保持させることにより、排気通路内に存在する洗浄液の表面積が増加するので、排気と洗浄液との接触面積も増加する。これにより、汚染物質が排気から効率的に除去される。
請求項３に記載の発明は、前記吐出器は、前記スクラブフィルターに向けて洗浄液を吐出する、請求項２に記載の基板処理装置である。

この構成によれば、スクラブフィルターは、吐出器からの洗浄液が吹き付けられる。したがって、吐出器から吐出された洗浄液がスクラブフィルターに直接当たり、洗浄液がスクラブフィルターに確実に供給される。そのため、スクラブフィルターに保持される洗浄液の量が増加し、スクラブフィルターに保持されている洗浄液に排気が確実に接触する。これにより、排気に含まれる汚染物質の残留量がさらに低減され、排気の清浄度が高められる。

請求項４に記載の発明は、前記スクラバーは、前記吐出器およびスクラブフィルターよりも下流側で前記排気通路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、前記気体から液体成分を除去するミストフィルターをさらに含む、請求項２または３に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、気体を通過させると共に、気体から液体成分を除去するミストフィルターが、排気の流通方向における吐出器およびスクラブフィルターよりも下流側で排気通路に配置されている。したがって、洗浄液との接触によって汚染物質の残留量が低減された排気が、ミストフィルターを通過する。ミストフィルターを通過する排気は、洗浄液などの液体成分を含んでいる場合がある。このような液体成分は、ミストフィルターによって捕獲され、排気から除去される。したがって、汚染物質だけでなく、液体成分の残留量も基板処理装置の内部で低減される。

請求項５に記載の発明は、前記スクラバーは、前記排気通路内で開口する排液口に液体を吸引させることにより、前記排気通路内の液体を排出する排液装置を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、排液装置の吸引力が、排気通路内で開口する排液口に伝達され、排気通路内の液体が排液口に吸引される。これにより、排気通路内の液体が排出される。薬液を含む排気が排気通路に流入したり、吐出器が排気通路内で洗浄液を吐出したりするので、液滴が排気通路の内面に付着したり、液だまりが排気通路の底面（内面の底部）に形成されたりする場合がある。したがって、排液装置が排気通路内の液体を排出することにより、液体成分が排気に混入したり、種類の異なる洗浄液同士が排気通路内で接触したりすることを抑制または防止できる。そのため、排気通路内の清浄度を高めることができ、これによって、排気の清浄度をさらに高めることができる。

請求項６に記載の発明は、前記スクラバーは、前記排液口よりも上流側で前記排気通路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持するスクラブフィルターをさらに含み、前記排液装置は、前記排気通路内の液体が前記排液口に向かって流れるように、前記スクラブフィルターよりも上流側から前記スクラブフィルターの下方を通って前記排液口まで延びる排液路を含む、請求項５に記載の基板処理装置である。

この構成によれば、スクラブフィルターが、排液口よりも上流側に配置されている。排液装置は、スクラブフィルターと排気通路の底面との間の空間を通って、スクラブフィルターよりも上流側から排液口まで延びる排液路を有している。スクラブフィルターよりも上流側に存在する液体は、この排液路によって排液口の方に導かれる。したがって、排液装置は、排気通路内のより広い範囲から液体を集めることができ、これによって、排気通路内の液体の残留量を低減できる。

請求項７に記載の発明は、前記スクラバーは、前記排気通路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持するスクラブフィルターをさらに含み、前記吐出器は、洗浄液を常時吐出する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、洗浄液が吐出器から常時吐出される。すなわち、基板処理装置が稼働している間、吐出器が洗浄液を吐出し続ける。したがって、洗浄液がスクラブフィルターに保持されている状態が確実に維持される。そのため、排気通路内を流れる排気が、スクラブフィルターに保持されている洗浄液に確実に接触する。これにより、排気に含まれる汚染物質の残留量を低減できる。さらに、スクラブフィルターが乾くと、スクラブフィルターが気流に与える抵抗が小さくなるので、スクラブフィルターを濡れた状態に維持することにより、排気圧の変動を低減できる。これにより、スクラバーを介して排気設備から処理ユニットに伝達される排気圧を安定させることができる。

請求項８に記載の発明は、前記スクラバーは、前記排気通路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持するスクラブフィルターをさらに含み、前記吐出器は、洗浄液を間欠的に吐出する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、洗浄液が吐出器から間欠的に吐出される。そのため、洗浄液の消費量を低減できる。また、洗浄液が断続的にスクラブフィルターに供給されるので、スクラブフィルターが完全に乾くことを防止できる。したがって、洗浄液の消費量を低減しながら、排気を浄化でき、処理ユニットに伝達される排気圧を安定させることができる。

前記吐出器が洗浄液を間欠的に吐出する場合、前記吐出器が洗浄液を吐出する間隔（吐出が停止されてから再開されるまでの時間）は、予め定められた一定の間隔であってもよいし、排気通路内の気圧に基づいて設定される任意の間隔であってもよい。たとえば、請求項９に記載の発明のように、前記スクラバーは、前記排気通路内の気圧を検出する排気圧センサーをさらに含み、前記制御装置は、前記排気圧センサーの検出値に基づいて前記吐出器に洗浄液を間欠的に吐出させてもよい。

前述のように、スクラブフィルターが乾くと、スクラブフィルターの排気抵抗が小さくなるので、排気通路内の気圧が変化する。具体的には、スクラブフィルターよりも上流側の気圧が下がり、スクラブフィルターよりも下流側の気圧が上がる。言い換えると、スクラブフィルターよりも上流側の排気圧が強くなり（負圧の絶対値が大きくなり）、スクラブフィルターよりも下流側の排気圧が弱くなる（負圧の絶対値が小さくなる）。したがって、制御装置は、排気圧センサーの検出値に基づいて吐出器に洗浄液を間欠的に吐出させることにより、洗浄液の消費量を低減しながら、スクラブフィルターが十分に濡れている状態を維持できる。

請求項１０に記載の発明は、前記スクラバーは、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持する複数のスクラブフィルターと、前記複数のスクラブフィルターの状態を個別に切り替えるフィルター切替装置とをさらに含み、前記フィルター切替装置は、前記排気通路内の気体が前記スクラブフィルターを通過する除去状態と、前記スクラブフィルターに対する気体の通過が停止される除去停止状態との間で、前記複数のスクラブフィルターの状態を個別に切り替えるものであり、前記制御装置は、前記排気に含まれる薬液の種類に基づいて前記複数のスクラブフィルターのいずれか一つを選択し、選択された前記スクラブフィルターを前記排気が通過するように、前記複数のスクラブフィルターの状態を前記フィルター切替装置によって切り替えさせる、請求項１〜９のいずれか一項に記載の基板処理装置である。

この構成によれば、処理ユニットによって基板に供給される薬液の種類に基づいて複数のスクラブフィルターのいずれか一つが選択される。そして、処理ユニットで発生した薬液を含む排気が、選択されたスクラブフィルターを通過するように、フィルター切替装置が、複数のスクラブフィルターの状態を切り替える。たとえば、同じ薬液が基板に供給される場合には、排気が同じスクラブフィルターを通過するように個々のスクラブフィルターの状態が設定される。また、基板に供給される薬液の種類が変更されると、排気が通過するスクラブフィルターも変更される。したがって、処理ユニットで発生した薬液を含む排気は、薬液の種類ごとに設けられた専用のスクラブフィルターを通過する。そのため、複数の薬液が混合することによる予期しない反応を防止することができる。

請求項１１に記載の発明は、前記処理ユニットは、前記スクラバーよりも上流側に配置されており、前記処理ユニットで発生した排気から液体を除去する気液分離器を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、スクラバーよりも上流側に配置された気液分離器が、処理ユニットで発生した排気から液体を分離し、排気から液体成分を除去する。そして、気液分離器によって液体の含有量が低減された排気が、スクラバーに送られる。したがって、処理ユニットで発生した排気に薬液成分が含まれているとしても、薬液の含有量が気液分離器によって低減された状態で、排気がスクラバーに送られる。つまり、気液分離器とスクラバーとによって汚染物質の残留量が低減される。そのため、基板処理装置から排出される排気の清浄度をさらに高めることができる。

請求項１２に記載の発明は、前記処理ユニットは、それぞれが複数種の薬液の少なくとも一つを基板に供給する複数の処理ユニットを含み、前記排気通路は、前記複数の処理ユニットにそれぞれ接続された複数の個別路と、前記複数の個別路のそれぞれから下流側に延びる集合路とを含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、排気通路の複数の個別路が、複数の処理ユニットにそれぞれ接続されており、排気通路の集合路が、複数の個別路のそれぞれに接続されている。複数の処理ユニットで発生した排気は、複数の処理ユニットからそれぞれ複数の個別路に排出される。そして、複数の個別路に流入した排気は、集合路を経て、基板処理装置の外に配置された排気設備の方に導かれる。各処理ユニットで発生した排気は、排気通路内を流れる過程で、洗浄液との接触によって浄化される。したがって、スクラバーは、複数の処理ユニットで発生した排気を基板処理装置内で浄化できる。そのため、個々の処理ユニットに対応する複数のスクラバーを基板処理装置内に設ける必要がない。

請求項１３に記載の発明は、前記吐出器は、前記複数の個別路にそれぞれ配置された複数の吐出器を含む、請求項１２に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、複数の吐出器が、それぞれ、複数の個別路に配置されている。したがって、スクラバーは、ある個別路で吐出される洗浄液とは異なる種類の洗浄液を別の個別路で吐出させることができる。そのため、スクラバーは、排気に含まれる汚染物質に特化した洗浄液を個々の個別路で排気に接触させることができる。これにより、スクラバーは、複数の処理ユニットで発生した排気から汚染物質を効率的に除去できる。

請求項１４に記載の発明は、前記スクラバーは、前記複数の個別路にそれぞれ配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持する複数のスクラブフィルターをさらに含む、請求項１３に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、複数のスクラブフィルターが、それぞれ、複数の個別路に配置されている。したがって、スクラバーは、排気と洗浄液とを個々の個別路内で確実に接触させることができると共に、個別路内での排気と洗浄液との接触時間を増加させることができる。そのため、スクラバーは、複数の処理ユニットで発生した排気から汚染物質を効率的に除去でき、排気の清浄度をさらに高めることができる。

