JP2014197592A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板処理装置を工場に設置する際の時間を短縮すること。
【解決手段】基板処理装置１は、排気切替装置２７にそれぞれ接続されており、排気切替装置２７から排出された排気が流入する複数の第１下流排気管２８と、排気切替装置２７にそれぞれ接続されており、排気切替装置２７から排出された排気が流入する複数の第２下流排気管２９とを含む。基板処理装置１は、さらに、複数の第１下流排気管２８のそれぞれに接続されており、複数の第１下流排気管２８のそれぞれから排出された排気を基板処理装置１が設置される工場に設けられた第１排気処理設備４１に導く第１集合排気管３８と、複数の第２下流排気管２９のそれぞれに接続されており、複数の第２下流排気管２９のそれぞれから排出された排気を基板処理装置１が設置される工場に設けられた第２排気処理設備４２に導く第２集合排気管３９とを含む。
【選択図】図３

Description

本発明は、基板を処理する基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。

半導体装置や液晶表示装置などの製造工程では、半導体ウエハや液晶表示装置用ガラス基板などの基板を処理する基板処理装置が用いられる。
特許文献１に記載の枚葉式の基板処理装置は、チャンバー内で基板をほぼ水平に保持して回転させるためのスピンチャックと、スピンチャックに保持された基板の上面にＳＣ１を供給するための第１ノズルと、スピンチャックに保持された基板の上面にフッ酸を供給するための第２ノズルと、スピンチャックを収容するカップとを備えている。

特許文献１の基板処理装置は、さらに、カップに接続された上流端とチャンバー外に配置された下流端とを含む集合排気管と、集合排気管の下流端に接続された排気切替装置と、排気切替装置に接続された第１個別排気管、第２個別排気管、および第３個別排気管とを備えている。第１個別排気管の下流端は、ＳＣ１排気処理設備に接続されている。第２個別排気管の下流端は、フッ酸排気処理設備に接続されている。第３個別排気管の下流端は、ＩＰＡ排気処理設備に接続されている。

チャンバー内で発生したＳＣ１を含む排気は、カップおよび集合排気管を通って排気切替装置に排出される。ＳＣ１が基板に供給されるときには、排気切替装置から第１個別排気管に排気が流れるように、排気切替装置が設定されている。したがって、排気切替装置内に排出されたＳＣ１を含む排気は、第１個別排気管からＳＣ１排気処理設備に排出される。同様に、チャンバー内で発生したフッ酸を含む排気は、集合排気管、排気切替装置、および第２個別排気管を通ってフッ酸排気処理設備に排出され、チャンバー内で発生したＩＰＡを含む排気は、集合排気管、排気切替装置、および第３個別排気管を通ってＩＰＡ排気処理設備に排出される。

特開２０１１−２０４９３３号公報

排気を処理するための排気処理設備は、通常、基板処理装置が設置される工場に設けられている。したがって、特許文献１の基板処理装置を工場に設置するときには、３つの個別排気管を工場で３つの排気処理設備に接続する必要がある。また、一般的な枚葉式の基板処理装置は、複数のチャンバーを備えている。したがって、特許文献１の基板処理装置では、第１個別排気管、第２個別排気管、および第３個別排気管のそれぞれが複数設けられていると考えられる。そのため、基板処理装置を工場に設置するときに、各個別排気管を排気処理設備に接続する作業に長時間を要する。

そこで、本発明の目的は、基板処理装置を工場に設置する際の時間を短縮できる基板処理装置を提供することである。

前記目的を達成するための請求項１に記載の発明は、基板を一枚ずつ処理する基板処理装置であって、第１薬品流体を基板に供給する第１ノズルと、前記第１薬品流体とは種類の異なる第２薬品流体を基板に供給する第２ノズルとがそれぞれに設けられた複数の処理ユニットと、排気が流入する流入口と前記流入口に流入した排気を排出する第１流出口および第２流出口とを有する切替ボックスと、前記第１流出口を開くと共に前記第２流出口を閉じる第１位置と、前記第２流出口を開くと共に前記第１流出口を閉じる第２位置とに移動可能な弁体と、前記弁体を移動させる切替アクチュエータとがそれぞれに設けられた複数の排気切替装置と、前記複数の処理ユニットをそれぞれ複数の前記流入口に接続しており、前記複数の処理ユニットで発生した排気をそれぞれ前記複数の前記流入口に導く複数の上流排気管と、複数の前記第１流出口にそれぞれ接続されており、前記複数の前記第１流出口から排出された排気が流入する複数の第１下流排気管と、複数の前記第２流出口にそれぞれ接続されており、前記複数の前記第２流出口から排出された排気が流入する複数の第２下流排気管と、前記第１薬品流体を含む排気が前記流入口から前記第１流出口に流れ、前記第２薬品流体を含む排気が前記流入口から前記第２流出口に流れるように、前記複数の排気切替装置を制御する制御装置と、前記複数の第１下流排気管のそれぞれに接続されており、前記複数の第１下流排気管のそれぞれから排出された排気を基板処理装置が設置される工場に設けられた第１排気処理設備に導く第１集合排気管と、前記複数の第２下流排気管のそれぞれに接続されており、前記複数の第２下流排気管のそれぞれから排出された排気を基板処理装置が設置される工場に設けられた第２排気処理設備に導く第２集合排気管とを含む、基板処理装置である。

この構成によれば、各処理ユニットが、第１薬品流体（液体または気体）を基板に供給する第１ノズルと、第１薬品流体とは種類の異なる第２薬品流体（液体または気体）を基板に供給する第２ノズルとを備えている。各処理ユニットは、第１薬品流体および第２薬品流体の少なくとも一つを基板に供給することにより、基板を処理する。そのため、第１薬品流体を含む排気および第２薬品流体を含む排気の少なくとも一つが、各処理ユニットで発生する。

複数の処理ユニットは、それぞれ、複数の上流排気管に接続されている。複数の上流排気管は、それぞれ、複数の排気切替装置に接続されている。各排気切替装置は、第１下流排気管および第２下流排気管に接続されている。すなわち、第１下流排気管および第２下流排気管のそれぞれが、排気切替装置ごとに設けられている。複数の排気切替装置の切替アクチュエータは、第１薬品流体を含む排気が切替ボックスの流入口から切替ボックスの第１流出口に流れ、第２薬品流体を含む排気が切替ボックスの流入口から切替ボックスの第２流出口に流れるように、制御装置によって制御される。

具体的には、各処理ユニットから対応する上流排気管に排出された排気は、切替ボックスの流入口を通じて切替ボックス内に導かれ、排気切替装置の弁体によって切替ボックスの第１流出口または第２流出口に導かれる。したがって、上流排気管に排出された排気は、排気切替装置によって第１下流排気管または第２下流排気管に導かれる。すなわち、第１薬品流体を含む排気は、排気切替装置によって第１下流排気管に導かれ、第２薬品流体を含む排気は、排気切替装置によって第２下流排気管に導かれる。

複数の第１下流排気管のそれぞれは、第１集合排気管に接続されている。第１集合排気管は、基板処理装置が設置される工場に設けられた第１排気処理設備に接続されている。したがって、複数の下流排気管内の排気は、複数の第１下流排気管のそれぞれから第１集合排気管内に流れ、第１集合排気管によって第１排気処理設備に導かれる。これにより、排気（第１薬品流体を含む排気）が浄化される。

同様に、複数の第２下流排気管のそれぞれは、第２集合排気管に接続されている。第２集合排気管は、基板処理装置が設置される工場に設けられた第２排気処理設備に接続されている。したがって、複数の下流排気管内の排気は、複数の第２下流排気管のそれぞれから第２集合排気管内に流れ、第２集合排気管によって第２排気処理設備に導かれる。これにより、排気（第２薬品流体を含む排気）が浄化される。

