JP2014165345A - 抵抗変化型不揮発性メモリ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】層間絶縁層を成膜する際に下部電極の表面部が酸化され、及び/又は層間絶縁層のエッチングの際にエッチングガスの成分が下部電極に打ち込まれることによる抵抗変化型不揮発性メモリの特性劣化を抑制する。
【解決手段】抵抗変化型不揮発性メモリが、下部電極1と、下部電極の上面を被覆するバッファ層2と、層間絶縁層6と、抵抗変化層7と、上部電極8とを備えている。層間絶縁層6は、スルーホール6aを有し、且つ、バッファ層2を被覆するように形成されている。抵抗変化層7は、スルーホール6aの内部でバッファ層2の上面に接するように形成されている。バッファ層2は、層間絶縁層6で被覆されている第1部分3を有し、第1部分3は、下部電極の材料よりも酸化されやすい金属の酸化物で形成されている。
【選択図】図2A
【解決手段】抵抗変化型不揮発性メモリが、下部電極1と、下部電極の上面を被覆するバッファ層2と、層間絶縁層6と、抵抗変化層7と、上部電極8とを備えている。層間絶縁層6は、スルーホール6aを有し、且つ、バッファ層2を被覆するように形成されている。抵抗変化層7は、スルーホール6aの内部でバッファ層2の上面に接するように形成されている。バッファ層2は、層間絶縁層6で被覆されている第1部分3を有し、第1部分3は、下部電極の材料よりも酸化されやすい金属の酸化物で形成されている。
【選択図】図2A
Description
本発明は、抵抗変化型不揮発性メモリ及びその製造方法に関し、特に、抵抗変化型不揮発性メモリに使用される抵抗変化素子の構造に関する。
不揮発性メモリの分野においては、フラッシュメモリを筆頭に、強誘電体メモリ(FeRAM: Ferroelectric Random Access Memory)、MRAM(Magnetic RAM)、OUM (Ovonic Unified Memory)等の研究が盛んである。
最近、これらの従来の不揮発性メモリと異なる抵抗変化型不揮発メモリ(ReRAM: resistanceRAM)が提案されている。この抵抗変化型不揮発メモリは、電圧パルスの印加によって抵抗変化素子の抵抗値を設定することにより情報を書き込みことができ、かつ情報の非破壊読み出しを行うことができる不揮発性メモリである。抵抗変化型不揮発メモリは、メモリセルの面積が小さく、多値化が可能なことから、既存の不揮発性メモリをしのぐ可能性を有する。
様々な構造の抵抗変化素子が、従来から提案されている。国際公開WO2008/062623号(特許文献1)は、抵抗変化素子の構造の一例を開示している。図1は、国際公開WO2008/062623号に開示されている構造を示す断面図である。図1の抵抗変化素子の構造では、シリコン基板101の上に絶縁膜102が形成され、更に、その絶縁膜102の上に下部電極103が形成されている。ここで、特許文献1は、下部電極103が、Pt、Ru、RuO2、Ir、Ti、WNからなる群から選択された少なくとも一つの材料を含んでいることを開示している。下部電極103は、層間絶縁層104によって被覆されている。層間絶縁層104には、下部電極103に到達する開口が形成されており、その開口の側面及び底面を被覆するように抵抗変化層105が形成されている。抵抗変化層105の上には非晶質の絶縁層106が形成されており、その非晶質の絶縁層106の上に上部電極107が形成されている。非晶質の絶縁層106は、動作電圧のバラツキの抑制のために設けられる。
図1のような抵抗変化素子の構造の一つの問題は、層間絶縁層104(典型的には酸化シリコン)の成膜の際に、下部電極103の表面部が酸化され、メモリセルの電気的特性が劣化する可能性があることである。他の一つの問題は、層間絶縁層104に上記の開口を形成する際に、下部電極103のうち該開口の形成の際に露出される部分(図1では、符号103aで示されている)にエッチングガス(例えば、CF4)の成分が打ち込まれ、メモリセルの電気的特性が劣化する可能性があることである。これらの問題が、解決されることが望まれる。
なお、抵抗変化型不揮発性メモリに使用される抵抗変化素子の構造は、他にも、特開2012−33649号公報(特許文献2)、特許第4688979号(特許文献3)、及び、特開2010−27753号公報(特許文献4)に開示されている。特許文献2に開示された抵抗変化素子の構造では、第1電極と抵抗変化層の間にバッファ層が形成されている。バッファ層の材料としては、Ti、Ta、Zn、Nb、Wのいずれかの元素の酸化物が開示されている。特許文献3に開示された抵抗変化素子の構造では、抵抗率が異なる2層の抵抗変化層が用いられる。特許文献3に開示された抵抗変化素子の構造では、抵抗変化膜が、層間絶縁層に形成されたコンタクトホールの少なくとも底部に形成されている。
このように、従来技術には、層間絶縁層を成膜する際に下部電極の表面部が酸化され、及び/又は層間絶縁層のエッチングの際にエッチングガスの成分が下部電極に打ち込まれることで特性劣化が起こり得るという課題がある。これらの課題の少なくとも一つが解消されることが望まれる。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
一実施形態では、抵抗変化型不揮発性メモリが、下部電極と、下部電極の上面を被覆するバッファ構造体と、層間絶縁層と、データを抵抗の大きさとして記憶する抵抗変化層と、抵抗変化層を被覆するように形成された上部電極とを備えている。バッファ構造体は、下部電極の上面の少なくとも一部を被覆するバッファ層を備えている。層間絶縁層は、スルーホールを有し、且つ、バッファ層を被覆するように形成されている。抵抗変化層は、スルーホールの内部でバッファ構造体の上面に接するように形成されている。バッファ層は、層間絶縁層で被覆されている第1部分を有し、第1部分は、下部電極の材料よりも酸化されやすい第1金属の酸化物で形成されている。
