JP2014118621A - Cu系磁気記録用合金およびスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体 - Google Patents

Cu系磁気記録用合金およびスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体 Download PDF

Info

Publication number
JP2014118621A
JP2014118621A JP2012276421A JP2012276421A JP2014118621A JP 2014118621 A JP2014118621 A JP 2014118621A JP 2012276421 A JP2012276421 A JP 2012276421A JP 2012276421 A JP2012276421 A JP 2012276421A JP 2014118621 A JP2014118621 A JP 2014118621A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic recording
based magnetic
alloy
recording medium
sputtering target
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012276421A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6026261B2 (ja
Inventor
Yoshiaki Matsubara
慶明 松原
Toshiyuki Sawada
俊之 澤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Special Steel Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Special Steel Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Special Steel Co Ltd filed Critical Sanyo Special Steel Co Ltd
Priority to JP2012276421A priority Critical patent/JP6026261B2/ja
Priority to PCT/JP2013/082186 priority patent/WO2014097860A1/ja
Priority to TW102145586A priority patent/TWI586820B/zh
Publication of JP2014118621A publication Critical patent/JP2014118621A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6026261B2 publication Critical patent/JP6026261B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C9/00Alloys based on copper
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • C23C14/185Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/851Coating a support with a magnetic layer by sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

【課題】 熱アシスト磁気記録媒体に用いるヒートシンク層用Cu系磁気記録合金およびスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 at%で、Cr,Mo,Wのうちの1種または2種以上を1〜23.4%を含有し、残部Cuおよび不可避的不純物からなることを特徴とするCu系磁気記録用合金。更にat%で、Al,Si,Zn,Mn,Niのうちの1種または2種以上を0.2〜5%を含有するCu系磁気記録用合金。また、更にat%で、Y,La,Ce,Nb,Sm,Gd,Tb,Dyのうちの1種または2種以上を0.1〜1%を含有するCu系磁気記録用合金。およびそれらのスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体。
【選択図】 なし