このように、複数の第１下流排気管が、第１排気処理設備よりも排気の流通方向における上流側で集合しており、第１集合排気管を介して第１排気処理設備に接続されているので、複数の第１下流排気管を第１排気処理設備に個別に接続しなくてもよい。同様に、複数の第２下流排気管が、第２排気処理設備よりも排気の流通方向における上流側で集合しており、第２集合排気管を介して第２排気処理設備に接続されているので、複数の第２下流排気管を第２排気処理設備に個別に接続しなくてもよい。

よって、基板処理装置を工場に設置する際には、第１集合排気管を第１排気処理設備に接続し、第２集合排気管を第２排気処理設備に接続すればよい。さらに、処理ユニットの数が増えたとしても、第１排気処理設備および第２排気処理設備に対する基板処理装置の接続箇所は、二カ所（第１集合排気管の下流端と第２集合排気管の下流端）であり、増加しない。したがって、基板処理装置を工場に設置する際の時間を短縮できると共に、設置に要する時間を安定させることができる。

請求項２に記載の発明は、前記基板処理装置は、前記第１集合排気管内を流れる気体の流量を変更する第１流量調整バルブと、前記第２集合排気管内を流れる気体の流量を変更する第２流量調整バルブとをさらに含み、前記制御装置は、前記第１薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が増加するのに伴って前記第１流量調整バルブの開度を増加させ、前記第１薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が減少するのに伴って前記第１流量調整バルブの開度を減少させ、前記制御装置は、前記第２薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が増加するのに伴って前記第２流量調整バルブの開度を増加させ、前記第２薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が減少するのに伴って前記第２流量調整バルブの開度を減少させる、請求項１に記載の基板処理装置である。

薬品流体が気体（薬品ガス）である場合、ノズルが薬品ガスを吐出している間は、薬品流体を含む排気が処理ユニット内に発生する。また、ノズルからの薬品ガスの吐出が停止された後も、薬品ガスが基板の周囲に残留するので、薬品流体を含む排気が処理ユニット内に残留する。
また、薬品流体が液体（薬液）である場合、ノズルが薬液を吐出すると、薬液のミストや蒸気が発生する。また、ノズルから吐出された薬液が基板に着液した際にも、薬液のミストや蒸気が発生する。そのため、ノズルが薬液を吐出している間は、薬品流体を含む排気が処理ユニット内に発生する。また、薬液を含む液体が基板から飛散すると、薬液を含む液体が基板から離れる際や、薬液を含む液体が基板の周囲の部材に衝突した際に、薬液のミストや蒸気が発生する。そのため、ノズルからの薬液の吐出が停止された後も、薬品流体を含む排気が処理ユニット内に発生する。

この構成によれば、第１集合排気管から第１排気処理設備に排出される排気の流量が、第１流量調整バルブによって調整される。同様に、第２集合排気管から第２排気処理設備に排出される排気の流量が、第２流量調整バルブによって調整される。第１流量調整バルブおよび第２流量調整バルブの開度は、各処理ユニットで行われている処理の内容に応じて制御装置に個別に調整される。

具体的には、制御装置は、第１薬品流体を含む排気を発生している処理ユニットの数が増加するのに伴って第１流量調整バルブの開度を増加させる。また、制御装置は、第１薬品流体を含む排気を発生している処理ユニットの数が減少するのに伴って第１流量調整バルブの開度を減少させる。すなわち、制御装置は、第１薬品流体を含む排気を発生している処理ユニットの数に応じて第１流量調整バルブの開度を調整する。

同様に、制御装置は、第２薬品流体を含む排気を発生している処理ユニットの数が増加するのに伴って第２流量調整バルブの開度を増加させる。また、制御装置は、第２薬品流体を含む排気を発生している処理ユニットの数が減少するのに伴って第２流量調整バルブの開度を減少させる。すなわち、制御装置は、第２薬品流体を含む排気を発生している処理ユニットの数に応じて第２流量調整バルブの開度を調整する。

第１排気処理設備が一定の排気圧で基板処理装置を排気しており、第１薬品流体を含む排気を発生している処理ユニットの数が同じである場合に、第１流量調整バルブの開度が変更されると、処理ユニット内での気流の速度が変化する。したがって、第１薬品流体を含む排気を発生している処理ユニットの数に応じて第１流量調整バルブの開度を調整することにより、処理ユニット内での気流の速度の変化を抑制できる。同様に、第２薬品流体を含む排気を発生している処理ユニットの数に応じて第２流量調整バルブの開度を調整することにより、処理ユニット内での気流の速度の変化を抑制できる。気流の乱れが処理ユニット内で発生すると、パーティクルが舞い上がり、基板が汚染されるおそれがある。したがって、処理ユニット内の気流を安定させることにより、基板の品質の安定性を高めることができる。

請求項３に記載の発明のように、前記第１薬品流体および第２薬品流体とは種類の異なる第３薬品流体を基板に供給する第３ノズルが前記複数の処理ユニットのそれぞれにさらに設けられていてもよい。前記切替ボックスは、前記流入口に流入した排気を排出する第３流出口をさらに有していてもよい。前記弁体は、前記第１流出口を開くと共に前記第２流出口および第３流出口を閉じる第１位置と、前記第２流出口を開くと共に前記第１流出口および第３流出口を閉じる第２位置と、前記第３流出口を開くと共に前記第１流出口および第２流出口を閉じる第３位置とに移動可能であってもよい。前記制御装置は、前記第１薬品流体を含む排気が前記流入口から前記第１流出口に流れ、前記第２薬品流体を含む排気が前記流入口から前記第２流出口に流れ、前記第３薬品流体を含む排気が前記流入口から前記第３流出口に流れるように、前記複数の排気切替装置を制御してもよい。前記基板処理装置は、複数の前記第３流出口にそれぞれ接続されており、前記複数の前記第３流出口から排出された排気が流入する複数の第３下流排気管と、前記複数の第３下流排気管のそれぞれに接続されており、前記複数の第３下流排気管のそれぞれから排出された排気を基板処理装置が設置される工場に設けられた第３排気処理設備に導く第３集合排気管とをさらに含んでいてもよい。

請求項４に記載の発明は、前記基板処理装置は、前記第１集合排気管内を流れる気体の流量を変更する第１流量調整バルブと、前記第２集合排気管内を流れる気体の流量を変更する第２流量調整バルブと、前記第３集合排気管内を流れる気体の流量を変更する第３流量調整バルブとをさらに含んでいてもよい。
この場合、前記制御装置は、前記第１薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が増加するのに伴って前記第１流量調整バルブの開度を増加させ、前記第１薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が減少するのに伴って前記第１流量調整バルブの開度を減少させる。また、前記制御装置は、前記第２薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が増加するのに伴って前記第２流量調整バルブの開度を増加させ、前記第２薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が減少するのに伴って前記第２流量調整バルブの開度を減少させる。また、前記制御装置は、前記第３薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が増加するのに伴って前記第３流量調整バルブの開度を増加させ、前記第３薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が減少するのに伴って前記第３流量調整バルブの開度を減少させる。

請求項５に記載の発明のように、前記第１薬品流体および第２薬品流体は、酸性薬品流体、アルカリ性薬品流体、および有機薬品流体のうちの２種であってもよい。また、請求項６に記載の発明のように、前記第１薬品流体、第２薬品流体、および第３薬品流体は、それぞれ、酸性薬品流体、アルカリ性薬品流体、および有機薬品流体であってもよい。

本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す模式的な平面図である。 処理ユニットの内部を水平方向に見た模式図である。 基板処理装置の排気システムを示す模式図である。 排気切替装置の模式的な断面図である。 図４に示す矢印Ｖの方向に見た排気切替装置の模式的な断面図である。 処理ユニットによって行われる基板の処理の一例を示す工程図である。 １２台の処理ユニットでの排気の発生状況と各流量調整バルブの開度の時間変化とを示すグラフである。