このとき、第1バッファ層は、更に、下部電極の上面に接し、第1部分と下部電極の間に位置する第2部分を有していてもよい。この場合、第2部分は、第1金属、又は、第1金属の窒化物で形成される。
上記実施形態によれば、層間絶縁層を成膜する際に下部電極の表面部が酸化され、及び/又は層間絶縁層のエッチングの際にエッチングガスの成分が下部電極に打ち込まれることによる抵抗変化型不揮発性メモリの特性劣化を抑制することができる。
(第1の実施形態)
図2Aは、第1の実施形態の抵抗変化型不揮発メモリで使用される抵抗変化素子10の構造を示す断面図である。抵抗変化素子10は、下部電極1を備えている。下部電極1に使用可能な材料としては、例えば、タングステン(W)、チタン(Ti)、窒化チタン(TiN)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銅−アルミニウム合金(CuAl)、タンタル(Ta)、窒化タンタル(TaN)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、モリブデン(Mo)、ルテニウム(Ru)、白金(Pt)が挙げられる。下部電極1としては、酸化しにくい材料であることが好ましく、一実施形態では、下部電極1は、ルテニウム膜で形成され得る。
図2Aは、第1の実施形態の抵抗変化型不揮発メモリで使用される抵抗変化素子10の構造を示す断面図である。抵抗変化素子10は、下部電極1を備えている。下部電極1に使用可能な材料としては、例えば、タングステン(W)、チタン(Ti)、窒化チタン(TiN)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銅−アルミニウム合金(CuAl)、タンタル(Ta)、窒化タンタル(TaN)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、モリブデン(Mo)、ルテニウム(Ru)、白金(Pt)が挙げられる。下部電極1としては、酸化しにくい材料であることが好ましく、一実施形態では、下部電極1は、ルテニウム膜で形成され得る。
バッファ層2が、下部電極1の上面を被覆するように構成されている。バッファ層2の材料と構造については、後に詳細に説明する。
バッファ層2は、層間絶縁層6で被覆されている。層間絶縁層6としては、例えば、酸化シリコン(SiO2)が使用され得る。層間絶縁層6には、層間絶縁層6の上面からバッファ層2に到達するスルーホール6aが形成されている。
層間絶縁層6に形成されたスルーホール6aの側面及び底面を被覆するように、抵抗変化層7が形成されている。抵抗変化層7は、電圧パルスの印加により抵抗を変化させることができるように構成された層であり、データを抵抗の大きさとして記憶する機能を有している。抵抗変化層7の抵抗は、電圧パルスの波形によって制御することができる。抵抗変化層7に使用可能な材料としては、例えば、タンタル酸化物(TaOX)、ハフニウム酸化物(HfOx)、ジルコニウム酸化物(ZrOx)が挙げられる。
抵抗変化層7の上面に上部電極8が形成されている。上部電極8に使用可能な材料としては、例えば、タングステン(W)、チタン(Ti)、窒化チタン(TiN)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銅−アルミニウム合金(CuAl)、タンタル(Ta)、窒化タンタル(TaN)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、モリブデン(Mo)、ルテニウム(Ru)、白金(Pt)が挙げられる。
バッファ層2は、抵抗変化素子10を形成するプロセスにおいて下部電極1の表面部を保護するために使用されるバッファ構造体を構成している。バッファ層2は、下部電極1よりも酸化しやすい金属又は下部電極1よりも酸化しやすい金属の窒化物で形成された部分、及び/又は、該金属又は窒化物を酸化して得られる酸化物で形成された部分を含む層である。以下の説明において、バッファ層2のスルーホール6aの外側に位置している部分のうち、上側に位置している部分(即ち、層間絶縁層6に接触している部分)を第1部分3といい、下側に位置している部分(即ち、下部電極1に接触している部分)を第2部分4という。また、バッファ層2のうち層間絶縁層6のスルーホール6aに面する部分を第3部分5という。図2Bには、図2AのA部の拡大図が図示されており、バッファ層2の第1部分3、第2部分4、第3部分5の配置は、図2Bから理解されよう。
第2部分4は、下部電極1よりも酸化しやすい金属、又は下部電極1よりも酸化しやすい金属の窒化物で形成される。一方、第1部分3、及び、第3部分5は、当該金属の酸化物又は当該窒化物を酸化して得られる酸化物で形成される。下部電極1がルテニウム膜で形成される一実施形態では、第2部分4が、チタン(Ti)で形成され、第1部分3及び第3部分5が、チタン酸化物(TiOx)で形成されてもよい。ここで、第2部分4が、チタン(Ti)の代わりに窒化チタン(TiN)で形成されていてもよい。
図3A及び図3Bは、本実施形態の抵抗変化素子10の製造方法を示す断面図である。まず、図3Aに図示されているように、下部電極1と保護膜41とが形成される(工程(1))。保護膜41は、下部電極1の上面を被覆するように形成される。保護膜41は、下部電極1よりも酸化しやすい金属又は下部電極1よりも酸化しやすい金属の窒化物で形成される。一実施形態では、下部電極1がルテニウムで形成されてもよい。この場合、保護膜41は、チタン又は窒化チタンのいずれかで形成されてもよい。一実施形態では、下部電極1と保護膜41の積層体は、膜厚が10nmのルテニウム膜と、膜厚が3nmのチタン膜とをスパッタリング法によって積層した後、公知の手法でパターニングすることで形成され得る。
続いて、下部電極1と保護膜41とを被覆するように層間絶縁層6が形成され、更に、その層間絶縁層6の上面を被覆するレジストマスク42が形成される(工程(2))。レジストマスク42には、公知のフォトリソグラフィー技術により、後の工程でスルーホール6aが形成されるべき位置に位置する開口42aが形成される。
