JP2014160224A5 - - Google Patents
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Description
本発明は、円筒状支持体と、導電層と、感光層と、をこの順に有する電子写真感光体において、
該導電層が、
(1)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子、
(2)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子、
(3)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子、
(4)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子、
(5)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子、および
(6)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子
からなる群から選択される少なくとも1種の金属酸化物粒子と、
結着材料と、を含有し、
該導電層の体積抵抗率が、1.0×10 8 Ω・cm以上5.0×10 12 Ω・cm以下であり、
該円筒状支持体と該導電層とから構成される試験用サンプルに対し、常温常湿(23℃/50%RH)環境下において、定電圧−1.0kVの直流電圧(直流成分のみ)を、
{(I t −I t+1 )/I t }×100
(電圧印加からt[分]後における電流量の絶対値をI t [μA]とし、t+1[分]後における電流量の絶対値をI t+1 [μA]とする)
が初めて1%以下になるまで連続して印加する試験を行った場合に、
該I t+1 が10μA以上となり、
該試験における最大電流量の絶対値(Ia)が6000μA以下となることを特徴とする電子写真感光体である。
該導電層が、
(1)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子、
(2)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子、
(3)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子、
(4)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子、
(5)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子、および
(6)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子
からなる群から選択される少なくとも1種の金属酸化物粒子と、
結着材料と、を含有し、
該導電層の体積抵抗率が、1.0×10 8 Ω・cm以上5.0×10 12 Ω・cm以下であり、
該円筒状支持体と該導電層とから構成される試験用サンプルに対し、常温常湿(23℃/50%RH)環境下において、定電圧−1.0kVの直流電圧(直流成分のみ)を、
{(I t −I t+1 )/I t }×100
(電圧印加からt[分]後における電流量の絶対値をI t [μA]とし、t+1[分]後における電流量の絶対値をI t+1 [μA]とする)
が初めて1%以下になるまで連続して印加する試験を行った場合に、
該I t+1 が10μA以上となり、
該試験における最大電流量の絶対値(Ia)が6000μA以下となることを特徴とする電子写真感光体である。
また、本発明は、円筒状支持体と、導電層と、感光層と、をこの順に有する電子写真感光体の製造方法であって、
該導電層が、溶剤、結着材料、および、(1)〜(6)からなる群から選択される少なくとも1種の金属酸化物粒子を含有する導電層用塗布液を調製し、該円筒状支持体に塗布することで形成され、
該金属酸化物粒子の粉体抵抗率が、1.0×103Ω・cm以上1.0×105Ω・cm以下であり、
該導電層用塗布液における、該金属酸化物粒子(P)と結着材料(B)の質量比(P/B)が、1.5/1.0以上3.5/1.0以下であり、
該導電層の体積抵抗率が、1.0×10 8 Ω・cm以上5.0×10 12 Ω・cm以下であることを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。
(1)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子
(2)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子
(3)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子
(4)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子
(5)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子
(6)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子
該導電層が、溶剤、結着材料、および、(1)〜(6)からなる群から選択される少なくとも1種の金属酸化物粒子を含有する導電層用塗布液を調製し、該円筒状支持体に塗布することで形成され、
該金属酸化物粒子の粉体抵抗率が、1.0×103Ω・cm以上1.0×105Ω・cm以下であり、
該導電層用塗布液における、該金属酸化物粒子(P)と結着材料(B)の質量比(P/B)が、1.5/1.0以上3.5/1.0以下であり、
該導電層の体積抵抗率が、1.0×10 8 Ω・cm以上5.0×10 12 Ω・cm以下であることを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。
(1)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子
(2)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子
(3)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子
(4)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子
(5)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子
(6)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子
Claims (6)
- 円筒状支持体と、導電層と、感光層と、をこの順に有する電子写真感光体において、
該導電層が、
(1)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子、
(2)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子、
(3)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子、
(4)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子、
(5)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子、および
(6)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子
からなる群から選択される少なくとも1種の金属酸化物粒子と、
結着材料と、を含有し、
該導電層の体積抵抗率が、1.0×10 8 Ω・cm以上5.0×10 12 Ω・cm以下であり、
該円筒状支持体と該導電層とから構成される試験用サンプルに対し、常温常湿(23℃/50%RH)環境下において、定電圧−1.0kVの直流電圧(直流成分のみ)を、
{(I t −I t+1 )/I t }×100
(電圧印加からt[分]後における電流量の絶対値をI t [μA]とし、t+1[分]後における電流量の絶対値をI t+1 [μA]とする)
が初めて1%以下になるまで連続して印加する試験を行った場合に、
該I t+1 が10μA以上となり、
該試験における最大電流量の絶対値(Ia)が6000μA以下となることを特徴とする電子写真感光体。 - 前記I t+1 が20μA以上であり、前記Iaが、5000μA以下である請求項1に記載の電子写真感光体。
- 請求項1または2に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
- 請求項1または2に記載の電子写真感光体、ならびに、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
- 円筒状支持体と、導電層と、感光層と、をこの順に有する電子写真感光体の製造方法であって、
該導電層が、溶剤、結着材料、および、(1)〜(6)からなる群から選択される少なくとも1種の金属酸化物粒子を含有する導電層用塗布液を調製し、該円筒状支持体に塗布することで形成され、
該金属酸化物粒子の粉体抵抗率が、1.0×103Ω・cm以上1.0×105Ω・cm以下であり、
該導電層用塗布液における、該金属酸化物粒子(P)と結着材料(B)の質量比(P/B)が、1.5/1.0以上3.5/1.0以下であり、
該導電層の体積抵抗率が、1.0×10 8 Ω・cm以上5.0×10 12 Ω・cm以下であることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
(1)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子
(2)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子
(3)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子
(4)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化スズ粒子
(5)ニオブがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子
(6)タンタルがドープされている酸化スズで被覆されている酸化亜鉛粒子 - 前記金属酸化物粒子の粉体抵抗率が、3.0×103Ω・cm以上5.0×104Ω・cm以下である請求項5に記載の電子写真感光体の製造方法。
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