以下では、本発明の実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置１の概略構成を示す模式的な平面図である。
図１に示すように、基板処理装置１は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、収容器としての複数のキャリアＣを保持する収容器保持ユニットとしてのロードポート２と、基板Ｗを処理する複数（この実施形態では１２台）の処理ユニット３とを含む。処理ユニット３は上下方向にも積層して配置されている。基板処理装置１は、さらに、ロードポート２と処理ユニット３との間で基板Ｗを搬送する搬送ロボットとしてのインデクサロボットＩＲと、インデクサロボットＩＲと処理ユニット３との間で基板Ｗを搬送する搬送ロボットとしてのセンターロボットＣＲと、基板処理装置１に備えられた装置の動作やバルブの開閉を制御する制御装置４とを含む。

図１に示すように、ロードポート２および処理ユニット３は、水平方向に間隔を空けて配置されている。複数枚の基板Ｗを収容する複数のキャリアＣは、平面視で、水平な配列方向Ｄ１に配列されている。インデクサロボットＩＲは、キャリアＣからセンターロボットＣＲに複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送し、センターロボットＣＲからキャリアＣに複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送する。同様に、センターロボットＣＲは、インデクサロボットＩＲから処理ユニット３に複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送し、処理ユニット３からインデクサロボットＩＲに複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送する。また、センターロボットＣＲは、必要に応じて複数の処理ユニット３の間で基板Ｗを搬送する。

図１に示すように、インデクサロボットＩＲは、平面視Ｕ字状の２つのハンドＨを備えている。２つのハンドＨは、異なる高さに配置されている。各ハンドＨは、基板Ｗを水平な姿勢で支持する。インデクサロボットＩＲは、ハンドＨを水平方向および鉛直方向に移動させる。さらに、インデクサロボットＩＲは、鉛直軸線まわりに回転（自転）することにより、ハンドＨの向きを変更する。インデクサロボットＩＲは、受渡位置（図１に示す位置）を通る経路に沿って配列方向Ｄ１に移動する。受渡位置は、平面視で、インデクサロボットＩＲおよびセンターロボットＣＲが配列方向Ｄ１に直交する方向に対向する位置である。インデクサロボットＩＲは、任意のキャリアＣおよびセンターロボットＣＲにハンドＨを対向させる。インデクサロボットＩＲは、ハンドＨを移動させることにより、キャリアＣに基板Ｗを搬入する搬入動作と、キャリアＣから基板Ｗを搬出する搬出動作を行う。また、インデクサロボットＩＲは、センターロボットＣＲと協働して、インデクサロボットＩＲおよびセンターロボットＣＲの一方から他方に基板Ｗを移動させる受渡動作を受渡位置で行う。

図１に示すように、インデクサロボットＩＲと同様に、センターロボットＣＲは、平面視Ｕ字状の２つのハンドＨを備えている。２つのハンドＨは、異なる高さに配置されている。各ハンドＨは、基板Ｗを水平な姿勢で支持する。センターロボットＣＲは、ハンドＨを水平方向および鉛直方向に移動させる。さらに、センターロボットＣＲは、鉛直軸線まわりに回転（自転）することにより、ハンドＨの向きを変更する。センターロボットＣＲは、平面視において複数の処理ユニット３に取り囲まれている。センターロボットＣＲは、任意の処理ユニット３およびインデクサロボットＩＲにハンドＨを対向させる。そして、センターロボットＣＲは、ハンドＨを移動させることにより、処理ユニット３に基板Ｗを搬入する搬入動作と、処理ユニット３から基板Ｗを搬出する搬出動作を行う。また、センターロボットＣＲは、インデクサロボットＩＲと協働して、インデクサロボットＩＲおよびセンターロボットＣＲの一方から他方に基板Ｗを移動させる受渡動作を行う。

図２は、処理ユニット３の内部を水平方向に見た模式図である。
図２に示すように、各処理ユニット３は、枚葉式のユニットである。各処理ユニット３は、内部空間を有する箱形のチャンバー５と、チャンバー５内で一枚の基板Ｗを水平な姿勢で保持して、基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸線Ａ１まわりに基板Ｗを回転させるスピンチャック６と、スピンチャック６に保持されている基板Ｗに向けて処理液を吐出する複数のノズルと、スピンチャック６を取り囲む筒状のカップ７とを含む。

図２に示すように、チャンバー５は、スピンチャック６等を収容する箱形の隔壁８と、隔壁８の上部から隔壁８内にクリーンエアー（フィルターによってろ過された空気）を送る送風ユニットとしてのＦＦＵ９（ファン・フィルタ・ユニット９）と、隔壁８の下部からチャンバー５内の気体を排出する室内排気ダクト１０とを含む。ＦＦＵ９は、隔壁８の上方に配置されている。ＦＦＵ９は、隔壁８の天井からチャンバー５内に下向きにクリーンエアーを送る。室内排気ダクト１０は、カップ７の底部に接続されており、基板処理装置１が設置される工場に設けられた排気処理設備に向けてチャンバー５内の気体を案内する。したがって、チャンバー５内を下方に流れるダウンフロー（下降流）が、ＦＦＵ９および室内排気ダクト１０によって形成される。基板Ｗは、チャンバー５内にダウンフローが形成されている状態で処理される。

図２に示すように、スピンチャック６は、基板Ｗを水平に保持する円盤状のスピンベース１２と、基板Ｗおよびスピンベース１２を回転軸線Ａ１まわりに回転させるスピンモータ１３とを含む。スピンチャック６は、基板Ｗを水平方向に挟むことにより基板Ｗを水平に保持する挟持式のチャックであってもよいし、非デバイス形成面である基板Ｗの裏面（下面）を吸着させることにより基板Ｗを水平に保持するバキューム式のチャックであってもよい。図２は、スピンチャック６が複数のチャックピン１１によって基板Ｗを挟持する挟持式のチャックである場合を示している。カップ７は、スピンベース１２を取り囲んでいる。上向きに開いたカップ７の上端部は、スピンベース１２よりも上方に配置されている。したがって、基板Ｗの周囲に排出された薬液やリンス液などの処理液は、カップ７によって受け止められ、カップ７の内部で開口する排液口７ａから排出される。

図２に示すように、複数のノズルは、基板Ｗに向けて酸性薬液を吐出する第１ノズルとしての酸性薬液ノズル１４と、基板Ｗに向けてアルカリ性薬液を吐出する第２ノズルとしてのアルカリ性薬液ノズル１５と、基板Ｗに向けて有機薬液を吐出する第３ノズルとしての有機薬液ノズル１６と、基板Ｗに向けてリンス液を吐出するリンス液ノズル１７とを含む。酸性薬液ノズル１４は、吐出口が静止した状態で基板Ｗの上面中央部に向けて処理液を吐出する固定ノズルであってもよいし、基板Ｗの上面に対する処理液の着液位置が中央部と周縁部との間で移動するように移動しながら処理液を吐出するスキャンノズルであってもよい。アルカリ性薬液ノズル１５、有機薬液ノズル１６、およびリンス液ノズル１７についても同様である。

図２に示すように、処理ユニット３は、酸性薬液ノズル１４に接続された第１配管としての酸性薬液配管１８と、酸性薬液配管１８に介装された第１バルブとしての酸性薬液バルブ１９とを含む。同様に、処理ユニット３は、アルカリ性薬液ノズル１５に接続された第２配管としてのアルカリ性薬液配管２０と、アルカリ性薬液配管２０に介装された第２バルブとしてのアルカリ性薬液バルブ２１と、有機薬液ノズル１６に接続された第３配管としての有機薬液配管２２と、有機薬液配管２２に介装された第３バルブとしての有機薬液バルブ２３と、リンス液ノズル１７に接続されたリンス液配管２４と、リンス液配管２４に介装されたリンス液バルブ２５とを含む。