ここで、層間絶縁層6として、酸化雰囲気で形成される薄膜が使用される場合、保護膜41の表面部は酸化され得る。例えば、シリコン原子を供給するソースガス(シランやTEOS(Tetraethyl orthosilicate)と酸素原子を供給する反応ガス(典型的には、酸素ガス)とを用いるCVD(Chemical Vapor Deposition)で形成される酸化シリコン膜は、酸化雰囲気で形成される薄膜の典型例である。図3Aでは、保護膜41のうち酸化されずに残存している部分が符号41aで示されており、酸化された部分が符号41bで示されている。なお、保護膜41の部分41a、41bは、実際には、完全に区分されるわけではなく、保護膜41が、少なくとも、酸化された部分と酸化されずに残存している部分とを含んでいると解釈されるべきである。
留意すべきことは、保護膜41が、下部電極1よりも酸化しやすい金属又は下部電極1よりも酸化しやすい金属の窒化物で形成されることである。層間絶縁層6が酸化雰囲気で形成されても、保護膜41が下部電極1よりも酸化しやすい金属又は下部電極1よりも酸化しやすい金属の窒化物で形成されているので保護膜41が優先的に酸化され、下部電極1の酸化が抑制される。
更に、層間絶縁層6のうちレジストマスク42の開口42aに露出されている部分がエッチングされて、スルーホール6aが形成される(工程(3)〜(5))。スルーホール6aの形成は、3段階で行われる。まず、層間絶縁層6のうちレジストマスク42の開口42aに露出されている部分のエッチングが、層間絶縁層6の適度の深さまで(即ち、膜厚方向の途中の位置まで)行われる(工程(3))。続いて、アッシングによりレジストマスク42が除去される(工程(4))。アッシングの際には保護膜41は露出されていないことに留意されたい。更に、図3Bに図示されているように、層間絶縁膜6の全面エッチングが行われて保護膜41に到達するスルーホール6aが形成される(工程(5))。
続いて、図3Bに図示されているように、保護膜41のうちスルーホール6aに面している部分が酸化される(工程(6))。この結果、図2Aに図示したバッファ層2の構造が形成される。即ち、保護膜41のうちスルーホール6aに面している部分が酸化され、バッファ層2の第3部分5が形成される。更に、保護膜41の酸化されている部分41aのうち、層間絶縁層6で被覆されている部分がバッファ層2の第1部分3となる。また、保護膜41の酸化されずに残存している部分41bのうち、工程(6)においても酸化されなかった部分がバッファ層2の第2部分4となる。このとき、保護膜41のうちスルーホール6aに面している部分(即ち、バッファ層2の第3部分5)の酸化を促進するために、プラズマ酸化又は熱酸化が行われても良い。
ここで、上述されているように、バッファ層2の第2部分4は、下部電極1よりも酸化しやすい金属又はこのような金属の窒化物で形成され、第1部分3、及び、第3部分5は、該金属又は該窒化物を酸化して得られる酸化物で形成されることに留意されたい。保護膜41がチタンで形成される場合、バッファ層2の第2部分4はチタンで形成され、第1部分3及び第3部分5はチタン酸化物で形成されることになる。また、保護膜41が窒化チタンで形成される場合、バッファ層2の第2部分4は窒化チタンで形成され、第1部分3及び第3部分5はチタン酸化物で形成されることになる。
続いて、バッファ層2の第3部分5の上面に接するように、抵抗変化膜43が形成される(工程(7))。抵抗変化膜43は、例えば、タンタル酸化物(TaOX)、ハフニウム酸化物(HfOx)、ジルコニウム酸化物(ZrOx)で形成される。本実施形態では、抵抗変化膜43がスルーホール6aの側壁及び底面を被覆するように形成される。抵抗変化膜43は、スパッタリング法で形成してもよく、また、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、ALD(Atomic Layer Deposition)法で形成してもよい。
更に、抵抗変化膜43の上面を被覆するように導電膜44が形成される(工程(8))。導電膜44は、例えば、タングステン(W)、チタン(Ti)、窒化チタン(TiN)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銅−アルミニウム合金(CuAl)、タンタル(Ta)、窒化タンタル(TaN)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、モリブデン(Mo)、ルテニウム(Ru)、又は、白金(Pt)で形成され得る。導電膜44はスパッタリング法で形成してもよく、また、可能な場合には、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、ALD(Atomic Layer Deposition)法で形成してもよい。
その後、抵抗変化膜43及び導電膜44がパターニングされて抵抗変化層7及び上部電極8が形成され、図2Aに図示されている構造の抵抗変化素子10の製造が完了する。
本実施形態の抵抗変化素子10の構造、及び、製造方法によれば、下部電極1の上面を被覆するようにバッファ層2(又は保護膜41)が形成されているので、下部電極1の表面部を保護することができ、抵抗変化素子10の特性劣化を抑制することができる。例えば、層間絶縁層6の形成の際に下部電極1の上面が直接に露出されないため、下部電極1の酸化を抑制することができる。このとき、保護膜41が下部電極1よりも酸化しやすい金属又はそのような金属の窒化物で形成されていることにより、層間絶縁層6の形成の際に保護膜41が優先的に酸化され、下部電極1の酸化を一層効率的に抑制することができる。また、層間絶縁層6のスルーホール6aの形成のためのエッチングにおいても下部電極1の上面が直接に露出されないためエッチングガスの成分が下部電極に打ち込まれることを抑制することができる。これらの作用により、本実施形態の抵抗変化素子10の構造、及び、製造方法によれば、抵抗変化素子10の特性劣化を抑制することができる。