請求項１５に記載の発明は、前記スクラバーは、前記複数の吐出器および複数のスクラブフィルターよりも下流側で前記複数の個別路にそれぞれ配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、前記気体から液体成分を除去する複数のミストフィルターをさらに含む、請求項１４に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、複数のミストフィルターが、それぞれ、複数の個別路に配置されている。つまり、専用のミストフィルターが、個別路ごとに設けられている。したがって、スクラバーは、個々の個別路で排気から液体成分を除去できる。そのため、スクラバーは、複数の処理ユニットで発生した排気から液体成分を確実に除去でき、排気の清浄度をさらに高めることができる。

請求項１６に記載の発明は、前記吐出器は、前記集合路に配置されている、請求項１２に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、吐出器が集合路に配置されている。複数の処理ユニットから排出された排気は、対応する個別路を通って集合路に流入し、吐出器から吐出された洗浄液に集合路で接触する。これにより、複数の処理ユニットで発生した排気が浄化される。このように、吐出器が集合路に配置されているので、個々の個別路に吐出器を設けなくてもよい。したがって、基板処理装置の部品点数を減少させることができ、基板処理装置の構造を簡素化できる。

請求項１７に記載の発明は、前記スクラバーは、前記集合路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持するスクラブフィルターをさらに含む、請求項１６に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、スクラブフィルターが集合路に配置されている。複数の処理ユニットから排出された排気は、対応する個別路を通って集合路に流入し、集合路でスクラブフィルターを通過する。これにより、複数の処理ユニットで発生した排気が洗浄液に確実に接触する。このように、スクラブフィルターが集合路に配置されているので、個々の個別路にスクラブフィルターを設けなくてもよい。したがって、基板処理装置の部品点数を減少させることができ、基板処理装置の構造を簡素化できる。

請求項１８に記載の発明は、前記スクラバーは、前記吐出器およびスクラブフィルターよりも下流側で前記集合路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、前記気体から液体成分を除去するミストフィルターをさらに含む、請求項１７に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、ミストフィルターが集合路に配置されている。複数の処理ユニットから排出された排気は、対応する個別路を通って集合路に流入し、集合路でミストフィルターを通過する。これにより、液体成分が排気から除去される。このように、ミストフィルターが集合路に配置されているので、個々の個別路にミストフィルターを設けなくてもよい。したがって、基板処理装置の部品点数を減少させることができ、基板処理装置の構造を簡素化できる。

請求項１９に記載の発明は、前記スクラバーは、前記集合路内で開口する排液口に液体を吸引させることにより、前記排気通路内の液体を排出する排液装置をさらに含み、前記排液装置は、前記複数の個別路のそれぞれから前記集合路まで延びており、前記排気通路内の液体が前記複数の個別路から前記集合路に流れるように水平面に対して傾いた複数の排液路を含む、請求項１２〜１８のいずれか一項に記載の基板処理装置である。

この構成によれば、排液装置の複数の排液路が、それぞれ複数の個別路に対応しており、各排液路が、対応する個別路から集合路まで延びている。各排液路が水平面に対して傾いており、排液路の下流端が、排液路の上流端よりも下方に配置されているので、複数の個別路内の液体は、自重で複数の排液路を集合路に向かって流れる。したがって、複数の個別路内の液体は、集合路に集められる。排液装置は、集合路で開口する排液口から集合路内の液体を吸引する。そのため、排液装置は、排気通路内のより広い範囲から液体を集めることができ、これによって、排気通路内の液体の残留量を低減できる。

本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す模式図である。 処理ユニットの概略構成を示す模式図である。 処理ユニットによって行われる基板の処理の一例を示す工程図である。 スクラバーの内部を上方から見た模式図である。 スクラバーの内部を側方から見た模式図である。 処理ユニットで基板が処理されているときのスクラバーの動作の一例を示す図である。 スクラバーの変形例を示す模式図である。 スクラブフィルターの変形例を示す模式図である。 スクラブフィルターの別の変形例を示す模式図である。

以下では、本発明の実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置１の概略構成を示す模式図である。図２は、処理ユニット２の概略構成を示す模式図である。
図１に示すように、基板処理装置１は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、基板Ｗに処理液を供給する複数の処理ユニット２と、各処理ユニット２から排出された排気を洗浄するスクラバー３と、複数の処理ユニット２およびスクラバー３を収容する箱形の外壁４と、基板処理装置１に備えられた装置の動作やバルブの開閉を制御する制御装置５とを含む。

図２に示すように、各処理ユニット２は、基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式のユニットである。各処理ユニット２は、他の処理ユニット２と共通の構成を有している。各処理ユニット２は、内部空間を有する箱形のチャンバー６と、チャンバー６内で１枚の基板Ｗを水平な姿勢で保持して、基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸線Ａ１まわりに基板Ｗを回転させるスピンチャック７と、スピンチャック７に保持されている基板Ｗに向けて処理液を吐出する処理液供給装置８〜１１と、スピンチャック７を取り囲む筒状のカップ１２とを含む。

図２に示すように、チャンバー６は、スピンチャック７等を収容する箱形の隔壁１３と、隔壁１３の上部から隔壁１３内にクリーンエアー（フィルターによってろ過された空気）を送る送風ユニットとしてのＦＦＵ１４（ファン・フィルタ・ユニット）と、隔壁１３の下部からチャンバー６内の気体を排出する室内排気ダクト１５とを含む。ＦＦＵ１４は、隔壁１３の上方に配置されている。ＦＦＵ１４は、隔壁１３の天井からチャンバー６内に下向きにクリーンエアーを送る。室内排気ダクト１５は、カップ１２の底部に接続されており、基板処理装置１が設置される工場に設けられた排気設備に向けてチャンバー６内の気体を案内する。したがって、チャンバー６内を下方に流れるダウンフロー（下降流）が、ＦＦＵ１４および室内排気ダクト１５によって形成される。ダウンフローは、基板Ｗがチャンバー６内に存在する期間中だけでなくその他の期間も形成される。

図２に示すように、スピンチャック７は、基板Ｗを水平に保持する円盤状のスピンベース１６と、基板Ｗおよびスピンベース１６を回転軸線Ａ１まわりに回転させるスピンモータ１７とを含む。スピンチャック７は、基板Ｗを水平方向に挟むことにより基板Ｗを水平に保持する挟持式のチャックであってもよいし、非デバイス形成面である基板Ｗの裏面（下面）を吸着させることにより基板Ｗを水平に保持するバキューム式のチャックであってもよい。図２は、スピンチャック７が複数のチャックピンによって基板Ｗを挟持する挟持式のチャックである場合を示している。カップ１２は、スピンベース１６を取り囲んでいる。上向きに開いたカップ１２の上端部は、スピンベース１６よりも上方に配置されている。したがって、基板Ｗの周囲に排出された薬液やリンス液などの処理液は、カップ１２によって受け止められ、カップ１２の内部で開口する排液口１２ａから排出される。

図２に示すように、処理液供給装置８〜１１は、基板Ｗに向けて酸性の薬液を吐出する酸性薬液ノズル８と、基板Ｗに向けてアルカリ性の薬液を吐出するアルカリ性薬液ノズル９と、基板Ｗに向けて有機薬液を吐出する有機薬液ノズル１０と、基板Ｗに向けてリンス液を吐出するリンス液ノズル１１とを含む。酸性薬液ノズル８は、吐出口が静止した状態で基板Ｗの上面中央部に向けて処理液を吐出する固定ノズルであってもよいし、基板Ｗの上面に対する処理液の着液位置が中央部と周縁部との間で移動するように移動しながら処理液を吐出するスキャンノズルであってもよい。アルカリ性薬液ノズル９、有機薬液ノズル１０、およびリンス液ノズル１１についても同様である。

図２に示すように、処理ユニット２は、酸性薬液ノズル８に接続された酸性薬液配管１８と、酸性薬液配管１８に介装された酸性薬液バルブ１９とを含む。同様に、処理ユニット２は、アルカリ性薬液ノズル９に接続されたアルカリ性薬液配管２０と、アルカリ性薬液配管２０に介装されたアルカリ性薬液バルブ２１と、有機薬液ノズル１０に接続された有機薬液配管２２と、有機薬液配管２２に介装された有機薬液バルブ２３と、リンス液ノズル１１に接続されたリンス液配管２４と、リンス液配管２４に介装されたリンス液バルブ２５とを含む。

酸性薬液バルブ１９が開かれると、酸性薬液供給源からの酸性薬液が、基板Ｗの上面に向けて酸性薬液ノズル８から吐出される。同様に、アルカリ性薬液バルブ２１、有機薬液バルブ２３、およびリンス液バルブ２５のいずれかが開かれると、アルカリ性薬液、有機薬液、およびリンス液のいずれかが、アルカリ性薬液ノズル９、有機薬液ノズル１０、およびリンス液ノズル１１のいずれかから基板Ｗの上面に向けて吐出される。

酸性薬液の一例は、フッ酸（フッ化水素酸）であり、アルカリ性薬液の一例は、ＳＣ−１（アンモニア過酸化水素水）である。有機薬液の一例は、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）であり、リンス液の一例は、純水（脱イオン水：Ｄeionzied Ｗater）である。酸性薬液は、硫酸や塩酸を含む酸性薬液であってもよい。アルカリ性薬液は、ＴＭＡＨ（トリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド）などを含むアルカリ性薬液であってもよい。有機薬液は、ＩＰＡに限らず、ＨＦＥ（ハイドロフロロエーテル）などの他の有機薬液であってもよい。リンス液は、純水に限らず、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、および希釈濃度（たとえば、１０〜１００ｐｐｍ程度）の塩酸水のいずれかであってもよい。

図２に示すように、処理ユニット２は、処理ユニット２内で発生した混合流体に含まれる気体および液体を分離させる気液分離器２６を含む。気液分離器２６は、チャンバー６の外に配置されている。気液分離器２６は、室内排気ダクト１５に接続された気液分離ボックス２７と、気液分離ボックス２７の内部から気液分離ボックス２７の外部に延びる液体配管２８と、気液分離ボックス２７の内部から気液分離ボックス２７の外部に延びる気体配管２９とを含む。