酸性薬液バルブ１９が開かれると、酸性薬液供給源からの酸性薬液が、基板Ｗの上面に向けて酸性薬液ノズル１４から吐出される。同様に、アルカリ性薬液バルブ２１が開かれると、アルカリ性薬液供給源からのアルカリ性薬液が、基板Ｗの上面に向けてアルカリ性薬液ノズル１５から吐出される。有機薬液バルブ２３が開かれると、有機薬液供給源からの有機薬液が、基板Ｗの上面に向けて有機薬液ノズル１６から吐出される。リンス液バルブ２５が開かれると、リンス液供給源からのリンス液が、基板Ｗの上面に向けてリンス液ノズル１７から吐出される。

酸性薬液の一例は、フッ酸（フッ化水素酸）であり、アルカリ性薬液の一例は、ＳＣ１（アンモニア過酸化水素水）である。有機薬液の一例は、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）であり、リンス液の一例は、純水（脱イオン水：Ｄeionzied Ｗater）である。酸性薬液は、フッ酸に限らず、硫酸および塩酸の少なくとも一方を含む薬液であってもよい。また、アルカリ性薬液は、ＳＣ１に限らず、ＴＭＡＨ（トリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド）などを含む薬液であってもよい。有機薬液は、ＩＰＡに限らず、ＨＦＥ（ハイドロフロロエーテル）であってもよい。リンス液は、純水に限らず、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、および希釈濃度（たとえば、１０〜１００ｐｐｍ程度）の塩酸水のいずれかであってもよい。

図３は、基板処理装置１の排気システムを示す模式図である。図４は、排気切替装置２７の模式的な断面図である。図５は、図４に示す矢印Ｖの方向に見た排気切替装置２７の模式的な断面図である。図３では、１２台の処理ユニット３のうちの３台を図示し、他の９台の図示を省略しているが、他の９台の処理ユニット３も、図３中の３台の処理ユニット３と同様に排気システムに接続されている。

図３に示すように、基板処理装置１は、複数の室内排気ダクト１０にそれぞれ接続された複数の上流排気管２６と、複数の上流排気管２６にそれぞれ接続された複数の排気切替装置２７とを含む。基板処理装置１は、さらに、複数の排気切替装置２７にそれぞれ接続された複数の第１下流排気管２８と、複数の排気切替装置２７にそれぞれ接続された複数の第２下流排気管２９と、複数の排気切替装置２７にそれぞれ接続された複数の第３下流排気管３０とを含む。

図４に示すように、排気切替装置２７は、１つの上流排気管２６と３つの下流排気管（第１下流排気管２８、第２下流排気管２９、および第３下流排気管３０）とに接続された切替ボックス３１と、上流排気管２６から切替ボックス３１内に流入した排気を３つの下流排気管のいずれかに排出させる弁体３２と、弁体３２を移動させることにより、排気が排出される下流排気管を切り替える切替アクチュエータ３３とを含む。

図４および図５に示すように、切替ボックス３１は、上流排気管２６が接続された流入口３４と、第１下流排気管２８、第２下流排気管２９、および第３下流排気管３０にそれぞれ接続された３つの流出口（第１流出口３５、第２流出口３６、および第３流出口３７）とを含む。第１下流排気管２８は、第１流出口３５に接続されており、第２下流排気管２９は、第２流出口３６に接続されている。第３下流排気管３０は、第３流出口３７に接続されている。

図４および図５に示すように、弁体３２は、切替ボックス３１内に配置されている。弁体３２は、たとえば、排気を通過させる通過口３２ａが形成された円板状である。弁体３２は、弁体３２の中心線まわりに回転可能に切替ボックス３１に保持されている。弁体３２は、３つの流出口のうちの２つを閉じ、残りの１つを開く。すなわち、弁体３２は、第１流出口３５が開くと共に第２流出口３６および第３流出口３７が閉じる第１位置と、第２流出口３６が開くと共に第１流出口３５および第３流出口３７が閉じる第２位置と、第３流出口３７が開くと共に第１流出口３５および第２流出口３６が閉じる第３位置（図５に示す位置）との間で移動可能である。

図４および図５に示すように、切替アクチュエータ３３は、たとえば、モータ３３ａとモータ３３ａの動力を伝達する伝達装置３３ｂとを含む。切替アクチュエータ３３は、第１位置、第２位置、および第３位置の間で弁体３２を移動させる。さらに、切替アクチュエータ３３は、第１位置、第２位置、および第３位置のいずれかに弁体３２を位置させる。切替アクチュエータ３３は、制御装置４によって制御される。制御装置４は、３つの流出口のいずれか一つを選択する。そして、制御装置４は、選択した流出口が開かれるように切替アクチュエータ３３を制御する。これにより、弁体３２によって閉じられる２つの流出口が切り替えられ、排気が排出される下流排気管が、３つの下流排気管の中で切り替えられる。

図３に示すように、基板処理装置１は、基板処理装置１に設けられた全ての第１下流排気管２８に接続された第１集合排気管３８と、基板処理装置１に設けられた全ての第２下流排気管２９に接続された第２集合排気管３９と、基板処理装置１に設けられた全ての第３下流排気管３０に接続された第３集合排気管４０とを含む。
第１集合排気管３８は、排気の流通方向における最も上流側の第１下流排気管２８との接続位置から下流側に延びる配管である。同様に、第２集合排気管３９は、排気の流通方向における最も上流側の第２下流排気管２９との接続位置から下流側に延びる配管であり、第３集合排気管４０は、排気の流通方向における最も上流側の第３下流排気管３０との接続位置から下流側に延びる配管である。

図３に示すように、第１集合排気管３８は、基板処理装置１が設置される工場に設けられた第１排気処理設備４１（たとえば、スクラバー：scrubber）に接続されている。同様に、第２集合排気管３９は、基板処理装置１が設置される工場に設けられた第２排気処理設備４２に接続されており、第３集合排気管４０は、基板処理装置１が設置される工場に設けられた第３排気処理設備４３に接続されている。

図３に示すように、第１排気処理設備４１は、酸性排気（酸性薬液を含む気体）を浄化する酸性排気処理設備であり、第２排気処理設備４２は、アルカリ性排気（アルカリ性薬液を含む気体）を浄化するアルカリ性排気処理設備である。第３排気処理設備４３は、有機排気（有機薬液を含む気体）を浄化する有機排気処理設備である。すなわち、第１排気処理設備４１、第２排気処理設備４２、および第３排気処理設備４３は、異なる種類の排気を浄化する設備である。

第１排気処理設備４１、第２排気処理設備４２、および第３排気処理設備４３は、それぞれ、第１集合排気管３８、第２集合排気管３９、および第３集合排気管４０の内部を吸引している。第１排気処理設備４１の吸引力は、第１集合排気管３８から各第１下流排気管２８に伝達され、各第１下流排気管２８から各排気切替装置２７に伝達される。同様に、第２排気処理設備４２の吸引力は、第２集合排気管３９から各第２下流排気管２９に伝達され、各第２下流排気管２９から各排気切替装置２７に伝達される。また、第３排気処理設備４３の吸引力は、第３集合排気管４０から各第３下流排気管３０に伝達され、各第３下流排気管３０から各排気切替装置２７に伝達される。

制御装置４は、処理ユニット３から排出される排気に含まれる薬液の種類に基づいて、第１下流排気管２８、第２下流排気管２９、および第３下流排気管３０のうちの一つを選択する。そして、制御装置４は、排気切替装置２７を制御することにより、選択された下流排気管を上流排気管２６に接続させる。したがって、処理ユニット３から上流排気管２６に排出された排気は、排気切替装置２７を介して、選択された下流排気管に吸引され、下流排気管から第１排気処理設備４１、第２排気処理設備４２、および第３排気処理設備４３のいずれかに吸引される。

図３に示すように、基板処理装置１は、第１集合排気管３８内を流れる気体の流量を変更する第１流量調整バルブ４４と、第２集合排気管３９内を流れる気体の流量を変更する第２流量調整バルブ４５と、第３集合排気管４０内を流れる気体の流量を変更する第３流量調整バルブ４６とを含む。第１流量調整バルブ４４、第２流量調整バルブ４５、および第３流量調整バルブ４６の開度は、制御装置４によって個別に調整される。