なお、本実施形態において、上述の工程(1)(図3A参照)で形成される保護膜41の膜厚が薄い場合には、層間絶縁層6の形成の際に、保護膜41の全体が酸化され得る。このような場合、図4に図示されているように、最終的に形成されるバッファ層2に、酸化されていない部分(即ち、第2部分4)が残存しないことになる。しかしながら、このような構成及び製造方法でも、下部電極1の表面部を保護することができ、抵抗変化素子10の特性劣化を抑制することができる。
図5及び図6は、本実施形態の抵抗変化素子10を使用したメモリセルの構造の例を示している。詳細には、図5は、本実施形態の抵抗変化素子10を使用したメモリセルの構造を示す平面図であり、図6は、図5のV−V断面における構造を図示している。図5及び図6は、本実施形態の抵抗変化素子10が、1T1R型のメモリセル(即ち、一つのトランジスタと一つの抵抗変化素子とを含むメモリセル)に集積化される場合のメモリセルの構造の例を示している。ここで、図5の領域Bは、一つのメモリセルが集積化されている領域を示している。以下の説明では、方向を示すためにXYZ直交座標系が導入される。Z軸方向は、半導体基板11(例えば、シリコン基板)の表側主面11aに垂直な方向として規定され、X軸方向、Y軸方向は、半導体基板11の表側主面11aに平行な方向として規定される。
図6を参照して、半導体基板11に素子分離絶縁層12が埋め込まれ、活性領域が区画されている。その活性領域に、MOSトランジスタ13が形成されている。詳細には、半導体基板11の表面部にドレイン領域14、ソース領域15が形成され、ドレイン領域14、ソース領域15の間のチャネル領域を被覆するようにゲート絶縁膜16が形成される。そのゲート絶縁膜16の上にゲート電極17が形成される。ゲート電極17の側壁には絶縁体のサイドウォール18が形成される。ゲート電極17は、図5に図示されているように、Y軸方向に延伸するように形成される。
図6に戻り、素子分離絶縁層12及びMOSトランジスタ13は、層間絶縁層19で被覆されている。層間絶縁層19は、例えば、酸化シリコンで形成される。層間絶縁層19には、層間絶縁層19の上面からソース領域15に到達するビアコンタクト21と、層間絶縁層19の上面からドレイン領域14に到達するビアコンタクト22とが形成される。
層間絶縁層19の上面に上記の抵抗変化素子10が形成される。ここで、抵抗変化素子10は、下部電極1がビアコンタクト22に接するような位置に形成される。これにより、抵抗変化素子10の下部電極1は、ビアコンタクト22を介してMOSトランジスタ13のドレイン領域14に電気的に接続されることになる。更に、層間絶縁層19を被覆する層間絶縁層23が形成され、更に、抵抗変化素子10及び層間絶縁層19を被覆する層間絶縁層24が形成される。層間絶縁層23、24は、いずれも、例えば酸化シリコンで形成される。ここで、層間絶縁層19を被覆する層間絶縁層23は、図2Aに図示されている、下部電極1及びバッファ層2を被覆する層間絶縁層6として用いられる。層間絶縁層24の上面を被覆するように、キャップ絶縁層27が形成されている。キャップ絶縁層27は、例えば、窒化シリコンで形成される。
ビアコンタクト25が、層間絶縁層23、24及びキャップ絶縁層27を貫通してビアコンタクト21に到達するように形成される。加えて、ビアコンタクト26が、層間絶縁層24及びキャップ絶縁層27を貫通して抵抗変化素子10の上部電極8に到達するように形成される。
キャップ絶縁層27は、層間絶縁層28によって被覆される。層間絶縁層28は、例えば、酸化シリコンで形成される。層間絶縁層28には溝が形成され、当該溝を埋め込むように共通線29及びランド30が形成される。共通線29は、バリアメタル層29aと、銅配線層29bとを備えている。バリアメタル層29aは、層間絶縁層28に形成された溝を被覆するように形成され、銅配線層29bは、バリアメタル層29aの上に、当該溝を埋め込むように形成される。共通線29は、ビアコンタクト25に接するような位置に形成されており、共通線29は、ビアコンタクト21、25を介してMOSトランジスタ13のソース領域15に電気的に接続される。共通線29は、図5に図示されているように、ゲート電極17と同一の方向、即ち、Y軸方向に延伸するように設けられる。同様に、ランド30は、バリアメタル層30aと、銅配線層30bとを備えている。バリアメタル層30aは、層間絶縁層28に形成された溝を被覆するように形成され、銅配線層30bは、バリアメタル層30aの上に、当該溝を埋め込むように形成される。ランド30は、ビアコンタクト26に接するような位置に形成されており、ランド30は、抵抗変化素子10の上部電極8に電気的に接続される。
図6に戻り、層間絶縁層28を被覆するようにキャップ絶縁層31が形成され、そのキャップ絶縁層31を被覆するように層間絶縁層32が形成される。キャップ絶縁層31は、例えば、窒化シリコンで形成され、層間絶縁層32は、例えば、酸化シリコンで形成される。層間絶縁層32の上にはキャップ絶縁層33が形成される。キャップ絶縁層31は、例えば、窒化シリコンで形成される。キャップ絶縁層31の上に、ビット線34が形成される。ビット線34は、バリアメタル層34aと、銅配線層34bとを備えている。バリアメタル層34aは、キャップ絶縁層31の上に形成され、銅配線層34bは、バリアメタル層34aの上に形成される。ここで、キャップ絶縁層31、層間絶縁層32、キャップ絶縁層33を貫通してランド30に到達するようにビアホール35が形成され、バリアメタル層34a、銅配線層34bは、そのビアホール35を埋め込むように形成される。これにより、ビット線34が、ランド30及びビアコンタクト26を介して抵抗変化素子10の上部電極8に電気的に接続される。