図２に示すように、気体配管２９は、気液分離ボックス２７の底面から上方に突出している。液体配管２８の端部は、気液分離ボックス２７底面において開口する液体排出口３０を形成しており、気体配管２９の端部は、気液分離ボックス２７内で開口する気体排出口３１を液体排出口３０よりも上方の高さで形成している。気体配管２９は、スクラバー３（具体的には、後述する上流排気ダクト３２）に接続されている。したがって、チャンバー６内で発生した排気は、気液分離ボックス２７および気体配管２９を介してスクラバー３に排出される。

処理液が基板Ｗに供給されると、蒸気やミストを含む排気がチャンバー６内に発生する。この排気（気体および液体の混合流体）は、室内排気ダクト１５を通って気液分離ボックス２７の内部に流入する。排気に含まれる液体成分は、気液分離ボックス２７内で液滴に変化し、液体排出口３０から排液される。気体排出口３１は、液体排出口３０よりも上方に配置されているので、気液分離ボックス２７内の液体が気体排出口３１に浸入し難い。したがって、液体の残留量が低減された排気が、気体排出口３１に吸引され、スクラバー３に排出される。

図３は、処理ユニット２によって行われる基板Ｗの処理の一例を示す工程図である。以下では、図２および図３を参照する。
ＦＦＵ１４がクリーンエアーをチャンバー６内に供給しており、室内排気ダクト１５がチャンバー６内の気体を排出している状態、つまりダウンフローがチャンバー６内に形成されている状態で、制御装置５は、酸性薬液ノズル８、アルカリ性薬液ノズル９、有機薬液ノズル１０、およびリンス液ノズル１１のいずれから吐出された処理液を回転状態の基板Ｗに供給させる。具体的には、制御装置５は、搬送ロボット（図示せず）を制御する事により、基板Ｗをスピンチャック７上に搬送させる。その後、制御装置５は、スピンチャック７に基板Ｗの回転を開始させる。

次に、酸性薬液の一例であるフッ酸を基板Ｗに供給する酸性薬液供給工程（ステップＳ１）が行われる。具体的には、制御装置５は、酸性薬液バルブ１９を開いて、スピンチャック７によって基板Ｗを回転させながら、酸性薬液ノズル８から基板Ｗの上面中央部に向けてフッ酸を吐出させる。これにより、フッ酸が基板Ｗの上面に供給される。そして、酸性薬液バルブ１９が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置５は、酸性薬液バルブ１９を閉じてフッ酸の吐出を停止させる。

酸性薬液ノズル８から吐出されたフッ酸は、基板Ｗの上面中央部に供給され、基板Ｗの回転による遠心力を受けて基板Ｗの上面に沿って外方に広がる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆うフッ酸の液膜が基板Ｗ上に形成され、基板Ｗの上面全域にフッ酸が供給される。また、基板Ｗへのフッ酸の供給や、カップ１２の内面に対するフッ酸の衝突に伴って発生したフッ酸を含む雰囲気は、カップ１２の底部から室内排気ダクト１５に排出される。これにより、酸性排気（酸性薬液を含む気体）がカップ１２の内部から排出される。

次に、リンス液の一例である純水を基板Ｗに供給する第１中間リンス液供給工程（ステップＳ２）が行われる。具体的には、制御装置５は、リンス液バルブ２５を開いて、基板Ｗを回転させながら、リンス液ノズル１１から基板Ｗの上面中央部に向けて純水を吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆うフッ酸の液膜が純水に置換され、基板Ｗ上のフッ酸が純水によって洗い流される。また、基板Ｗへの純水の供給等に伴って発生した純水を含む雰囲気は、カップ１２の底部から室内排気ダクト１５に排出される。そして、リンス液バルブ２５が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置５は、リンス液バルブ２５を閉じて純水の吐出を停止させる。

次に、アルカリ性薬液の一例であるＳＣ−１を基板Ｗに供給するアルカリ性薬液供給工程（ステップＳ３）が行われる。具体的には、制御装置５は、アルカリ性薬液バルブ２１を開いて、基板Ｗを回転させながら、アルカリ性薬液ノズル９から基板Ｗの上面中央部に向けてＳＣ−１を吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆う純水の液膜がＳＣ−１に置換され、基板Ｗの上面全域にＳＣ−１が供給される。また、基板ＷへのＳＣ−１の供給等に伴って発生したＳＣ−１を含む雰囲気は、カップ１２の底部から室内排気ダクト１５に排出される。これにより、アルカリ性排気（アルカリ性薬液を含む気体）がカップ１２の内部から排出される。そして、アルカリ性薬液バルブ２１が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置５は、アルカリ性薬液バルブ２１を閉じてＳＣ−１の吐出を停止させる。

次に、リンス液の一例である純水を基板Ｗに供給する第２中間リンス液供給工程（ステップＳ４）が行われる。具体的には、制御装置５は、リンス液バルブ２５を開いて、基板Ｗを回転させながら、リンス液ノズル１１から基板Ｗの上面中央部に向けて純水を吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆うＳＣ−１の液膜が純水に置換され、基板Ｗ上のＳＣ−１が純水によって洗い流される。また、基板Ｗへの純水の供給等に伴って発生した純水を含む雰囲気は、カップ１２の底部から室内排気ダクト１５に排出される。そして、リンス液バルブ２５が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置５は、リンス液バルブ２５を閉じて純水の吐出を停止させる。

次に、有機薬液の一例であるＩＰＡを基板Ｗに供給する有機薬液供給工程（ステップＳ５）が行われる。具体的には、制御装置５は、有機薬液バルブ２３を開いて、基板Ｗを回転させながら、有機薬液ノズル１０から基板Ｗの上面中央部に向けてＩＰＡを吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆う純水の液膜がＩＰＡに置換され、基板Ｗ上の純水がＩＰＡによって洗い流される。また、基板ＷへのＩＰＡの供給等に伴って発生したＩＰＡを含む雰囲気は、カップ１２の底部から室内排気ダクト１５に排出される。これにより、有機排気（有機薬液を含む気体）がカップ１２の内部から排出される。そして、有機薬液バルブ２３が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置５は、有機薬液バルブ２３を閉じてＩＰＡの吐出を停止させる。

次に、基板Ｗを乾燥させる乾燥工程（ステップＳ６）が行われる。具体的には、制御装置５は、基板Ｗの回転を加速させて、酸性薬液供給工程から有機薬液供給工程までの回転速度よりも速い高回転速度（たとえば数千ｒｐｍ）で基板Ｗを回転させる。これにより、大きな遠心力が基板Ｗ上の液体に加わり、基板Ｗに付着している液体が基板Ｗの周囲に振り切られる。このようにして、基板Ｗから液体が除去され、基板Ｗが乾燥する。そして、基板Ｗの高速回転が開始されてから所定時間が経過すると、制御装置５は、スピンチャック７による基板Ｗの回転を停止させる。その後、処理済みの基板Ｗが搬送ロボットによってスピンチャック７から搬出される。

図４は、スクラバー３の内部を上方から見た模式図である。図５は、スクラバー３の内部を側方から見た模式図である。
図４に示すように、スクラバー３は、複数の処理ユニット２にそれぞれ接続された複数の上流排気ダクト３２と、複数の上流排気ダクト３２にそれぞれ接続された複数の排気流入室３３と、複数の排気流入室３３のそれぞれに接続された排気集合室３４と、排気集合室３４に接続された下流排気ダクト３５とを含む。スクラバー３は、さらに、排気流入室３３および排気集合室３４を通って上流排気ダクト３２から下流排気ダクト３５に向かう排気から汚染物質を除去する複数の薬液分離器３６と、複数の薬液分離器３６から下流排気ダクト３５に向かう排気から液体成分を除去する複数のミスト分離器３７（mist separator）とを含む。

図４に示すように、スクラバー３は、複数の上流排気ダクト３２に接続された排気洗浄ボックス３８を含む。排気洗浄ボックス３８は、内部空間を有する箱形のハウジング３９と、ハウジング３９の内部を仕切る仕切壁４０とを含む。排気流入室３３および排気集合室３４は、ハウジング３９の内部に設けられており、ハウジング３９および仕切壁４０によって形成されている。したがって、排気流入室３３および排気集合室３４は、共通の部材（排気洗浄ボックス３８）によって形成されている。

図４に示すように、スクラバー３は、複数の処理ユニット２で発生した排気を基板処理装置１の外に配置された排気設備に向けて案内する排気通路４１を含む。排気通路４１は、複数の処理ユニット２にそれぞれ接続された複数の個別路４２と、複数の個別路４２のそれぞれに接続された集合路４３とを含む。各個別路４２は、対応する処理ユニット２から集合路４３まで延びている。個別路４２は、上流排気ダクト３２、ハウジング３９、および仕切壁４０によって形成されており、集合路４３は、ハウジング３９および下流排気ダクト３５によって形成されている。複数の処理ユニット２で発生した排気は、複数の個別路４２から集合路４３に流れ、集合路４３によって下流側（排気設備側）に案内される。

個別路４２は、後述するミストフィルター４８によってろ過される前の排気が流れる通路であり、集合路４３は、ミストフィルター４８によってろ過された排気が通過する通路である。つまり、個別路４２および集合路４３は、通路内を流れる排気がミストフィルター４８によってろ過されているか否かという点で機能的に区分けされている。これに対して、排気流入室３３および排気集合室３４は、仕切壁４０によって仕切られているか否かという点で構造的に区分けされている。すなわち、排気流入室３３は、排気洗浄ボックス３８において仕切壁４０に仕切られた部分であり、排気集合室３４は、排気洗浄ボックス３８において仕切壁４０に仕切られていない部分である。

図１に示すように、複数の上流排気ダクト３２は、複数の処理ユニット２にそれぞれ設けられた複数の気体配管２９にそれぞれ接続されている。図４に示すように、上流排気ダクト３２は、対応する処理ユニット２から対応する排気集合室３４まで延びている。上流排気ダクト３２の上流端は、気体配管２９に接続されており、上流排気ダクト３２の下流端部は、排気集合室３４の内面で開口する吸気口４４に接続されている。したがって、複数の排気流入室３３は、複数の上流排気ダクト３２を介して、複数の処理ユニット２にそれぞれ接続されている。