第１排気処理設備４１、第２排気処理設備４２、および第３排気処理設備４３のそれぞれは、一定の排気圧で対応する集合排気管の内部を吸引している。第１流量調整バルブ４４は、第１集合排気管３８の流路面積を増加または減少させることにより、第１集合排気管３８に吸引される排気の流量を増加または減少させる。同様に、第２流量調整バルブ４５は、第２集合排気管３９の流路面積を増加または減少させることにより、第２集合排気管３９に吸引される排気の流量を増加または減少させ、第３流量調整バルブ４６は、第３集合排気管４０の流路面積を増加または減少させることにより、第３集合排気管４０に吸引される排気の流量を増加または減少させる。これにより、各集合排気管から排気処理設備に排出される排気の流量が調整される。

図６は、処理ユニット３によって行われる基板Ｗの処理の一例を示す工程図である。以下では、図１および図２を参照する。図６については適宜参照する。
制御装置４は、プログラム等の情報を記憶する記憶装置と、記憶装置に記憶された情報に従って基板処理装置１を制御するＣＰＵ（central processing unit：中央処理装置）とを含む。基板Ｗに対して行われる一連の工程を示すレシピは、記憶装置に記憶されている。制御装置４は、レシピに基づいて基板処理装置１を制御することにより、以下に説明する各工程を処理ユニット３に実行させ、各処理ユニット３に基板Ｗを処理させる。

処理ユニット３によって基板Ｗが処理されるときには、チャンバー５内に基板Ｗを搬入する搬入工程（図６のステップＳ１）が行われる。具体的には、制御装置４は、全てのノズルがスピンチャック６の上方から退避している状態で、基板Ｗを保持しているセンターロボットＣＲのハンドＨをチャンバー５内に進入させる。そして、制御装置４は、センターロボットＣＲに基板Ｗをスピンチャック６上に載置させる。その後、制御装置４は、スピンチャック６に基板Ｗを保持させる。続いて、制御装置４は、スピンチャック６に基板Ｗの回転を開始させる。制御装置４は、基板Ｗがスピンチャック６上に置かれた後、センターロボットＣＲのハンドＨをチャンバー５内から退避させる。

次に、アルカリ性薬液の一例であるＳＣ１（液体）を基板Ｗに供給するアルカリ性薬液供給工程（図６のステップＳ２）が行われる。具体的には、制御装置４は、アルカリ性薬液バルブ２１を開いて、スピンチャック６によって基板Ｗを回転させながら、アルカリ性薬液ノズル１５から基板Ｗの上面中央部に向けてＳＣ１を吐出させる。これにより、ＳＣ１が基板Ｗの上面に供給される。そして、アルカリ性薬液バルブ２１が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置４は、アルカリ性薬液バルブ２１を閉じてＳＣ１の吐出を停止させる。

アルカリ性薬液ノズル１５から吐出されたＳＣ１は、基板Ｗの上面中央部に供給され、基板Ｗの回転による遠心力を受けて基板Ｗの上面に沿って外方に広がる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆うＳＣ１の液膜が基板Ｗ上に形成され、基板Ｗの上面全域にＳＣ１が供給される。また、基板ＷへのＳＣ１の供給や、カップ７の内面に対するＳＣ１の衝突に伴って発生したＳＣ１を含む雰囲気は、カップ７の底部から室内排気ダクト１０に排出される。これにより、アルカリ性排気（アルカリ性薬液を含む気体）がカップ７の内部から排出される。

次に、リンス液の一例である純水を基板Ｗに供給する第１中間リンス液供給工程（図６のステップＳ３）が行われる。具体的には、制御装置４は、リンス液バルブ２５を開いて、基板Ｗを回転させながら、リンス液ノズル１７から基板Ｗの上面中央部に向けて純水を吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆うＳＣ１の液膜が純水に置換され、基板Ｗ上のＳＣ１が純水によって洗い流される。また、基板Ｗへの純水の供給等に伴って発生した純水を含む雰囲気は、カップ７の底部から室内排気ダクト１０に排出される。そして、リンス液バルブ２５が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置４は、リンス液バルブ２５を閉じて純水の吐出を停止させる。

次に、酸性薬液の一例であるＤＨＦ（希フッ酸）を基板Ｗに供給する酸性薬液供給工程（図６のステップＳ４）が行われる。具体的には、制御装置４は、酸性薬液バルブ１９を開いて、基板Ｗを回転させながら、酸性薬液ノズル１４から基板Ｗの上面中央部に向けてＤＨＦを吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆う純水の液膜がＤＨＦに置換され、基板Ｗの上面全域にＤＨＦが供給される。また、基板ＷへのＤＨＦの供給等に伴って発生したＤＨＦを含む雰囲気は、カップ７の底部から室内排気ダクト１０に排出される。これにより、酸性排気（酸性薬液を含む気体）がカップ７の内部から排出される。そして、酸性薬液バルブ１９が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置４は、酸性薬液バルブ１９を閉じてＤＨＦの吐出を停止させる。

次に、リンス液の一例である純水を基板Ｗに供給する第２中間リンス液供給工程（図６のステップＳ５）が行われる。具体的には、制御装置４は、リンス液バルブ２５を開いて、基板Ｗを回転させながら、リンス液ノズル１７から基板Ｗの上面中央部に向けて純水を吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆うＤＨＦの液膜が純水に置換され、基板Ｗ上のＤＨＦが純水によって洗い流される。また、基板Ｗへの純水の供給等に伴って発生した純水を含む雰囲気は、カップ７の底部から室内排気ダクト１０に排出される。そして、リンス液バルブ２５が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置４は、リンス液バルブ２５を閉じて純水の吐出を停止させる。

次に、有機薬液の一例であるＩＰＡ（液体）を基板Ｗに供給する有機薬液供給工程（図６のステップＳ６）が行われる。具体的には、制御装置４は、有機薬液バルブ２３を開いて、基板Ｗを回転させながら、有機薬液ノズル１６から基板Ｗの上面中央部に向けてＩＰＡを吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆う純水の液膜がＩＰＡに置換され、基板Ｗ上の純水がＩＰＡによって洗い流される。また、基板ＷへのＩＰＡの供給等に伴って発生したＩＰＡを含む雰囲気は、カップ７の底部から室内排気ダクト１０に排出される。これにより、有機排気（有機薬液を含む気体）がカップ７の内部から排出される。そして、有機薬液バルブ２３が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置４は、有機薬液バルブ２３を閉じてＩＰＡの吐出を停止させる。

次に、基板Ｗを乾燥させる乾燥工程（図６のステップＳ７）が行われる。具体的には、制御装置４は、基板Ｗの回転を加速させて、アルカリ性薬液供給工程から有機薬液供給工程までの回転速度よりも速い高回転速度（たとえば数千ｒｐｍ）で基板Ｗを回転させる。これにより、大きな遠心力が基板Ｗ上の液体に加わり、基板Ｗに付着している液体が基板Ｗの周囲に振り切られる。このようにして、基板Ｗから液体が除去され、基板Ｗが乾燥する。そして、基板Ｗの高速回転が開始されてから所定時間が経過すると、制御装置４は、スピンチャック６による基板Ｗの回転を停止させる。

次に、基板Ｗをチャンバー５内から搬出する搬出工程（図６のステップＳ８）が行われる。具体的には、制御装置４は、スピンチャック６に基板Ｗの保持を解除させる。その後、制御装置４は、全てのノズルがスピンチャック６の上方から退避している状態で、センターロボットＣＲのハンドＨをチャンバー５内に進入させる。そして、制御装置４は、センターロボットＣＲのハンドＨにスピンチャック６上の基板Ｗを保持させる。その後、制御装置４は、センターロボットＣＲのハンドＨをチャンバー５内から退避させる。これにより、処理済みの基板Ｗがチャンバー５から搬出される。