このような構造のメモリセルによれば、ゲート電極17をHigh電位に設定してMOSトランジスタ13をオン状態にし、共通線29を所定電位(例えば、接地電位)に設定した状態で、ビット線34に書き込み電圧を加えることで、抵抗変化素子10に書き込み電圧を印加することができる。抵抗変化素子10に印加される書き込み電圧の波形を制御することで、抵抗変化素子10に所望にデータを書き込むことができる。また、MOSトランジスタ13をオン状態にして共通線29とビット線34の間に読み出し電圧を印加することで、抵抗変化素子10からデータを読み出すことができる。
(第2の実施形態)
図7は、第2の実施形態の抵抗変化型不揮発メモリで使用される抵抗変化素子10Aの構造を示す断面図である。第2の実施形態の抵抗変化素子10Aは、第1の実施形態の抵抗変化素子10と類似した構造を有しているが、バッファ層2と抵抗変化層7の間に、第2バッファ層9を追加的に備えている点で相違している。
図7は、第2の実施形態の抵抗変化型不揮発メモリで使用される抵抗変化素子10Aの構造を示す断面図である。第2の実施形態の抵抗変化素子10Aは、第1の実施形態の抵抗変化素子10と類似した構造を有しているが、バッファ層2と抵抗変化層7の間に、第2バッファ層9を追加的に備えている点で相違している。
第2バッファ層9は、絶縁体で形成された層であり、バッファ層2と第2バッファ層9とは、下部電極1と抵抗変化層7の間に設けられたバッファ構造体を構成している。本実施形態では、第2バッファ層9が、バッファ層2の第3部分5の上面及びスルーホール6aの側面を被覆するように形成されている。第2バッファ層9は、抵抗変化層7とバッファ層2の第2部分4(酸化されていない部分)との距離を増大させ、スルーホール6aの底面の外周部の近傍において伝導パスが形成されることを抑制する機能を有している。これは、下部電極1と上部電極8の間のショートの発生を抑制する上で好適である。
第2バッファ層9は、下部電極1よりも酸化しやすい金属の酸化物で形成されることが好ましい。下部電極1がルテニウム膜で形成される一実施形態では、第2バッファ層9が、チタン酸化物(TiOx)で形成されてもよい。このとき、第2バッファ層9が、バッファ層2の第2部分4の材料を酸化した材料であれば、製造工程の簡略化の上で好適である。
図8A〜図8Cは、本実施形態の抵抗変化素子10Aの製造方法を示す断面図である。図8A、図8Bに図示されているように、本実施形態でも、第1の実施形態と同様の手順により、下部電極1と保護膜41の形成、層間絶縁層6の形成、レジストマスク42の形成、スルーホール6aの形成、レジストマスク42の除去、及び、保護膜41のスルーホール6aの内側に位置する部分の酸化が行われる(工程(1)〜(6))。以上の工程により、下部電極1の上に図8Bに図示されているような構造のバッファ層2が形成されることは、上述された通りである。
図8Bに図示されているように、保護膜41のスルーホール6aの内側に位置する部分の酸化(工程(6))が行われた後、バッファ層2の第3部分5の上面に接するように、第2保護膜45が形成される(工程(7))。後述されるように、第2保護膜45は、後の工程において第2バッファ層9に加工される膜である。本実施形態では、第2保護膜45は、バッファ層2の第3部分5の上面及びスルーホール6aの側面を被覆するように形成されている。
第2保護膜45は、保護膜41と同様に、下部電極1よりも酸化しやすい金属又は下部電極1よりも酸化しやすい金属の窒化物で形成されることが好ましい。下部電極1がルテニウムで形成される場合、第2保護膜45は、チタン又は窒化チタンのいずれかで形成されてもよい。工程の簡素化の観点からは、第2保護膜45は、保護膜41と同一の材料であることが好ましい。第2保護膜45は、例えば、スパッタリング法で形成してもよい。
続いて、第2保護膜45が酸化されて保護絶縁膜46が形成される(工程(8))。第2保護膜45は、自然酸化によって酸化しても良いし、積極的に、特定の酸化処理で酸化しても良い。例えば、プラズマ酸化又は熱酸化で第2保護膜45を酸化して保護絶縁膜46を形成しても良い。
続いて、保護絶縁膜46の上面を被覆するように、抵抗変化膜47が形成される(工程(9))。抵抗変化膜47は、例えば、タンタル酸化物(TaOX)、ハフニウム酸化物(HfOx)、ジルコニウム酸化物(ZrOx)で形成される。抵抗変化膜47は、スパッタリング法で形成してもよく、また、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、ALD(Atomic Layer Deposition)法で形成してもよい。
更に、抵抗変化膜47の上面を被覆するように導電膜48が形成される(工程(10))。導電膜48は、例えば、タングステン(W)、チタン(Ti)、窒化チタン(TiN)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銅−アルミニウム合金(CuAl)、タンタル(Ta)、窒化タンタル(TaN)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、モリブデン(Mo)、ルテニウム(Ru)、又は、白金(Pt)で形成され得る。導電膜48はスパッタリング法で形成してもよく、また、可能な場合には、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、ALD(Atomic Layer Deposition)法で形成してもよい。
その後、保護絶縁膜46、抵抗変化膜47及び導電膜48がパターニングされることで、それぞれ、第2バッファ層9、抵抗変化層7及び上部電極8が形成され、図7に図示されている構造の抵抗変化素子10Aの製造が完了する。
第2の実施形態の抵抗変化素子10Aの構造、及び、製造方法によっても、第1の実施形態と同様に、下部電極1の上面を被覆するようにバッファ層2(又は保護膜41)が形成されているので、下部電極1の表面部を保護することができ、抵抗変化素子10Aの特性劣化を抑制することができる。