図４に示すように、各排気流入室３３は、処理ユニット２から排気設備に向かう排気の流通方向Ｄ１に延びている。複数の排気流入室３３は互いに平行である。排気流入室３３に流入した排気は、排気流入室３３によって流通方向Ｄ１に案内される。排気流入室３３の流路面積（流通方向Ｄ１に直交する断面積）は、上流排気ダクト３２の流路面積よりも大きい。各排気流入室３３の上流端部は、対応する上流排気ダクト３２に接続されており、各排気流入室３３の下流端部は、排気集合室３４に接続されている。

図４に示すように、排気集合室３４は、全ての排気流入室３３よりも下流側に配置されている。排気集合室３４の流路面積は、排気流入室３３の流路面積よりも大きく、下流排気ダクト３５の流路面積よりも大きい。図５に示すように、下流排気ダクト３５の上流端部は、排気集合室３４の底面（内面の底部）で開口する開口部に接続されている。下流排気ダクト３５の上流端部は、排気集合室３４の底面から上方に突出しており、排気集合室３４の底面よりも上方の高さで開口する排気口４５を形成している。排気集合室３４は、下流排気ダクト３５を介して、排気設備に接続されている。したがって、排気設備の吸引力は、下流排気ダクト３５を介して排気集合室３４に伝達される。これにより、排気設備の吸引力が、スクラバー３を介して全ての処理ユニット２に伝達される。

図４に示すように、各排気流入室３３は、薬液分離器３６およびミスト分離器３７を収容している。さらに、各排気流入室３３は、後述する２つの噴霧器５４を収容している。薬液分離器３６は、ミスト分離器３７よりも排気の流通方向Ｄ１における上流側に配置されている。２つの噴霧器５４は、薬液分離器３６の上流および下流にそれぞれ配置されている。

図４に示すように、薬液分離器３６は、排気流入室３３の内部空間を排気の流通方向Ｄ１に並んだ２つの空間に仕切っている。吸気口４４と薬液分離器３６との間の排気流入室３３内の空間は、上流洗浄空間であり、薬液分離器３６とミスト分離器３７との間の排気流入室３３内の空間は、下流洗浄空間である。２つの噴霧器５４は、それぞれ、上流洗浄空間および下流洗浄空間に配置されている。ミスト分離器３７は、排気流入室３３の下流端部内に配置されており、排気流入室３３と排気集合室３４とを仕切っている。すなわち、ミスト分離器３７よりも下流の空間は、排気集合室３４の内部（排気集合空間）である。

図４に示すように、薬液分離器３６は、排気の流通方向Ｄ１に気体および液体を通過させるメッシュ状のスクラブフィルター４６と、スクラブフィルター４６を保持するフィルターケース４７とを含む。ミスト分離器３７は、排気の流通方向Ｄ１に気体を通過させるメッシュ状のミストフィルター４８と、ミストフィルター４８を保持するミストフィルターケース４９とを含む。スクラブフィルター４６は、フィルターケース４７内に収容されており、ミストフィルター４８は、ミストフィルターケース４９内に収容されている。フィルターケース４７およびミストフィルターケース４９は、排気洗浄ボックス３８に取り付けられている。したがって、薬液分離器３６およびミスト分離器３７は、排気洗浄ボックス３８に保持されている。

図４に示すように、フィルターケース４７は、フィルターケース４７の内部とフィルターケース４７の外部とを繋ぐ複数の開口を含む。フィルターケース４７に設けられた複数の開口は、スクラブフィルター４６よりも上流側に配置された上流開口５０と、スクラブフィルター４６よりも下流側に配置された下流開口５１と、スクラブフィルター４６の下方に配置された下方開口５２（図５参照）とを含む。スクラブフィルター４６は、フィルターケース４７に設けられた複数の開口から露出している。図５に示すように、フィルターケース４７の下面は、上下方向に間隔を空けて排気洗浄ボックス３８の底面（内面の底部）に対向している。フィルターケース４７の下面と排気洗浄ボックス３８の底面との間の上下方向の間隔は、薬液分離器３６の高さよりも十分に小さい。

フィルターケース４７と同様に、ミストフィルターケース４９は、ミストフィルターケース４９の内部とミストフィルターケース４９の外部とを繋ぐ複数の開口を含む。ミストフィルターケース４９に設けられた複数の開口は、ミストフィルター４８よりも上流側に配置された上流開口５０と、ミストフィルター４８よりも下流側に配置された下流開口５１と、ミストフィルター４８の下方に配置された下方開口５２とを含む。ミストフィルター４８は、ミストフィルターケース４９に設けられた複数の開口から露出している。ミストフィルターケース４９の下面は、上下方向に間隔を空けて排気洗浄ボックス３８の底面に対向している。ミストフィルターケース４９の下面と排気洗浄ボックス３８の底面との間の上下方向の間隔は、ミスト分離器３７の高さよりも十分に小さい。

スクラブフィルター４６は、ミストフィルター４８と等しい高さを有しており、ミストフィルター４８と等しい幅を有している。図４に示すように、スクラブフィルター４６は、ミストフィルター４８よりも排気の流通方向Ｄ１に長い。スクラブフィルター４６は、ミストフィルター４８よりも粗いフィルターである。したがって、スクラブフィルター４６は、気体および液体を通過させることができる。また、ミストフィルター４８は、スクラブフィルター４６よりも細かいフィルターであり、気体だけを通過させることができ、液体だけを選択的に除去できる。

排気設備の吸引力によって処理ユニット２から排気流入室３３に吸引された排気は、フィルターケース４７の上流開口５０を通じてフィルターケース４７内のスクラブフィルター４６に供給される。そして、スクラブフィルター４６を通過した排気は、スクラブフィルター４６の下流開口５１を通じてフィルターケース４７の内部からフィルターケース４７の外部に移動する。その後、薬液分離器３６を通過した排気は、ミストフィルターケース４９の上流開口５０を通じてミストフィルターケース４９内のミストフィルター４８に供給される。そして、ミストフィルター４８を通過した排気は、ミストフィルター４８の下流開口５１を通じてミストフィルターケース４９の内部からミストフィルターケース４９の外部に移動する。その後、ミスト分離器３７を通過した排気は、下流排気ダクト３５を介して排気設備に導かれる。

図４に示すように、スクラバー３は、排気を洗浄する洗浄液をスクラバー３内で噴霧する噴霧装置５３を含む。噴霧装置５３は、処理ユニット２で基板Ｗに供給される薬液の種類に応じて、酸性、アルカリ性、または中性の洗浄液をスクラバー３内で噴霧する。図４は、酸性洗浄液と中性洗浄液とをスクラバー３内で個別に噴霧する構成例を示している。酸性洗浄液の一例は、希硫酸であり、中性洗浄液の一例は、水（工業用水）である。酸性洗浄液は、希硫酸以外の酸性液体であってもよいし、中性洗浄液は、水を主成分とする中性液体であってもよい。アルカリ性洗浄液は薄いアンモニア水溶液などを用いることができる。

噴霧装置５３は、処理ユニット２から排出された排気と洗浄液のミストとを接触させることにより、排気に含まれる汚染物質を洗浄液のミストに捕獲させる装置である。図４に示すように、噴霧装置５３は、スクラバー３内で洗浄液を噴霧する複数の噴霧器５４と、各噴霧器５４に洗浄液を供給する洗浄液供給装置５５とを含む。複数の噴霧器５４は、排気洗浄ボックス３８の内部に配置されている。複数の噴霧器５４は、複数の排気流入室３３にそれぞれ配置された複数対の噴霧器５４を含む。対の噴霧器５４は、薬液分離器３６の上流および下流にそれぞれ配置されている。

図４および図５に示すように、噴霧器５４は、排気流入室３３内に配置された円柱状の噴霧塔５６と、噴霧塔５６の外周面から外方に突出する複数のスプレーノズル５７とを含む。噴霧塔５６は、上下方向に延びている。複数のスプレーノズル５７は、それぞれ異なる高さに配置されており、平面視において噴霧塔５６の周方向に離れた２つの位置に配置されている。各スプレーノズル５７の噴霧口は、薬液分離器３６に対向している。

各スプレーノズル５７は、噴霧塔５６の内部に設けられた洗浄液の流路に接続されている。各スプレーノズル５７は、噴霧塔５６を通じて洗浄液供給装置５５から供給された洗浄液を円錐状に噴霧する。これにより、洗浄液のミストが、排気流入室３３の内部（上流洗浄空間および下流洗浄空間）を漂い、処理ユニット２から排出された排気が、洗浄液のミストに接触する。さらに、各スプレーノズル５７は、洗浄液を薬液分離器３６に向けて噴霧するので、洗浄液の液滴が、スクラブフィルター４６の外表面および内表面に供給され、スクラブフィルター４６の内部に保持される。そのため、スクラブフィルター４６を通過する排気は、スクラブフィルター４６に保持されている洗浄液にも接触する。

図４に示すように、洗浄液供給装置５５は、複数対の噴霧器５４にそれぞれ接続された複数の洗浄液供給ユニット５８を含む。複数の洗浄液供給ユニット５８は、それぞれ、複数の排気流入室３３に対応している。各洗浄液供給ユニット５８は、対応する対の噴霧器５４に洗浄液を供給する。各洗浄液供給ユニット５８は、他の洗浄液供給ユニット５８の稼働状況によらず、対応する対の噴霧器５４に洗浄液を供給できる。したがって、各洗浄液供給ユニット５８は、他の洗浄液供給ユニット５８から独立している。

図４に示すように、各洗浄液供給ユニット５８は、上流側の噴霧器５４に接続された上流洗浄液配管５９と、下流側の噴霧器５４に接続された下流洗浄液配管６０と、上流洗浄液配管５９および下流洗浄液配管６０に接続された集合配管６１と、集合配管６１に介装された配管内混合器６２とを含む。図示はしないが、配管内混合器６２は、集合配管６１に介装された配管と、配管内に配置されており、配管の軸方向に延びる軸線まわりに捩れた撹拌フィンとを含む。配管内混合器６２内（配管内）に供給された混合流体は、撹拌フィンに沿って螺旋状に流れる間に均一に混合される。