図７は、１２台の処理ユニット３での排気の発生状況と各流量調整バルブの開度の時間変化とを示すグラフである。
制御装置４は、インデクサロボットＩＲにキャリアＣ内の未処理の基板Ｗを搬出させる。そして、制御装置４は、インデクサロボットＩＲに未処理の基板ＷをセンターロボットＣＲに渡させる。その後、制御装置４は、センターロボットＣＲに未処理の基板Ｗを処理ユニット３内に搬入させる。そして、前述のように、制御装置４は、レシピに基づいて処理ユニット３に基板Ｗを処理させる。制御装置４は、この一連の動作をインデクサロボットＩＲ等に繰り返させる。したがって、図７の上段に示すように、複数枚の基板Ｗが複数の処理ユニット３に順次搬入され、複数の処理ユニット３での基板Ｗの処理が順次開始される。

図７に示すように、アルカリ性薬液が処理ユニット３で基板Ｗに供給されているときには、アルカリ性薬液のミストやガスがその処理ユニット３内で発生する（アルカリ性薬液供給工程（ステップＳ２））。また、アルカリ性薬液をリンス液によって基板Ｗから洗い流している間も、アルカリ性薬液のミストやガスがその処理ユニット３内で発生する（第１中間リンス液供給工程（ステップＳ３））。

同様に、図７に示すように、酸性薬液が処理ユニット３で基板Ｗに供給されているときには、酸性薬液のミストやガスがその処理ユニット３内で発生する（酸性薬液供給工程（ステップＳ４））。また、酸性薬液をリンス液によって基板Ｗから洗い流している間も、酸性薬液のミストやガスがその処理ユニット３内で発生する（第１中間リンス液供給工程（ステップＳ３））。

図７に示すように、有機薬液が処理ユニット３で基板Ｗに供給されているときには、有機薬液のミストやガスがその処理ユニット３内で発生する（有機薬液供給工程（ステップＳ６）））。また、有機薬液が基板Ｗの周囲に飛散するので、有機薬液が供給された基板Ｗを回転させている間も、有機薬液のミストやガスがその処理ユニット３内で発生する（乾燥工程（ステップＳ７））。

図７に示すように、アルカリ性薬液供給工程（ステップＳ２）および第１中間リンス液供給工程（ステップＳ３）が、いずれかの処理ユニット３で行われている間、制御装置４は、アルカリ性薬液供給工程（ステップＳ２）または第１中間リンス液供給工程（ステップＳ３）を行っている処理ユニット３の数に応じて、第２流量調整バルブ４５（アルカリ性排気用の流量調整バルブ）の開度を調整する。

具体的には、図７に示すように、複数の処理ユニット３での基板Ｗの処理が順次開始されるので、アルカリ性薬液供給工程（ステップＳ２）または第１中間リンス液供給工程（ステップＳ３）を行っている処理ユニット３は、時間の経過と共に順次増加する。そのため、制御装置４は、第２流量調整バルブ４５の開度を順次増加させ、第２集合排気管３９に排出されるアルカリ性排気の流量を増加させる。

また、図７に示すように、第１中間リンス液供給工程（ステップＳ３）が終了すると、酸性薬液供給工程（ステップＳ４）が開始されるので、アルカリ性薬液供給工程（ステップＳ２）または第１中間リンス液供給工程（ステップＳ３）を行っている処理ユニット３の数が順次減少し、酸性薬液供給工程（ステップＳ４）または第２中間リンス液供給工程（ステップＳ５）を行っている処理ユニット３の数が順次増加する。制御装置４は、酸性薬液供給工程（ステップＳ４）または第２中間リンス液供給工程（ステップＳ５）を行っている処理ユニット３の数の増加に応じて、第１流量調整バルブ４４（酸性排気用の流量調整バルブ）の開度を順次増加させ、第１集合排気管３８に排出される酸性排気の流量を増加させる。その一方で、制御装置４は、アルカリ性薬液供給工程（ステップＳ２）または第１中間リンス液供給工程（ステップＳ３）を行っている処理ユニット３の数の減少に応じて、第２流量調整バルブ４５の開度を順次減少させ、第２集合排気管３９に排出されるアルカリ性排気の流量を増加させる。

同様に、図７に示すように、第２中間リンス液供給工程（ステップＳ５）が終了すると、有機薬液供給工程（ステップＳ６）が開始されるので、酸性薬液供給工程（ステップＳ４）または第２中間リンス液供給工程（ステップＳ５）を行っている処理ユニット３の数が順次減少し、有機薬液供給工程（ステップＳ６）または乾燥工程（ステップＳ７）を行っている処理ユニット３の数が順次増加する。制御装置４は、有機薬液供給工程（ステップＳ６）または乾燥工程（ステップＳ７）を行っている処理ユニット３の数に応じて、第３流量調整バルブ４６の開度を順次増加させ、第３集合排気管４０に排出される酸性排気の流量を増加させる。その一方で、制御装置４は、酸性薬液供給工程（ステップＳ４）または第２中間リンス液供給工程（ステップＳ５）を行っている処理ユニット３の数の減少に応じて、第１流量調整バルブ４４の開度を順次減少させ、第１集合排気管３８に排出される酸性排気の流量を減少させる。

以上のように本実施形態では、各処理ユニット３が、第１薬品流体としての酸性薬液を基板Ｗに供給する酸性薬液ノズル１４と、第２薬品流体としてのアルカリ性薬液を基板Ｗに供給するアルカリ性薬液ノズル１５と、第３薬品流体としての有機薬液を基板Ｗに供給する有機薬液ノズル１６とを備えている。各処理ユニット３は、酸性薬液、アルカリ性薬液、および有機薬液の少なくとも一つを基板Ｗに供給することにより、基板Ｗを処理する。そのため、酸性排気、アルカリ性排気、および有機排気の少なくとも一つが、各処理ユニット３で発生する。

基板処理装置１は、複数の処理ユニット３と同数の上流排気管２６と、複数の処理ユニット３と同数の排気切替装置２７とを備えている。複数の処理ユニット３は、それぞれ、複数の上流排気管２６に接続されている。複数の上流排気管２６は、それぞれ、複数の排気切替装置２７に接続されている。各排気切替装置２７は、第１下流排気管２８、第２下流排気管２９、および第３下流排気管３０に接続されている。すなわち、第１下流排気管２８、第２下流排気管２９、および第３下流排気管３０のそれぞれが、排気切替装置２７ごとに設けられている。

各処理ユニット３から対応する上流排気管２６に排出された排気は、切替ボックス３１の流入口３４を通じて切替ボックス３１内に導かれ、排気切替装置２７の弁体３２によって切替ボックス３１の第１流出口３５、第２流出口３６、または第３流出口３７に導かれる。したがって、上流排気管２６に排出された排気は、排気切替装置２７によって第１下流排気管２８、第２下流排気管２９、または第３下流排気管３０に導かれる。具体的には、酸性排気は、排気切替装置２７によって第１下流排気管２８に導かれ、アルカリ性排気は、排気切替装置２７によって第２下流排気管２９に導かれ、有機排気は、排気切替装置２７によって第３下流排気管３０に導かれる。

複数の第１下流排気管２８のそれぞれは、第１集合排気管３８に接続されている。第１集合排気管３８は、基板処理装置１が設置される工場に設けられた第１排気処理設備４１に接続されている。したがって、複数の第１下流排気管２８内の排気は、複数の第１下流排気管２８のそれぞれから第１集合排気管３８内に流れ、第１集合排気管３８によって第１排気処理設備４１に導かれる。これにより、排気（酸性排気）が浄化される。

同様に、複数の第２下流排気管２９のそれぞれは、第２集合排気管３９に接続されている。第２集合排気管３９は、基板処理装置１が設置される工場に設けられた第２排気処理設備４２に接続されている。したがって、複数の第２下流排気管２９内の排気は、複数の第２下流排気管２９のそれぞれから第２集合排気管３９内に流れ、第２集合排気管３９によって第２排気処理設備４２に導かれる。これにより、排気（アルカリ性排気）が浄化される。