加えて、第2の実施形態では、バッファ層2の第1部分3を被覆する第2バッファ層9が形成され、抵抗変化層7とバッファ層2の第2部分4(酸化されていない部分)との距離が増大されている。これは、スルーホール6aの底面の外周部の近傍において伝導パスが形成されることを抑制し、下部電極1と上部電極8の間のショートの発生を抑制するために有効である。
なお、本実施形態において、上述の工程(1)(図8A参照)で形成される保護膜41の膜厚が薄い場合には、層間絶縁層6の形成の際に、保護膜41の全体が酸化され得る。このような場合、図9に図示されているように、最終的に形成されるバッファ層2に、酸化されていない部分(即ち、第2部分4)が残存しないことになる。しかしながら、このような構成及び製造方法でも、下部電極1の表面部を保護することができ、抵抗変化素子10の特性劣化を抑制することができる。
また、第2の実施形態の抵抗変化素子10Aも、図5、図6に図示されている構造のメモリセルに集積化可能であることは、当業者には自明的であろう。
(第3の実施形態)
図10は、第3の実施形態の抵抗変化型不揮発メモリで使用される抵抗変化素子10Bの構造を示す断面図である。第3の実施形態の抵抗変化素子10Bは、(第2バッファ層9を追加的に備えている)第2の実施形態の抵抗変化素子10Aと類似した構造を有しており、バッファ層2と第2バッファ層9とは、下部電極1と抵抗変化層7の間に設けられ、下部電極1の表面部を保護するバッファ構造体を構成している。一方で、第3の実施形態の抵抗変化素子10Bは、第2の実施形態の抵抗変化素子10Aと、下記の点で相違している。
図10は、第3の実施形態の抵抗変化型不揮発メモリで使用される抵抗変化素子10Bの構造を示す断面図である。第3の実施形態の抵抗変化素子10Bは、(第2バッファ層9を追加的に備えている)第2の実施形態の抵抗変化素子10Aと類似した構造を有しており、バッファ層2と第2バッファ層9とは、下部電極1と抵抗変化層7の間に設けられ、下部電極1の表面部を保護するバッファ構造体を構成している。一方で、第3の実施形態の抵抗変化素子10Bは、第2の実施形態の抵抗変化素子10Aと、下記の点で相違している。
第1に、第3の実施形態では、バッファ層2のうち、層間絶縁層6に形成されたスルーホール6aに面する部分(即ち、第3部分5)が除去され、第2バッファ層9が直接に下部電極1に接している。即ち、バッファ層2は、下部電極1の上面の全面を被覆しているわけではない。加えて、バッファ層2のうち層間絶縁層6に被覆されている部分(即ち、第1部分3及び第2部分4)のスルーホール6aに隣接する部分が、酸化処理(例えば、プラズマ酸化及び熱酸化)によって酸化され、酸化部分20が形成されている。このような構造、特に、酸化部分20の存在は、抵抗変化層7とバッファ層2の酸化されていない部分(即ち、第2部分4)との距離を増大させ、スルーホール6aの底面の外周部の近傍において伝導パスが形成されることを抑制する。これは、下部電極1と上部電極8の間のショートの発生を抑制する上で好適である。
図11A〜図11Cは、本実施形態の抵抗変化素子10Bの製造方法を示す断面図である。図11A、図11Bに図示されているように、本実施形態でも、第1及び第2の実施形態と同様の手順により、下部電極1と保護膜41の形成、層間絶縁層6の形成、レジストマスク42の形成、スルーホール6aの形成、レジストマスク42の除去が行われる(工程(1)〜(4))。
ここで、図11Bに図示されているように、第3の実施形態では、保護膜41のスルーホール6aの内側に位置する部分がエッチングによって除去され(工程(5))、更に、保護膜41の層間絶縁層6に被覆されている部分のうち、スルーホール6aの近傍の部分が、酸化処理(例えば、プラズマ酸化及び熱酸化)によって酸化される(工程(6))。これにより、層間絶縁層6の下方において、バッファ層2の第1部分3、第2部分4、及び酸化部分20が形成される。本実施形態では、第1及び第2の実施形態とは異なり、バッファ層2がスルーホール6aの内側に位置する部分(即ち、第3部分5)を有していないことに留意されたい。
続いて、下部電極1の上面に接するように、第2保護膜45が形成される(工程(7))。第2保護膜45は、後の工程において第2バッファ層9に加工される膜である。本実施形態では、第2保護膜45は、下部電極1の上面のうちスルーホール6aの内側に位置する部分、及び、スルーホール6aの側面を被覆するように形成されている。
第2の実施形態と同様に、第3の実施形態においても、第2保護膜45は、保護膜41と同様に、下部電極1よりも酸化しやすい金属又は下部電極1よりも酸化しやすい金属の窒化物で形成されることが好ましい。下部電極1がルテニウムで形成される場合、第2保護膜45は、チタン又は窒化チタンのいずれかで形成されてもよい。工程の簡素化の観点からは、第2保護膜45は、保護膜41と同一の材料であることが好ましい。第2保護膜45は、例えば、スパッタリング法で形成してもよい。
続いて、第2保護膜45が酸化されて保護絶縁膜46が形成される(工程(8))。第2保護膜45は、自然酸化によって酸化しても良いし、積極的に、特定の酸化処理で酸化しても良い。例えば、プラズマ酸化又は熱酸化で第2保護膜45を酸化して保護絶縁膜46を形成しても良い。
続いて、保護絶縁膜46の上面を被覆するように、抵抗変化膜47が形成される(工程(9))。抵抗変化膜47は、例えば、タンタル酸化物(TaOX)、ハフニウム酸化物(HfOx)、ジルコニウム酸化物(ZrOx)で形成される。抵抗変化膜47は、スパッタリング法で形成してもよく、また、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、ALD(Atomic Layer Deposition)法で形成してもよい。