図４に示すように、各洗浄液供給ユニット５８は、集合配管６１に接続された酸性液体配管６３と、酸性液体配管６３に介装された酸性液体バルブ６４と、酸性液体配管６３に介装された第１流量調整バルブ６５とを含む。各洗浄液供給ユニット５８は、さらに、集合配管６１に接続された中性液体配管６６と、中性液体配管６６に介装された中性液体バルブ６７と、中性液体配管６６に介装された第２流量調整バルブ６８とを含む。酸性液体の一例は、濃硫酸であり、中性液体の一例は、水である。前述の酸性洗浄液は、酸性液体が中性液体によって希釈された希釈液である。

酸性液体バルブ６４が開かれると、酸性液体配管６３内の酸性液体が、第１流量調整バルブ６５の開度に対応する流量で集合配管６１内に流入する。同様に、中性液体バルブ６７が開かれると、中性液体配管６６内の水が、第２流量調整バルブ６８の開度に対応する流量で集合配管６１に流入する。したがって、酸性液体バルブ６４が閉じられており、中性液体バルブ６７が開かれている状態では、中性液体配管６６から集合配管６１に供給された水が、等しい流量で上流洗浄液配管５９および下流洗浄液配管６０内に流入し、等しい流量で対の噴霧器５４に供給される。これにより、中性洗浄液としての水が、等しい流量で対の噴霧器５４から噴霧される。

また、酸性液体バルブ６４および中性液体バルブ６７の両方が開かれている状態では、水および濃硫酸が、所定の割合（たとえば、１００〜１０００（水）：１（濃硫酸））で集合配管６１に供給される。そして、水および濃硫酸は、配管内混合器６２によって配管内で混合される。これにより、水および濃硫酸が撹拌され、希硫酸が生成される。そのため、希硫酸が等しい流量で上流洗浄液配管５９および下流洗浄液配管６０内に流入し、等しい流量で対の噴霧器５４に供給される。これにより、酸性洗浄液としての希硫酸が、等しい流量で対の噴霧器５４から噴霧される。

噴霧器５４が洗浄液を噴霧すると、洗浄液のミストが、上流洗浄空間および下流洗浄空間に分散し、洗浄液の液滴が、スクラブフィルター４６の内部に保持される。上流排気ダクト３２から上流洗浄空間に流入した排気は、上流洗浄空間を漂う洗浄液のミストとの接触によって薬液成分の残留量が低減される。さらに、スクラブフィルター４６を通過する排気は、スクラブフィルター４６内の洗浄液との接触によって薬液成分の残留量が低減される。そして、下流洗浄空間に流入した排気は、下流洗浄空間を漂う洗浄液のミストとの接触によって薬液成分の残留量が低減される。これにより、処理ユニット２から排出された排気が洗浄される。

また、噴霧器５４が希硫酸などの酸性洗浄液を噴霧すると、酸性洗浄液のミストが、上流洗浄空間および下流洗浄空間に分散し、酸性洗浄液の液滴が、スクラブフィルター４６の内部に保持される。この状態で、処理ユニット２から排出されたアルカリ性排気が上流洗浄空間に流入すると、アルカリ性排気中の薬液成分の残留量が中和によって低減される。同様に、薬液成分の残留量は、スクラブフィルター４６内での中和反応と、下流洗浄空間での中和反応とによってさらに低減される。これにより、アルカリ性排気に含まれるアルカリ性薬液が除去され、処理ユニット２から排出された排気が洗浄される。

洗浄液のミストや洗浄液の液滴と接触によって薬液成分が低減されたガス（浄化後の排気。以後、浄化ガスと称する）は、ミスト分離器３７のミストフィルター４８を通過する。浄化ガスは、洗浄液などの液体成分を含んでいる場合がある。ミストフィルター４８は、スクラブフィルター４６よりも細かいフィルターなので、気体だけを通過させることができ、液体だけを選択的に除去できる。そのため、液体成分が浄化ガスに含まれているとしても、浄化ガス中の液体成分は、ミストフィルター４８を通過することによってミストフィルター４８に除去される。これにより、洗浄液などの液体成分が除去された浄化ガス（最終浄化ガス）が、下流排気ダクト３５を介して、基板処理装置１の外に配置された排気設備に導かれる。

図５に示すように、スクラバー３は、排気通路４１内から液体を排出する排液装置６９を含む。排液装置６９は、排気通路４１に接続された排液配管７０と、排気通路４１内の液体を排液配管７０の方に導く排液路７１とを含む。図４に示すように、排液装置６９は、さらに、排液配管７０内の流体を吸引する吸引装置７２を含む。吸引装置７２は、排液配管７０内の流体を吸引するアスピレーター７４を含む。吸引装置７２は、アスピレーター７４の代わりに、排液配管７０内の流体を吸引するポンプを備えていてもよいし、アスピレーター７４およびポンプの両方を備えていてもよい。

図５に示すように、排液配管７０は、排気集合室３４の底面から下方に延びている。排液配管７０の上流端部は、排気集合室３４の底面（内面の底部）で開口する排液口７３に接続されている。図４に示すように、排液配管７０の下流端部は、吸引装置７２に接続されている。排液口７３は、平面視において排気口４５の周囲に配置されている。排液口７３の開口面積は、排気口４５の開口面積よりも小さい。図５に示すように、下流排気ダクト３５の上流端部は、排気集合室３４の底面から上方に突出しており、排液口７３よりも上方で開口している。したがって、排気口４５は、排液口７３よりも上方に配置されている。そのため、排気集合室３４の底面上の液体は、下流排気ダクト３５の上流端部によって排気口４５内への浸入が防止される。

図５に示すように、排液路７１は、排気洗浄ボックス３８の底面（内面の底部）によって構成されている。排液路７１は、薬液分離器３６よりも上流の空間（上流洗浄空間）から排気集合室３４の内部（排気集合空間）まで延びている。排液路７１は、薬液分離器３６の下面と排気洗浄ボックス３８の底面との間の隙間を含む。同様に、排液路７１は、ミスト分離器３７の下面と排気洗浄ボックス３８の底面との間の隙間を含む。排液路７１は、排液口７３に近づくに従って下方に位置するように水平面（図５中の二点鎖線）に対して傾いている。したがって、排気洗浄ボックス３８の底面上の液体は、自重で排気洗浄ボックス３８の底面上を排液口７３に向かって流れる。これにより、排気流入室３３および排気集合室３４内の液体が、排液配管７０の方に導かれる。

排気流入室３３の底面上の液体は、排液路７１によって排液配管７０の方に導かれる。また、スクラブフィルター４６内の液体は、スクラブフィルター４６から下方に落下する。図５に示すように、スクラブフィルター４６から下方に落下した液体は、フィルターケース４７の内部とフィルターケース４７の下方の空間とを繋ぐ下方開口５２を通って、排気流入室３３の底面に着地する。同様に、ミストフィルター４８内の液体は、ミストフィルターケース４９の内部とミストフィルターケース４９の下方の空間とを繋ぐ下方開口５２を通って、排気流入室３３の底面に着地する。そして、排気流入室３３の底面に落下した液体は、排液路７１によって排液配管７０の方に導かれ、排液口７３に排出される。

図４に示すように、吸引装置７２は、排液配管７０内の流体を吸引するアスピレーター７４と、アスピレーター７４内に液体を供給する液体供給配管７５と、アスピレーター７４内の液体が排出される液体排出配管７６と、液体供給配管７５に介装された排液バルブ７７とを含む。液体供給配管７５は、液体が流入するアスピレーター７４の流入口に接続されており、液体排出配管７６は、液体が流出するアスピレーター７４の流出口に接続されている。排液配管７０は、排液を吸引するアスピレーター７４の吸引口に接続されている。液体供給配管７５は、噴霧装置５３と共通の液体供給源に接続されている。

液体供給配管７５に介装された排液バルブ７７が開かれている状態では、液体の一例である水が、アスピレーター７４の内部に設けられたＴ字状の流路（図示せず）を通って、液体供給配管７５から液体排出配管７６に流れる。このとき、排液配管７０内の流体を吸引する吸引力が発生し、排液配管７０内の排液が、アスピレーター７４の内部を通って液体排出配管７６に流れる。これにより、排液配管７０内の排液が強制的に排出される。したがって、排気洗浄ボックス３８の底面上の液体が速やかにかつ確実に排液配管７０内に排出される。そのため、排気洗浄ボックス３８の底面での液体の滞留を抑制または防止できる。

図４に示すように、スクラバー３は、薬液分離器３６よりも上流で排気圧を検出する複数の上流排気圧センサー７８と、薬液分離器３６よりも下流で排気圧を検出する下流排気圧センサー７９とを含む。複数の上流排気圧センサー７８は、それぞれ、複数の処理ユニット２に対応しており、下流排気圧センサー７９は、全ての処理ユニット２に対応している。下流排気圧センサー７９は、排気集合室３４に接続されている。上流排気圧センサー７８は、上流排気ダクト３２または排気流入室３３に接続されている。図４は、全ての上流排気圧センサー７８が上流排気ダクト３２に接続されている例を示している。

上流排気圧センサー７８および下流排気圧センサー７９の検出値は、制御装置５に入力される。薬液分離器３６のスクラブフィルター４６が洗浄液で十分に濡れている場合、スクラブフィルター４６の圧力損失が大きくなるので、上流排気圧センサー７８および下流排気圧センサー７９の検出値の差が大きい。したがって、制御装置５は、上流排気圧センサー７８および下流排気圧センサー７９の検出値に基づいて、十分な量の洗浄液がスクラブフィルター４６に保持されているか否かを判定できる。

図６は、処理ユニット２で基板Ｗが処理されているときのスクラバー３の動作の一例を示す図である。
前述のように、処理ユニット２では、酸性薬液供給工程（ステップＳ１）、第１中間リンス液供給工程（ステップＳ２）、アルカリ性薬液供給工程（ステップＳ３）、第２中間リンス液供給工程（ステップＳ４）、有機薬液供給工程（ステップＳ５）、および乾燥工程（ステップＳ６）が、この順番で行われる。酸性薬液バルブ１９、アルカリ性薬液バルブ２１、有機薬液バルブ２３、およびリンス液バルブ２５のそれぞれは、処理ユニット２で行われる工程に応じて開閉される。