同様に、複数の第３下流排気管３０のそれぞれは、第３集合排気管４０に接続されている。第３集合排気管４０は、基板処理装置１が設置される工場に設けられた第３排気処理設備４３に接続されている。したがって、複数の第３下流排気管３０内の排気は、複数の第３下流排気管３０のそれぞれから第３集合排気管４０内に流れ、第３集合排気管４０によって第３排気処理設備４３に導かれる。これにより、排気（有機排気）が浄化される。

このように、複数の第１下流排気管２８が、第１排気処理設備４１よりも排気の流通方向における上流側で集合しており、第１集合排気管３８を介して第１排気処理設備４１に接続されているので、複数の第１下流排気管２８を第１排気処理設備４１に個別に接続しなくてもよい。同様に、複数の第２下流排気管２９が、第２排気処理設備４２よりも排気の流通方向における上流側で集合しており、第２集合排気管３９を介して第２排気処理設備４２に接続されているので、複数の第２下流排気管２９を第２排気処理設備４２に個別に接続しなくてもよい。同様に、複数の第３下流排気管３０が、第３排気処理設備４３よりも排気の流通方向における上流側で集合しており、第３集合排気管４０を介して第３排気処理設備４３に接続されているので、複数の第３下流排気管３０を第３排気処理設備４３に個別に接続しなくてもよい。

よって、基板処理装置１を工場に設置する際には、第１集合排気管３８を第１排気処理設備４１に接続し、第２集合排気管３９を第２排気処理設備４２に接続し、第３集合排気管４０を第３排気処理設備４３に接続すればよい。さらに、処理ユニット３の数が増えたとしても、第１排気処理設備４１、第２排気処理設備４２、および第３排気処理設備４３に対する基板処理装置１の接続箇所は、三カ所（第１集合排気管３８の下流端と、第２集合排気管３９の下流端と、第３集合排気管４０の下流端）であり、増加しない。したがって、基板処理装置１を工場に設置する際の時間を短縮できると共に、設置に要する時間を安定させることができる。

また本実施形態では、第１集合排気管３８から第１排気処理設備４１に排出される排気の流量が、第１流量調整バルブ４４によって調整される。同様に、第２集合排気管３９から第２排気処理設備４２に排出される排気の流量が、第２流量調整バルブ４５によって調整される。同様に、第３集合排気管４０から第３排気処理設備４３に排出される排気の流量が、第３流量調整バルブ４６によって調整される。第１流量調整バルブ４４、第２流量調整バルブ４５、および第３流量調整バルブ４６の開度は、各処理ユニット３で行われている処理の内容に応じて制御装置４に個別に調整される。

具体的には、制御装置４は、酸性排気を発生している処理ユニット３の数が増加するのに伴って第１流量調整バルブ４４の開度を増加させる。また、制御装置４は、酸性排気を発生している処理ユニット３の数が減少するのに伴って第１流量調整バルブ４４の開度を減少させる。すなわち、制御装置４は、酸性排気を発生している処理ユニット３の数に応じて第１流量調整バルブ４４の開度を調整する。

同様に、制御装置４は、アルカリ性排気を発生している処理ユニット３の数が増加するのに伴って第２流量調整バルブ４５の開度を増加させる。また、制御装置４は、アルカリ性排気を発生している処理ユニット３の数が減少するのに伴って第２流量調整バルブ４５の開度を減少させる。すなわち、制御装置４は、アルカリ性排気を発生している処理ユニット３の数に応じて第２流量調整バルブ４５の開度を調整する。

同様に、制御装置４は、有機排気を発生している処理ユニット３の数が増加するのに伴って第２流量調整バルブ４５の開度を増加させる。また、制御装置４は、有機排気を発生している処理ユニット３の数が減少するのに伴って第２流量調整バルブ４５の開度を減少させる。すなわち、制御装置４は、有機排気を発生している処理ユニット３の数に応じて第２流量調整バルブ４５の開度を調整する。

第１排気処理設備４１が一定の排気圧（負圧）で基板処理装置１を排気しており、酸性排気を発生している処理ユニット３の数が同じである場合に、第１流量調整バルブ４４の開度が変更されると、処理ユニット３内での気流の速度が変化する。したがって、酸性排気を発生している処理ユニット３の数に応じて第１流量調整バルブ４４の開度を調整することにより、処理ユニット３内での気流の速度の変化を抑制できる。同様に、アルカリ性排気を発生している処理ユニット３の数に応じて第２流量調整バルブ４５の開度を調整することにより、処理ユニット３内での気流の速度の変化を抑制できる。同様に、有機排気を発生している処理ユニット３の数に応じて第３流量調整バルブ４６の開度を調整することにより、処理ユニット３内での気流の速度の変化を抑制できる。気流の乱れが処理ユニット３内で発生すると、パーティクルが舞い上がり、基板Ｗが汚染されるおそれがある。したがって、処理ユニット３内の気流を安定させることにより、基板Ｗの品質の安定性を高めることができる。

なお、本発明の基板処理装置１においては、各処理ユニット３で実行されるプロセス処理の工程に対応して、図７に示すように、排気の種類ごとに設けられた３つの下流排気管２８、２９、３０を切り替えている。発生する排気の種類は実行する処理工程の時間に応じて決まり、同時に同じ種類の排気を要求する処理ユニット３の数も決まる。例えばあるプロセス処理工程が長時間を要するものであれば、そのプロセス処理工程を同時に実行する処理ユニット３の数も増える。従って、そのプロセス処理の時間等に応じて各種類の排気の必要容量も決まるので、これに応じて工場に設ける各排気処理設備の容量を決定すればよい。また逆に、工場に設置されている既存の各排気処理設備の容量と、同設備に接続されている他の基板処理装置等が同設備に要求する排気容量やそれらの優先度合い等から、本発明の基板処理装置１が使用できる最大の排気容量を先に決めておき、基板処理装置１の側で各プロセス処理工程の時間や各集合排気管３８，３９，４０に同時に接続する処理ユニット３の数を任意に設定、制御することによって、その最大の排気容量を超えないように調整して運転することも可能である。これにより、工場に必要な排気容量を削減したり、既存の排気処理設備の容量が十分でない場合等であってもその容量を最大限に活用した運転が可能である。

例えば、図７に示すプロセス処理のタイミングであれば、同時にアルカリ性排気を行う処理ユニット３は最大８台であり、酸性排気を行う処理ユニット３は最大５台であり、有機排気を行う処理ユニット３は最大６台である。一台の処理ユニット３が処理中に要する排気量が５立方メートル／分であると仮定すると、基板処理装置１の全体が必要とする排気の容量は、アルカリ性排気が最大４０立方メートル／分、酸性排気が最大２５立方メートル／分、有機排気が最大３０立方メートル／分となる。各処理ユニット３に対しアルカリ性排気、酸性排気、有機排気の全てを同時に接続する場合と比べ排気容量を削減できる。

本発明の実施形態の説明は以上であるが、本発明は、前述の実施形態の内容に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。
たとえば、前述の実施形態では、液状の薬品（薬液）が基板Ｗに供給される場合について説明したが、気体状の薬品が基板Ｗに供給されてもよい。
また、前述の実施形態では、３種類の薬品（薬液）が基板Ｗに供給される場合について説明したが、基板Ｗに供給される薬品の種類は、２つであってもよい。すなわち、第１下流排気管２８、第２下流排気管２９、および第３下流排気管３０のいずれかが省略されてもよい。また、基板Ｗに供給される薬品の種類は、４つ以上であってもよい
また、前述の実施形態では、各集合排気管に流量調整バルブが設けられている場合について説明したが、第１集合排気管３８、第２集合排気管３９、および第３集合排気管４０のうちの少なくとも一つから流量調整バルブが省略されてもよい。