更に、抵抗変化膜47の上面を被覆するように導電膜48が形成される(工程(10))。導電膜48は、例えば、タングステン(W)、チタン(Ti)、窒化チタン(TiN)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銅−アルミニウム合金(CuAl)、タンタル(Ta)、窒化タンタル(TaN)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、モリブデン(Mo)、ルテニウム(Ru)、又は、白金(Pt)で形成され得る。導電膜48はスパッタリング法で形成してもよく、また、可能な場合には、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、ALD(Atomic Layer Deposition)法で形成してもよい。
その後、保護絶縁膜46、抵抗変化膜47及び導電膜48がパターニングされることで、それぞれ、第2バッファ層9、抵抗変化層7及び上部電極8が形成され、図10に図示されている構造の抵抗変化素子10Bの製造が完了する。
第3の実施形態の抵抗変化素子10Bの構造、及び、製造方法によっても、第1の実施形態と同様に、下部電極1の上面を被覆するようにバッファ層2(又は保護膜41)が形成されるので、下部電極1の表面部を保護することができ、抵抗変化素子10Bの特性劣化を抑制することができる。ここで、第3の実施形態では、バッファ層2のうちスルーホール6aに面している部分(即ち、第3部分5)がエッチングによって除去されるので、このエッチングの際に下部電極1にエッチングガスが注入され得る。しかしながら、層間絶縁層6の形成の際には保護膜41によって下部電極1の上面が被覆されるので、下部電極1の表面部の酸化の抑制の効果は得られる。
加えて、第3の実施形態では、バッファ層2のスルーホール6aに近接する部分が酸化されて酸化部分20が形成されるため、抵抗変化層7とバッファ層2の第2部分4(酸化されていない部分)との距離が増大されている。これは、スルーホール6aの底面の外周部の近傍において伝導パスが形成されることを抑制し、下部電極1と上部電極8の間のショートの発生を抑制するために有効である。
なお、第3の実施形態の抵抗変化素子10Bも、第1、第2の実施形態の抵抗変化素子10、10Aと同様に、図5、図6に図示されている構造のメモリセルに集積化可能である。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
1 :下部電極
2 :バッファ層
3 :第1部分
4 :第2部分
5 :第3部分
6 :層間絶縁層
6a :スルーホール
7 :抵抗変化層
8 :上部電極
9 :第2バッファ層
10 :抵抗変化素子
10A :抵抗変化素子
10B :抵抗変化素子
11 :半導体基板
11a :表側主面
12 :素子分離絶縁層
13 :MOSトランジスタ
14 :ドレイン領域
15 :ソース領域
16 :ゲート絶縁膜
17 :ゲート電極
18 :サイドウォール
19 :層間絶縁層
20 :酸化部分
21 :ビアコンタクト
22 :ビアコンタクト
23 :層間絶縁層
24 :層間絶縁層
25 :ビアコンタクト
26 :ビアコンタクト
27 :キャップ絶縁層
28 :層間絶縁層
29 :共通線
29a :バリアメタル層
29b :銅配線層
30 :ランド
30a :バリアメタル層
30b :銅配線層
31 :キャップ絶縁層
32 :層間絶縁層
33 :キャップ絶縁層
34 :ビット線
34a :バリアメタル層
34b :銅配線層
35 :ビアホール
41 :保護膜
41a :部分
41b :部分
42 :レジストマスク
42a :開口
43 :抵抗変化膜
44 :導電膜
45 :第2保護膜
46 :保護絶縁膜
47 :抵抗変化膜
48 :導電膜
101 :シリコン基板
102 :絶縁膜
103 :下部電極
104 :層間絶縁層
105 :抵抗変化層
106 :非晶質の絶縁層
107 :上部電極
B :領域
2 :バッファ層
3 :第1部分
4 :第2部分
5 :第3部分
6 :層間絶縁層
6a :スルーホール
7 :抵抗変化層
8 :上部電極
9 :第2バッファ層
10 :抵抗変化素子
10A :抵抗変化素子
10B :抵抗変化素子
11 :半導体基板
11a :表側主面
12 :素子分離絶縁層
13 :MOSトランジスタ
14 :ドレイン領域
15 :ソース領域
16 :ゲート絶縁膜
17 :ゲート電極
18 :サイドウォール
19 :層間絶縁層
20 :酸化部分
21 :ビアコンタクト
22 :ビアコンタクト
23 :層間絶縁層
24 :層間絶縁層
25 :ビアコンタクト
26 :ビアコンタクト
27 :キャップ絶縁層
28 :層間絶縁層
29 :共通線
29a :バリアメタル層
29b :銅配線層
30 :ランド
30a :バリアメタル層
30b :銅配線層
31 :キャップ絶縁層
32 :層間絶縁層
33 :キャップ絶縁層
34 :ビット線
34a :バリアメタル層
34b :銅配線層
35 :ビアホール
41 :保護膜
41a :部分
41b :部分
42 :レジストマスク
42a :開口
43 :抵抗変化膜
44 :導電膜
45 :第2保護膜
46 :保護絶縁膜
47 :抵抗変化膜
48 :導電膜
101 :シリコン基板
102 :絶縁膜
103 :下部電極
104 :層間絶縁層
105 :抵抗変化層
106 :非晶質の絶縁層
107 :上部電極
B :領域
Claims (13)
- 下部電極と、
前記下部電極の上面を被覆するバッファ構造体と、
層間絶縁層と、
データを抵抗の大きさとして記憶する抵抗変化層と、
前記抵抗変化層を被覆するように形成された上部電極
とを備え
前記バッファ構造体は、前記下部電極の上面の少なくとも一部を被覆する第1バッファ層を備えており、
前記層間絶縁層は、スルーホールを有し、且つ、前記第1バッファ層を被覆するように形成され、
前記抵抗変化層は、前記スルーホールの内部で前記バッファ構造体の上面に接するように形成され、
前記第1バッファ層は、前記層間絶縁層で被覆されている第1部分を有し、