図６に示すように、たとえば、酸性薬液供給工程（ステップＳ１）では、酸性薬液バルブ１９が開かれており、アルカリ性薬液バルブ２１、有機薬液バルブ２３、およびリンス液バルブ２５は、閉じられている。そして、開かれるバルブが変更されることにより、酸性薬液供給工程、第１中間リンス液供給工程、アルカリ性薬液供給工程、第２中間リンス液供給工程、および有機薬液供給工程が、順次行われる。

一方、図６に示すように、スクラバー３では、処理ユニット２で行われる工程に拘わらず、つまり、酸性薬液供給工程から乾燥工程までの期間中、この処理ユニット２に対応する中性液体バルブ６７が開かれており、水が吐出されている（スクラバーバルブ動作の上段参照）。同様に、排液バルブ７７は、酸性薬液供給工程から乾燥工程までの期間中、開かれている（スクラバーバルブ動作の下段参照）。したがって、中性液体バルブ６７および排液バルブ７７は、常時開かれている。そのため、この処理ユニット２に対応する噴霧器５４は、洗浄液としての水を常時噴霧しており、排液装置６９は、排気洗浄ボックス３８の底面上の液体を常時排出している。

図示はしないが、中性液体バルブ６７は、処理ユニット２で基板Ｗの処理が行われていない期間中も開かれている。噴霧器５４は、洗浄液を薬液分離器３６に向けて噴霧するので、水の噴霧が行われている間は、薬液分離器３６のスクラブフィルター４６が水で濡れた状態に維持されている。そのため、薬液分離器３６よりも上流側の排気圧と薬液分離器３６よりも下流側の排気圧との差が一定に維持される。同様に、他の処理ユニット２に対応する全ての中性液体バルブ６７も常時開かれている。したがって、各処理ユニット２に加わる排気圧が一定に維持されている。

ある処理ユニット２で酸性薬液供給工程が開始されると、つまり、基板Ｗへの酸性薬液の供給が開始されると、酸性排気が、この処理ユニット２に対応する排気流入室３３に流入する。同様に、ある処理ユニット２でアルカリ性薬液供給工程が開始されると、アルカリ性排気が、この処理ユニット２に対応する排気流入室３３に流入する。同様に、ある処理ユニット２で有機薬液供給工程が開始されると、有機排気が、この処理ユニット２に対応する排気流入室３３に流入する。処理ユニット２では、酸性薬液（フッ酸）、アルカリ性薬液（ＳＣ−１）、および有機薬液（ＩＰＡ）が、基板Ｗに供給されるので、酸性排気、アルカリ性排気、および有機排気が、それぞれ異なる期間に排気流入室３３に流入する。

図６に示すように、処理ユニット２でアルカリ性薬液供給工程（ステップＳ３）が行われている期間中は、スクラバー３の酸性液体バルブ６４が開かれており、希硫酸が吐出されている（スクラバーバルブ動作の中段参照）。スクラバー３の酸性液体バルブ６４が開閉されるとき、制御装置５は、処理ユニット２のアルカリ性薬液バルブ２１を開くのと同時に、酸性液体バルブ６４を開いてもよいし、アルカリ性薬液バルブ２１を開く前または後に、酸性液体バルブ６４を開いてもよい。同様に、制御装置５は、処理ユニット２のアルカリ性薬液バルブ２１を閉じるのと同時に、酸性液体バルブ６４を閉じてもよいし、アルカリ性薬液バルブ２１を閉じる前または後に、酸性液体バルブ６４を閉じてもよい。

処理ユニット２で発生した排気は、処理ユニット２から排気流入室３３までの経路長および経路での排気の流速に応じた時間が経過した後、排気流入室３３に流入する。つまり、処理ユニット２での排気の発生と排気流入室３３への排気の流入との間に時間差がある。したがって、制御装置５は、この時間差に基づいて酸性液体バルブ６４を開く時期を遅らせてもよい。また、基板Ｗへの薬液の供給を停止したとしても、薬液を含む排気が処理ユニット２内に残留しているので、薬液の供給を停止してから暫くの間は、薬液を含む排気が排気流入室３３に流入する。したがって、制御装置５は、この時間差に基づいて酸性液体バルブ６４を閉じる時期を遅らせてもよい。

噴霧器５４が洗浄液としての水を常時噴霧しているので、排気流入室３３に流入した酸性排気および有機排気は、排気流入室３３を漂う水のミストとの接触と、薬液分離器３６に保持されている水滴との接触とによって、洗浄される。また、処理ユニット２でアルカリ性薬液供給工程が行われている期間中は、噴霧器５４が洗浄液としての希硫酸を噴霧しているので、排気流入室３３に流入したアルカリ性排気は、アルカリ性排気中の汚染物質と希硫酸との中和反応によって洗浄される。したがって、酸性排気、アルカリ性排気、および有機排気のいずれが、処理ユニット２から排出されたとしても、排気は、スクラバー３によって無害な状態まで浄化された後、スクラバー３から排出される。

以上のように本実施形態では、処理ユニット２で発生した薬液を含む排気が、スクラバー３の排気通路４１によって、基板処理装置１の外に向けて案内される。スクラバー３の噴霧器５４は、複数種の洗浄液を排気通路４１内で個別に吐出することができる。スクラバー３は、洗浄液を噴霧器５４によって排気通路４１内で吐出させることにより、排気通路４１内を流れる排気に洗浄液を接触させる。これにより、薬液成分が排気から除去され、浄化された排気が、基板処理装置１の外に配置された排気設備に排出される。

制御装置５は、排気に含まれる薬液の種類に基づいて噴霧器５４が吐出する洗浄液の種類を選択する。したがって、制御装置５は、排気に含まれる汚染物質の種類が基板Ｗの処理中に変わる場合や、排気に含まれる汚染物質の種類が処理の内容に応じて変わる場合であっても、排気に含まれる薬液成分に特化した洗浄液を排気に接触させることができる。これにより、基板処理装置１は、処理ユニット２で発生した排気をその内部で浄化でき、排気に含まれる薬液成分の残留量を低減できる。

このように、処理ユニット２で発生した排気を基板処理装置１内で浄化できるので、薬液成分などの汚染物質を排気から除去する装置を基板処理装置１が設置される工場に設けなくてもよい。言い換えると、薬液成分が除去された排気が基板処理装置１から排出されるので、基板処理装置１の使用者は、排気を処理する一般的な装置だけを準備すればよく、薬液成分を排気から除去する専用の装置を準備しなくてもよい。

また本実施形態では、気体を通過させるスクラブフィルター４６が、排気通路４１に配置されている。噴霧器５４が洗浄液を吐出すると、洗浄液を含む雰囲気が、排気通路４１内を漂い、スクラブフィルター４６に付着する。そのため、スクラブフィルター４６の外表面やスクラブフィルター４６の内表面に洗浄液が保持される。基板処理装置１の外に向かって排気通路４１を流れる排気は、スクラブフィルター４６の内部の空隙を通過する。

汚染物質を含む排気は、スクラブフィルター４６の内部を通過する際に、スクラブフィルター４６に保持されている洗浄液の液滴に接触する。このとき、洗浄液をスクラブフィルター４６に保持させることにより、排気通路４１内に存在する洗浄液の表面積が増加するので、排気と洗浄液との接触面積も増加する。これにより、排気と洗浄液との接触時間および接触面積が増加し、汚染物質が排気から効率的に除去される。

また本実施形態では、スクラブフィルター４６は、噴霧器５４からの洗浄液が吹き付けられる。したがって、噴霧器５４から吐出された洗浄液がスクラブフィルター４６に直接当たり、洗浄液がスクラブフィルター４６に確実に供給される。そのため、スクラブフィルター４６に保持される洗浄液の量が増加し、スクラブフィルター４６に保持されている洗浄液に排気が確実に接触する。これにより、排気に含まれる汚染物質の残留量がさらに低減され、排気の清浄度が高められる。

また本実施形態では、気体を通過させると共に、気体から液体成分を除去するミストフィルター４８が、排気の流通方向Ｄ１における噴霧器５４およびスクラブフィルター４６よりも下流側で排気通路４１に配置されている。したがって、洗浄液との接触によって汚染物質の残留量が低減された排気が、ミストフィルター４８を通過する。ミストフィルター４８を通過する排気は、洗浄液などの液体成分を含んでいる場合がある。このような液体成分は、ミストフィルター４８によって捕獲され、排気から除去される。したがって、汚染物質だけでなく、液体成分の残留量も基板処理装置１の内部で低減される。

また本実施形態では、排液装置６９の吸引力が、排気通路４１内で開口する排液口７３に伝達され、排気通路４１内の液体が排液口７３に吸引される。これにより、排気通路４１内の液体が排出される。排液口７３は排気通路４１内にあるため、圧力が低い状態になっているが、排液装置７２の吸引力により、排液口７３から排液された液体が排気通路４１に逆流することが抑制され、排気通路４１内の液体を確実に排液することができる。

また本実施形態では、スクラブフィルター４６が、排液口７３よりも上流側に配置されている。排液装置６９は、スクラブフィルター４６と排気通路４１の底面との間の空間を通って、スクラブフィルター４６よりも上流側から排液口７３まで延びる排液路７１を有している。スクラブフィルター４６よりも上流側に存在する液体は、この排液路７１によって排液口７３の方に導かれる。したがって、排液装置６９は、排気通路４１内のより広い範囲から液体を集めることができ、これによって、排気通路４１内の液体の残留量を低減できる。

また本実施形態では、洗浄液が噴霧器５４から常時吐出される。すなわち、基板処理装置１が稼働している間、全ての噴霧器５４が洗浄液を吐出し続ける。したがって、洗浄液がスクラブフィルター４６に保持されている状態が確実に維持される。そのため、排気通路４１内を流れる排気が、スクラブフィルター４６に保持されている洗浄液に確実に接触する。これにより、排気に含まれる汚染物質の残留量を低減できる。さらに、スクラブフィルター４６が乾くと、スクラブフィルター４６が気流に与える抵抗が小さくなるので、スクラブフィルター４６を濡れた状態に維持することにより、排気圧の変動を低減できる。これにより、スクラバー３を介して排気設備から処理ユニット２に伝達される排気圧を安定させることができる。