また、前述の実施形態では、排気切替装置２７が、円板状の弁体３２によって第１流出口３５、第２流出口３６、および第３流出口３７のうちの２つを選択的に閉じる構成を有している場合について説明した。しかし、第１流出口３５、第２流出口３６、および第３流出口３７のうちの２つを選択的に閉じることができるのであれば、他の構成を備える装置が、排気切替装置２７として用いられてもよい。

また、前述の実施形態では、基板処理装置１が、１２個の処理ユニット３を備えている場合について説明したが、基板処理装置１に備えられる処理ユニット３の数は、１１以下であってもよいし、１３以上であってもよい。
また、前述の実施形態では、リンス液が、専用のノズル（リンス液ノズル１７）から吐出される場合について説明したが、リンス液は、酸性薬液ノズル１４、アルカリ性薬液ノズル１５、および有機薬液ノズル１６のいずれかから吐出されてもよい。

また、前述の実施形態では、基板処理装置１が、円板状の基板を処理する装置である場合について説明したが、基板処理装置１は、液晶表示装置用基板などの多角形の基板を処理する装置であってもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。

１ ：基板処理装置
２ ：ロードポート
３ ：処理ユニット
４ ：制御装置
５ ：チャンバー
６ ：スピンチャック
７ ：カップ
１０ ：室内排気ダクト
１１ ：チャックピン
１２ ：スピンベース
１３ ：スピンモータ
１４ ：酸性薬液ノズル（第１ノズル）
１５ ：アルカリ性薬液ノズル（第２ノズル）
１６ ：有機薬液ノズル（第３ノズル）
１７ ：リンス液ノズル
１８ ：酸性薬液配管
１９ ：酸性薬液バルブ
２０ ：アルカリ性薬液配管
２１ ：アルカリ性薬液バルブ
２２ ：有機薬液配管
２３ ：有機薬液バルブ
２４ ：リンス液配管
２５ ：リンス液バルブ
２６ ：上流排気管
２７ ：排気切替装置
２８ ：第１下流排気管
２９ ：第２下流排気管
３０ ：第３下流排気管
３１ ：切替ボックス
３２ ：弁体
３２ａ ：通過口
３３ ：切替アクチュエータ
３３ａ ：モータ
３３ｂ ：伝達装置
３４ ：流入口
３５ ：第１流出口
３６ ：第２流出口
３７ ：第３流出口
３８ ：第１集合排気管
３９ ：第２集合排気管
４０ ：第３集合排気管
４１ ：第１排気処理設備
４２ ：第２排気処理設備
４３ ：第３排気処理設備
４４ ：第１流量調整バルブ
４５ ：第２流量調整バルブ
４６ ：第３流量調整バルブ
Ｗ ：基板

Claims (6)

1. 基板を一枚ずつ処理する基板処理装置であって、
   第１薬品流体を基板に供給する第１ノズルと、前記第１薬品流体とは種類の異なる第２薬品流体を基板に供給する第２ノズルとがそれぞれに設けられた複数の処理ユニットと、
   排気が流入する流入口と前記流入口に流入した排気を排出する第１流出口および第２流出口とを有する切替ボックスと、前記第１流出口を開くと共に前記第２流出口を閉じる第１位置と、前記第２流出口を開くと共に前記第１流出口を閉じる第２位置とに移動可能な弁体と、前記弁体を移動させる切替アクチュエータとがそれぞれに設けられた複数の排気切替装置と、
   前記複数の処理ユニットをそれぞれ複数の前記流入口に接続しており、前記複数の処理ユニットで発生した排気をそれぞれ前記複数の前記流入口に導く複数の上流排気管と、
   複数の前記第１流出口にそれぞれ接続されており、前記複数の前記第１流出口から排出された排気が流入する複数の第１下流排気管と、
   複数の前記第２流出口にそれぞれ接続されており、前記複数の前記第２流出口から排出された排気が流入する複数の第２下流排気管と、
   前記第１薬品流体を含む排気が前記流入口から前記第１流出口に流れ、前記第２薬品流体を含む排気が前記流入口から前記第２流出口に流れるように、前記複数の排気切替装置を制御する制御装置と、
   前記複数の第１下流排気管のそれぞれに接続されており、前記複数の第１下流排気管のそれぞれから排出された排気を基板処理装置が設置される工場に設けられた第１排気処理設備に導く第１集合排気管と、
   前記複数の第２下流排気管のそれぞれに接続されており、前記複数の第２下流排気管のそれぞれから排出された排気を基板処理装置が設置される工場に設けられた第２排気処理設備に導く第２集合排気管とを含む、基板処理装置。
2. 前記基板処理装置は、前記第１集合排気管内を流れる気体の流量を変更する第１流量調整バルブと、前記第２集合排気管内を流れる気体の流量を変更する第２流量調整バルブとをさらに含み、
   前記制御装置は、前記第１薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が増加するのに伴って前記第１流量調整バルブの開度を増加させ、前記第１薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が減少するのに伴って前記第１流量調整バルブの開度を減少させ、
   前記制御装置は、前記第２薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が増加するのに伴って前記第２流量調整バルブの開度を増加させ、前記第２薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が減少するのに伴って前記第２流量調整バルブの開度を減少させる、請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記第１薬品流体および第２薬品流体とは種類の異なる第３薬品流体を基板に供給する第３ノズルが前記複数の処理ユニットのそれぞれにさらに設けられており、
   前記切替ボックスは、前記流入口に流入した排気を排出する第３流出口をさらに有し、
   前記弁体は、前記第１流出口を開くと共に前記第２流出口および第３流出口を閉じる前記第１位置と、前記第２流出口を開くと共に前記第１流出口および第３流出口を閉じる前記第２位置と、前記第３流出口を開くと共に前記第１流出口および第２流出口を閉じる第３位置とに移動可能であり、
   前記制御装置は、前記第１薬品流体を含む排気が前記流入口から前記第１流出口に流れ、前記第２薬品流体を含む排気が前記流入口から前記第２流出口に流れ、前記第３薬品流体を含む排気が前記流入口から前記第３流出口に流れるように、前記複数の排気切替装置を制御し、
   前記基板処理装置は、
   複数の前記第３流出口にそれぞれ接続されており、前記複数の前記第３流出口から排出された排気が流入する複数の第３下流排気管と、
   前記複数の第３下流排気管のそれぞれに接続されており、前記複数の第３下流排気管のそれぞれから排出された排気を基板処理装置が設置される工場に設けられた第３排気処理設備に導く第３集合排気管とをさらに含む、請求項１または２に記載の基板処理装置。
4. 前記基板処理装置は、前記第１集合排気管内を流れる気体の流量を変更する第１流量調整バルブと、前記第２集合排気管内を流れる気体の流量を変更する第２流量調整バルブと、前記第３集合排気管内を流れる気体の流量を変更する第３流量調整バルブとをさらに含み、
   前記制御装置は、前記第１薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が増加するのに伴って前記第１流量調整バルブの開度を増加させ、前記第１薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が減少するのに伴って前記第１流量調整バルブの開度を減少させ、
   前記制御装置は、前記第２薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が増加するのに伴って前記第２流量調整バルブの開度を増加させ、前記第２薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が減少するのに伴って前記第２流量調整バルブの開度を減少させ、
   前記制御装置は、前記第３薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が増加するのに伴って前記第３流量調整バルブの開度を増加させ、前記第３薬品流体を含む排気を発生している前記処理ユニットの数が減少するのに伴って前記第３流量調整バルブの開度を減少させる、請求項３に記載の基板処理装置。
5. 前記第１薬品流体および第２薬品流体は、酸性薬品流体、アルカリ性薬品流体、および有機薬品流体のうちの２種である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
6. 前記第１薬品流体、第２薬品流体、および第３薬品流体は、それぞれ、酸性薬品流体、アルカリ性薬品流体、および有機薬品流体である、請求項３または４に記載の基板処理装置。

Images