前記第1部分は、前記下部電極の材料よりも酸化されやすい第1金属の酸化物で形成された
抵抗変化型不揮発性メモリ。 - 請求項1に記載の抵抗変化型不揮発性メモリであって、
前記第1バッファ層は、更に、前記下部電極の上面に接し、前記第1部分と前記下部電極の間に位置する第2部分を有し、
前記第2部分は、前記第1金属、又は、前記第1金属の窒化物で形成された
抵抗変化型不揮発性メモリ。 - 請求項2に記載の抵抗変化型不揮発性メモリであって、
前記第1バッファ層は、更に、前記下部電極の上面に接し、前記スルーホールに面する位置にある第3部分を有し、
前記第3部分は、前記第1金属の酸化物で形成された
抵抗変化型不揮発性メモリ。 - 請求項1に記載の抵抗変化型不揮発性メモリであって、
前記第1バッファ層は、更に、前記下部電極の上面に接し、前記スルーホールに面する位置にある第3部分を有し、
前記第3部分は、前記第1金属の酸化物で形成された
抵抗変化型不揮発性メモリ。 - 請求項3又は4に記載の抵抗変化型不揮発性メモリであって、
前記抵抗変化層は、前記第1バッファ層の前記第3部分に接するように形成された
抵抗変化型不揮発性メモリ。 - 請求項3又は4に記載の抵抗変化型不揮発性メモリであって、
前記バッファ構造体が、更に、前記第1バッファ層の前記第3部分の上面及び前記スルーホールの側面を被覆するように形成された第2バッファ層を備え、
前記抵抗変化層は、前記第2バッファ層の上面に接するように形成され、
前記第2バッファ層は、前記下部電極の材料よりも酸化されやすい第2金属の酸化物で形成された
抵抗変化型不揮発性メモリ。 - 請求項2に記載の抵抗変化型不揮発性メモリであって、
前記バッファ構造体が、更に、前記下部電極の前記スルーホールの内部にある部分の上面及び前記スルーホールの側面を被覆するように形成された第2バッファ層を備え、
前記第2バッファ層は、前記下部電極の材料よりも酸化されやすい第2金属の酸化物で形成され、
前記第1バッファ層は、更に、前記スルーホールに隣接しており、且つ、前記第1金属の酸化物で形成された酸化部分を備えており、
前記酸化部分は、前記第1バッファ層の前記第2部分と前記第2バッファ層の間に位置している
抵抗変化型不揮発性メモリ。 - 請求項6又は7に記載の抵抗変化型不揮発性メモリであって、
前記第1金属と前記第2金属が同一金属である
抵抗変化型不揮発性メモリ。 - 下部電極を形成する工程と、
前記下部電極の上面に、前記下部電極の材料よりも酸化しやすい第1金属又は前記下部電極の材料よりも酸化しやすい第1金属の窒化膜で保護膜を形成する工程と、
前記保護膜の上面を被覆する層間絶縁層を、酸化雰囲気で形成する工程と、
前記層間絶縁層を貫通して前記保護膜の上面に到達するスルーホールを形成する工程と、
前記保護膜のうち、前記スルーホールに面する部分を酸化する工程と、
前記保護膜の前記酸化された部分の上方に、データを抵抗の大きさとして記憶する抵抗変化層を形成する工程と、
前記抵抗変化層を被覆するように上部電極を形成する工程
とを具備する
抵抗変化型不揮発性メモリの製造方法。 - 請求項9に記載の抵抗変化型不揮発性メモリの製造方法であって、
前記抵抗変化層は、前記保護膜の前記酸化された部分に接するように形成される
抵抗変化型不揮発性メモリの製造方法。 - 請求項9に記載の抵抗変化型不揮発性メモリの製造方法であって、
更に、
前記保護膜の前記酸化された部分の上面に接するように、前記下部電極の材料よりも酸化しやすい第2金属の酸化物で形成されたバッファ層を形成する工程
を具備し、
前記抵抗変化層は、前記バッファ層の上面に接するように形成される
抵抗変化型不揮発性メモリの製造方法。 - 下部電極を形成する工程と、
前記下部電極の上面に、前記下部電極の材料よりも酸化しやすい第1金属又は前記下部電極の材料よりも酸化しやすい第1金属の窒化膜で第1保護膜を形成する工程と、
前記第1保護膜の上面を被覆する層間絶縁層を、酸化雰囲気で形成する工程と、
前記層間絶縁層を貫通して前記第1保護膜の上面に到達するスルーホールを形成する工程と、
前記第1保護膜のうち前記スルーホールに面する部分を除去して前記下部電極の一部分を露出させる工程と、
前記第1保護膜のうち前記スルーホールに隣接する部分を酸化して酸化部分を形成する工程と、
前記下部電極の前記一部分の上面に接するように、前記下部電極の材料よりも酸化しやすい第2金属の酸化物で形成されたバッファ層を形成する工程と、
前記バッファ層の上面に接するように、データを抵抗の大きさとして記憶する抵抗変化層を形成する工程と、
前記抵抗変化層を被覆するように上部電極を形成する工程
とを具備する
抵抗変化型不揮発性メモリの製造方法。 - 請求項11又は12に記載の抵抗変化型不揮発性メモリの製造方法であって、
前記第1金属と前記第2金属が同一金属である
抵抗変化型不揮発性メモリの製造方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016062626A (ja) * | 2014-09-17 | 2016-04-25 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路 |
JP2017085078A (ja) * | 2015-10-29 | 2017-05-18 | 華邦電子股▲ふん▼有限公司Winbond Electronics Corp. | 抵抗性メモリおよびその製造方法 |
US9947866B2 (en) | 2015-09-11 | 2018-04-17 | Toshiba Memory Corporation | Nonvolatile memory device manufacturing method |
-
2013
- 2013-02-25 JP JP2013035173A patent/JP2014165345A/ja active Pending
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