処理ユニット２に伝達される排気圧が変動すると、気流の乱れがチャンバー６内で発生する場合がある。したがって、処理ユニット２に伝達される排気圧を安定させることにより、チャンバー６内の気流を安定させることができる。そのため、パーティクルなどの異物や、処理液のミストが、チャンバー６内の基板Ｗに付着することを抑制または防止できる。これにより、基板Ｗの清浄度を高めることができる。さらに、各噴霧器５４が洗浄液を常時吐出すると、各処理ユニット２に伝達される排気圧が均一化されるので、複数の処理ユニット２間での基板Ｗの処理品質のばらつきを低減できる。

また本実施形態では、スクラバー３よりも上流側に配置された気液分離器２６が、処理ユニット２で発生した排気から液体を分離し、排気から液体成分を除去する。そして、気液分離器２６によって液体の含有量が低減された排気が、スクラバー３に送られる。したがって、スクラバー３で除去すべき薬液成分の量を低減させることが可能となり、その結果、基板処理装置１から排出される排気の清浄度をさらに高めることができる。

また本実施形態では、排気通路４１の複数の個別路４２が、複数の処理ユニット２にそれぞれ接続されており、排気通路４１の集合路４３が、複数の個別路４２のそれぞれに接続されている。複数の処理ユニット２で発生した排気は、複数の処理ユニット２からそれぞれ複数の個別路４２に排出される。そして、複数の個別路４２に流入した排気は、集合路４３を経て、基板処理装置１の外に配置された排気設備の方に導かれる。各処理ユニット２で発生した排気は、排気通路４１内を流れる過程で、洗浄液との接触によって浄化される。したがって、スクラバー３は、複数の処理ユニット２で発生した排気を基板処理装置１内で浄化できる。そのため、個々の処理ユニット２に対応する複数のスクラバー３を基板処理装置１内に設ける必要がない。

また本実施形態では、複数の噴霧器５４が、それぞれ、複数の個別路４２に配置されている。したがって、スクラバー３は、ある個別路４２で吐出される洗浄液とは異なる種類の洗浄液を別の個別路４２で吐出させることができる。そのため、スクラバー３は、排気に含まれる汚染物質に特化した洗浄液を個々の個別路４２で排気に接触させることができる。これにより、スクラバー３は、複数の処理ユニット２がそれぞれ異なる処理を行う場合においても、それぞれに対応する薬液成分の除去を行うことができる。

また本実施形態では、複数のスクラブフィルター４６が、それぞれ、複数の個別路４２に配置されている。したがって、スクラバー３は、排気と洗浄液とを個々の個別路４２内で確実に接触させることができると共に、個別路４２内での排気と洗浄液との接触面積を増加させることができる。そのため、スクラバー３は、複数の処理ユニット２で発生した排気から汚染物質を効率的に除去でき、排気の清浄度をさらに高めることができる。

また本実施形態では、複数のミストフィルター４８が、それぞれ、複数の個別路４２に配置されている。つまり、専用のミストフィルター４８が、個別路４２ごとに設けられている。したがって、スクラバー３は、個々の個別路４２で排気から液体成分を除去できる。そのため、スクラバー３は、複数の処理ユニット２で発生した排気から液体成分を確実に除去でき、排気の清浄度をさらに高めることができる。

また本実施形態では、排液装置６９の複数の排液路７１が、それぞれ複数の個別路４２に対応しており、各排液路７１が、対応する個別路４２から集合路４３まで延びている。各排液路７１が水平面に対して傾いており、排液路７１の下流端が、排液路７１の上流端よりも下方に配置されているので、複数の個別路４２内の液体は、自重で複数の排液路７１を集合路４３に向かって流れる。したがって、複数の個別路４２内の液体は、集合路４３に集められる。排液装置６９は、集合路４３で開口する排液口７３から集合路４３内の液体を吸引する。そのため、排液装置６９は、排気通路４１内のより広い範囲から液体を集めることができ、これによって、排気通路４１内の液体の残留量を低減できる。

本発明の実施形態の説明は以上であるが、本発明は、前述の実施形態の内容に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。
たとえば、前述の実施形態では、噴霧器５４が、各個別路４２に配置されている場合について説明したが、図７に示すように、噴霧器５４は、集合路４３に配置されていてもよい。この場合、図７に示すように、噴霧器５４だけでなく、スクラブフィルター４６およびミストフィルター４８も集合路４３に配置されていてもよい。

噴霧器５４が集合路４３に配置されている場合、個々の個別路４２に噴霧器５４を設けなくてもよい。したがって、基板処理装置１の部品点数を減少させることができ、基板処理装置１の構造を簡素化できる。同様に、スクラブフィルター４６およびミストフィルター４８が集合路４３に配置されている場合、個々の個別路４２にスクラブフィルター４６およびミストフィルター４８を設けなくてもよい。したがって、基板処理装置１の部品点数を減少させることができ、基板処理装置１の構造を簡素化できる。

また、前述の実施形態では、噴霧器５４が洗浄液を常時吐出する場合について説明したが、図６において二点鎖線で示すように、噴霧器５４は、洗浄液を間欠的に吐出してもよい。このように噴霧器５４から洗浄液を間欠的に吐出することにより、洗浄液の消費量を低減させることができる。
噴霧器５４が洗浄液を間欠的に吐出する場合、噴霧器５４が洗浄液を吐出する間隔（吐出が停止されてから再開されるまでの時間）は、予め定められた一定の間隔であってもよいし、排気通路４１内の気圧に基づいて設定される任意の間隔であってもよい。

具体的には、制御装置５は、上流排気圧センサー７８および下流排気圧センサー７９の一方または両方の検出値に基づいて噴霧器５４に洗浄液を間欠的に吐出させてもよい。スクラブフィルター４６が乾くと、スクラブフィルター４６の排気抵抗が小さくなるので、上流排気ダクト３２内の気圧が下がり（負圧の絶対値が大きくなり）、排気集合室３４内の気圧が上がる（負圧の絶対値が小さくなる）。したがって、制御装置５は、上流排気圧センサー７８および下流排気圧センサー７９の一方または両方の検出値に基づいて噴霧器５４に洗浄液を間欠的に吐出させることにより、洗浄液の消費量を低減しながら、スクラブフィルター４６が十分に濡れている状態を維持できる。

さらに、排気設備の吸引力は、スクラブフィルター４６を介して各処理ユニット２に伝達されるので、制御装置５は、スクラブフィルター４６への洗浄液の供給を制御することにより、処理ユニット２に伝達される排気圧を調整できる。したがって、制御装置５は、上流排気圧センサー７８および下流排気圧センサー７９の一方または両方の検出値に基づいて各スクラブフィルター４６への洗浄液の供給を制御することにより、複数の処理ユニット２の間での排気圧の差を低減できる。そのため、制御装置５は、各処理ユニット２内の排気圧を均一化することができる。

また、前述の実施形態では、複数のスクラブフィルター４６がそれぞれ複数の個別路４２に配置されている場合について説明したが、スクラバー３は、共通の個別路４２に対応する複数のスクラブフィルター４６と、複数のスクラブフィルター４６の状態を個別に切り替えるフィルター切替装置８０とを備えていてもよい。
具体的には、図８および図９に示すように、薬液の種類ごとに設けられた複数のスクラブフィルター４６（たとえば、酸性薬液用のスクラブフィルター４６と、アルカリ性薬液用のスクラブフィルター４６と）と、複数のスクラブフィルター４６の状態を個別に切り替えるフィルター切替装置８０とが、同一の個別路４２に対応付けられていてもよい。同様に、図７では、一つのスクラブフィルター４６が集合路４３に配置されている場合について説明したが、複数のスクラブフィルター４６とフィルター切替装置８０とが、集合路４３に対応付けられていてもよい。

図８に示す立方体状のスクラブフィルター４６Ａは、排気通路４１内の気体がスクラブフィルター４６Ａを通過する除去状態と、スクラブフィルター４６Ａに対する気体の通過が停止される除去停止状態との間で切り替えられる。除去状態は、スクラブフィルター４６Ａが排気通路４１内の除去位置（左側のスクラブフィルター４６Ａの位置）に配置されている状態であり、除去停止状態は、スクラブフィルター４６Ａが排気通路４１の外の除去停止位置（右側のスクラブフィルター４６Ａの位置）に配置されている状態である。したがって、フィルター切替装置８０は、除去位置と除去停止位置との間でスクラブフィルター４６Ａを移動させることにより、排気から汚染物質を除去するスクラブフィルター４６Ａを切り替えることができる。

また、図９に示す円柱状のスクラブフィルター４６Ｂは、スクラブフィルター４６Ｂの中心線が排気の流通方向Ｄ１に直交する姿勢で排気通路４１内に配置されている。複数のスクラブフィルター４６Ｂは、排気の流通方向Ｄ１およびスクラブフィルター４６Ｂの軸方向に直交する方向に並んでいる。各スクラブフィルター４６Ｂは、直径方向に対向する２つの開口部４７ｂが設けられた外周部を有する円筒状のフィルターケース４７Ｂ内に収容されている。フィルター切替装置８０は、２つの開口部４７ｂが開かれた除去位置（上側のスクラブフィルター４６Ｂの位置）と、２つの開口部４７ｂが排気通路４１内に配置された遮蔽部材８１によって閉じられた除去停止位置（下側のスクラブフィルター４６Ｂの位置）との間で、フィルターケース４７Ｂをその中心線まわりに回転させる。

図９に示すように、フィルターケース４７Ｂが除去位置（上側のスクラブフィルター４６Ｂの位置）に配置されると、スクラブフィルター４６Ｂは、排気通路４１内の気体がスクラブフィルター４６Ｂを通過する除去状態に切り替えられる。フィルターケース４７Ｂが除去停止位置（下側のスクラブフィルター４６Ｂの位置）に配置されると、スクラブフィルター４６Ｂは、スクラブフィルター４６Ｂに対する気体の通過が停止される除去停止状態に切り替えられる。したがって、フィルター切替装置８０は、フィルターケース４７Ｂを回転させることにより、排気から汚染物質を除去するスクラブフィルター４６Ｂを切り替えることができる。

また、前述の実施形態では、スクラブフィルター４６およびミストフィルター４８が、全ての個別路４２に配置されている場合について説明したが、スクラブフィルター４６およびミストフィルター４８は、一部の個別路４２だけに配置されていてもよい。また、スクラブフィルター４６およびミストフィルター４８の少なくとも一方が、全ての個別路４２から省略されてもよい。同様に、図７では、スクラブフィルター４６およびミストフィルター４８が、集合路４３に配置されている場合について説明したが、スクラブフィルター４６およびミストフィルター４８の少なくとも一方が、集合路４３から省略されてもよい。この場合は、噴霧器５４から吐出される洗浄液のみにより、排気中に含まれる薬液成分を除去することになる。洗浄液と薬液成分との接触面積が減少するが、構造を簡素化することができる。

また、前述の実施形態では、排気通路４１内の液体が、一箇所（排液口７３）から排出される場合について説明したが、排気通路４１内の液体は、複数の排液口７３から排出されてもよい。たとえば、複数の噴霧器５４にそれぞれ対応する複数の排液口７３が排気通路４１内に設けられていてもよい。この場合、薬液分離器３６の下面と排気洗浄ボックス３８の底面との間の隙間が設けられておらず、薬液分離器３６が、排気洗浄ボックス３８の底面に接していてもよい。すなわち、薬液分離器３６は、排気通路４１を上流側と下流側とに完全に仕切っていてもよい。ミスト分離器３７についても同様である。

また、前述の実施形態では、排気通路４１内の液体が共通の排液配管７０に排出される場合について説明したが、噴霧器５４から吐出される洗浄液の種類に応じて排液配管７０が切り替えられてもよい。具体的には、複数の排液配管７０と複数の排液バルブ７７とが設けられていてもよい。この場合、制御装置５は、複数の排液バルブ７７を切り替えることにより、噴霧器５４から吐出される洗浄液の種類に応じて排液配管７０を切り替えることができる。

また、前述の実施形態では、噴霧器５４が二種類の洗浄液（酸性洗浄液および中性洗浄液）を個別に吐出する場合について説明したが、噴霧器５４は、三種類の洗浄液（酸性洗浄液、アルカリ性洗浄液、および中性洗浄液）を個別に吐出してもよいし、酸性洗浄液と中性洗浄液との組み合わせ以外の二種類の洗浄液を個別に吐出してもよい。また、酸性洗浄液およびアルカリ性洗浄液が、共通の噴霧器５４から個別に吐出される場合には、制御装置５は、洗浄液を酸性洗浄液およびアルカリ性洗浄液の一方から他方に切り替える前に、中性洗浄液を噴霧器５４から吐出させてもよい。この場合、制御装置５は、噴霧器５４の内部や配管の内部を中性洗浄液によって洗い流すことができるので、酸性洗浄液および中性洗浄液が混ざり合うことを防止できる。

また、前述の実施形態では、噴霧器５４が複数のスプレーノズル５７を備えており、複数種の洗浄液（酸性洗浄液および中性洗浄液）が共通のスプレーノズル５７から吐出される場合について説明したが、複数種の洗浄液が、別々のスプレーノズル５７から吐出されてもよい。たとえば、洗浄液の種類ごとに専用のスプレーノズル５７が設けられてもよい。

また、前述の実施形態では、２つの処理ユニット２が、基板処理装置１に設けられている場合について説明したが、処理ユニット２の数は、１つであってもよいし、３つ以上でああってもよい。
また、前述の実施形態では、処理ユニット２が、基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式のユニットである場合について説明したが、処理ユニット２は、複数枚の基板Ｗを一括して処理するバッチ式のユニットであってもよい。つまり、基板処理装置１は、バッチ式の装置であってもよい。

また、前述の実施形態では、基板処理装置１が、円板状の基板Ｗを処理する装置である場合について説明したが、基板処理装置１は、液晶表示装置用基板などの多角形の基板Ｗを処理する装置であってもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。

１ ：基板処理装置
２ ：処理ユニット
３ ：スクラバー
５ ：制御装置
２６ ：気液分離器
２７ ：気液分離ボックス
２８ ：液体配管
２９ ：気体配管
３２ ：上流排気ダクト
３３ ：排気流入室
３４ ：排気集合室
３５ ：下流排気ダクト
３６ ：薬液分離器
３７ ：ミスト分離器
３８ ：排気洗浄ボックス
４１ ：排気通路
４２ ：個別路
４３ ：集合路
４４ ：吸気口
４５ ：排気口
４６ ：スクラブフィルター
４６Ａ ：スクラブフィルター
４６Ｂ ：スクラブフィルター
４７ ：フィルターケース
４７Ｂ ：フィルターケース
４８ ：ミストフィルター
４９ ：ミストフィルターケース
５０ ：上流開口
５１ ：下流開口
５２ ：下方開口
５３ ：噴霧装置
５４ ：噴霧器（吐出器）
５５ ：洗浄液供給装置
５６ ：噴霧塔
５７ ：スプレーノズル
６９ ：排液装置
７０ ：排液配管
７１ ：排液路
７２ ：吸引装置
７３ ：排液口
７４ ：アスピレーター
７８ ：上流排気圧センサー
７９ ：下流排気圧センサー
８０ ：フィルター切替装置
８１ ：遮蔽部材
Ｄ１ ：流通方向
Ｗ ：基板

Claims (19)

1. 複数種の薬液の少なくとも一つを基板に供給する処理ユニットと、
   前記処理ユニットで発生した薬液を含む排気を基板処理装置の外に配置された排気設備の方に導く排気通路と、前記排気を浄化する複数種の洗浄液を前記排気通路内で個別に吐出できる吐出器とを含み、前記排気通路内を流れる前記排気に洗浄液を接触させることにより、前記排気を浄化するスクラバーと、
   前記排気に含まれる薬液の種類に基づいて前記複数種の洗浄液のいずれか一つを選択し、選択された洗浄液を前記吐出器から吐出させる制御装置とを含む、基板処理装置。
2. 前記スクラバーは、前記排気通路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持するスクラブフィルターをさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記吐出器は、前記スクラブフィルターに向けて洗浄液を吐出する、請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記スクラバーは、前記吐出器およびスクラブフィルターよりも下流側で前記排気通路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、前記気体から液体成分を除去するミストフィルターをさらに含む、請求項２または３に記載の基板処理装置。
5. 前記スクラバーは、前記排気通路内で開口する排液口に液体を吸引させることにより、前記排気通路内の液体を排出する排液装置を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
6. 前記スクラバーは、前記排液口よりも上流側で前記排気通路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持するスクラブフィルターをさらに含み、
   前記排液装置は、前記排気通路内の液体が前記排液口に向かって流れるように、前記スクラブフィルターよりも上流側から前記スクラブフィルターの下方を通って前記排液口まで延びる排液路を含む、請求項５に記載の基板処理装置。
7. 前記スクラバーは、前記排気通路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持するスクラブフィルターをさらに含み、
   前記吐出器は、洗浄液を常時吐出する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
8. 前記スクラバーは、前記排気通路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持するスクラブフィルターをさらに含み、
   前記吐出器は、洗浄液を間欠的に吐出する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
9. 前記スクラバーは、前記排気通路内の気圧を検出する排気圧センサーをさらに含み、
   前記制御装置は、前記排気圧センサーの検出値に基づいて前記吐出器に洗浄液を間欠的に吐出させる、請求項８に記載の基板処理装置。
10. 前記スクラバーは、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持する複数のスクラブフィルターと、前記複数のスクラブフィルターの状態を個別に切り替えるフィルター切替装置とをさらに含み、
    前記フィルター切替装置は、前記排気通路内の気体が前記スクラブフィルターを通過する除去状態と、前記スクラブフィルターに対する気体の通過が停止される除去停止状態との間で、前記複数のスクラブフィルターの状態を個別に切り替えるものであり、
    前記制御装置は、前記排気に含まれる薬液の種類に基づいて前記複数のスクラブフィルターのいずれか一つを選択し、選択された前記スクラブフィルターを前記排気が通過するように、前記複数のスクラブフィルターの状態を前記フィルター切替装置によって切り替えさせる、請求項１〜９のいずれか一項に記載の基板処理装置。
11. 前記処理ユニットは、前記スクラバーよりも上流側に配置されており、前記処理ユニットで発生した排気から液体を除去する気液分離器を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置。
12. 前記処理ユニットは、それぞれが複数種の薬液の少なくとも一つを基板に供給する複数の処理ユニットを含み、
    前記排気通路は、前記複数の処理ユニットにそれぞれ接続された複数の個別路と、前記複数の個別路から下流側に延びる集合路とを含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の基板処理装置。
13. 前記吐出器は、前記複数の個別路にそれぞれ配置された複数の吐出器を含む、請求項１２に記載の基板処理装置。
14. 前記スクラバーは、前記複数の個別路にそれぞれ配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持する複数のスクラブフィルターをさらに含む、請求項１３に記載の基板処理装置。
15. 前記スクラバーは、前記複数の吐出器および複数のスクラブフィルターよりも下流側で前記複数の個別路にそれぞれ配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、前記気体から液体成分を除去する複数のミストフィルターをさらに含む、請求項１４に記載の基板処理装置。
16. 前記吐出器は、前記集合路に配置されている、請求項１２に記載の基板処理装置。
17. 前記スクラバーは、前記集合路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、液体を内部に保持するスクラブフィルターをさらに含む、請求項１６に記載の基板処理装置。
18. 前記スクラバーは、前記吐出器およびスクラブフィルターよりも下流側で前記集合路に配置されており、前記排気通路内を流れる気体を通過させると共に、前記気体から液体成分を除去するミストフィルターをさらに含む、請求項１７に記載の基板処理装置。
19. 前記スクラバーは、前記集合路内で開口する排液口に液体を吸引させることにより、前記排気通路内の液体を排出する排液装置をさらに含み、
    前記排液装置は、前記複数の個別路のそれぞれから前記集合路まで延びており、前記排気通路内の液体が前記複数の個別路から前記集合路に流れるように水平面に対して傾いた複数の排液路を含む、請求項１２〜１８のいずれか一項に記載の基板処理装置。

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