Description

本発明は、熱アシスト方式による磁気記録媒体の中のヒートシンク層に用いるCu系合金およびスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体に関するものである。
近年、垂直磁気記録の進歩は著しく、ドライブの大容量化のために、磁気記録媒体の高記録密度化が進められており、従来普及していた面内磁気記録媒体より更に高記録密度が実現可能な垂直磁気記録方式が実用化されている。ここで、垂直磁気記録方式とは、垂直磁気記録媒体の磁性膜中の媒体面に対して磁化容易軸が垂直方向に配向するように形成したものであり、高記録密度に適した方法である。更に、垂直磁気記録方式を応用し、熱により記録をアシストする方法も検討されている。
磁気記録媒体の記録密度上昇に伴って1ビット当たりの磁気記録媒体の体積は減少することから、熱擾乱により記録減磁の問題が顕在化し、より結晶磁気異方性定数(Ku)の高い磁気記録膜(CoPt,FePtなど)が必要とされる一方で、これら高結晶磁気異方性の材料は、現状の記録ヘッドの記録可能な磁界で記録できない。よって、熱アシスト記録方式では、記録材料の磁性が温度と共に減少することを利用して、記録時のみ対象領域をレーザー光、または近接場光を用いて加熱し、磁気記録を可能としている。
熱アシスト記録方式は、磁気記録技術と光記録技術を融合した記録方式であり、通常の磁気記録では記録できないような高保持力媒体に対して、レーザー光の照射による熱で記録磁気部分の保持力を局所的に下げて記録した後、室温まで冷却して保持力を大きくして保存するというものである。
熱アシスト記録方式では、記録時における加熱後は速やかに冷却されることが望ましいことから、熱拡散を促進するために、下地層と記録膜との間に、高い熱伝導率を有するヒートシンク膜が必要となる。このような熱アシスト記録方式の磁気記録媒体として、例えば、特開2008−210426号公報(特許文献1)および特開2011−150783号公報(特許文献2)が挙げられる。これらの文献には、熱拡散制御膜として、Cu,Ag,Au,W,Si,Moを含むヒートシンク層(特許文献1)やAgを母相としてNb,Bi,Cuを含むヒートシンク層(特許文献2)が開示されている。
特開2008−210426号公報 特開2011−150783号公報
しかしながら、これらの材料を用いる場合、Cu,Ag,Auを母相とする場合においては、熱伝導率は十分に高いが、薄膜の硬さが低く、逆に、W,Si,Moを母相とする場合は、薄膜の硬さは高いが、熱伝導率が低いという問題がある。ヒートシンク膜は、磁気記録メディアの膜構成の中で、比較的厚い膜であり、この硬さは膜構成全体の硬さを左右するため、メディアの耐衝撃性を確保するためにヒートシンク層の硬さは高い必要がある。
上述したような課題を解決するために、発明者らは鋭意研究を行った結果、ヒートシンク層の熱伝導率を保ちつつ、硬さが高い垂直磁気記録媒体を提供することを目的に、ヒートシンク層の熱伝導率を保ちつつ強度を上げることができるCu系合金を見出し発明に至った。
その発明の要旨とするところは、
(1)at%で、Cr,Mo,Wのうちの1種または2種以上を1〜23.4%を含有し、残部Cuおよび不可避的不純物からなることを特徴とするCu系磁気記録用合金。
(2)前記(1)に記載したCu系磁気記録用合金に、更にat%で、Al,Si,Zn,Mn,Niのうちの1種または2種以上を0.2〜5%を含有することを特徴とするCu系磁気記録用合金。
(3)前記(1)に記載したCu系磁気記録用合金に、更にat%で、Y,La,Ce,Nb,Sm,Gd,Tb,Dyのうちの1種または2種以上を0.1〜1%を含有することを特徴とするCu系磁気記録用合金。
(4)前記(1)に記載したCu系磁気記録用合金に、更にat%で、Al,Si,Zn,Mn,Niのうちの1種または2種以上を0.2〜5%を含有し、かつY,La,Ce,Nb,Sm,Gd,Tb,Dyのうちの1種または2種以上を0.1〜1%を含有することを特徴とするCu系磁気記録用合金。
(5)前記(1)〜(4)のいずれか1項に記載したCu系磁気記録用合金を用いたスパッタリングターゲット材。
(6)前記(1)〜(4)のいずれか1項に記載したCu系磁気記録用合金を用いた垂直磁気記録媒体にある。
以上述べたように、本発明は、高い熱伝導度と高硬度を併せ持つCu系磁気記録用合金であり、熱アシスト磁気記録媒体においてできるスパッタリングターゲットを提供できることにある。ヒートシンク層の硬さをあげることで、耐衝撃性の高い熱アシスト磁気記録媒体を提供できる。このように、本用途のヒートシンク層本来の熱伝導性を保ちつつ、硬さを高める技術思想は従来にはなかった。この考え方は本発明における最も特徴的な技術思想である。
以下に、本発明に係わる合金の限定理由を説明する。
Cr,Mo,W(A群元素)のうちの1種または2種以上を1〜23.4%
第6族元素であるCr,Mo,Wは、Cuに対して殆ど固溶せず、また、化合物を生成しないため、薄膜では純Cu母相中に微細に純Cr、純Mo、純Wが析出した組織となるため、純Cuの良好な熱伝導度を保ちつつ、析出強化によって硬さを高めることができる。しかし、1%未満の添加量では硬さの向上効果が見られない。また、23.4%を超える添加量では析出相の体積が大きく熱伝導度が大きく減少する。したがって、その範囲を1〜23.4%とした。好ましくは、硬さ向上効果をより高めるためには5〜23.4%とするのが望ましい。
Al,Si,Zn,Mn,Ni(B群元素)のうちの1種または2種以上を0.2〜5%
上記元素は、Cuに固溶し、Cu母相の硬さを高める一方、熱伝導度の低下率は、上述したCr,Mo,W元素よりも大きい。よって、最適な添加量として0.2〜5%の範囲とした。しかし、5%を超える添加量では、熱伝導度の低下が大きく、ヒートシンク層として必要な特性が得られない。したがって、硬さと熱伝導度のバランスがよい範囲として、3.5%以下の添加量が好ましい。
Y,La,Ce,Nb,Sm,Gd,Tb,Dy(C群元素)のうちの1種または2種以上を0.1〜1%
上記元素は、Cuに固溶せず、Cuと化合物を作る元素で、添加することで組織の微細化効果があり、それによって、膜の硬さを向上させることができるが、逆に熱伝導度は低下する。よって、最適な添加量として0.1〜1%の範囲とした。しかし、1%を超える添加量では熱伝導度の低下が大きく、ヒートシンク層として必要な特性が得られない。
以下、本発明について実施例によって具体的に説明する。
通常、垂直磁気記録媒体にけるシード層はその成分と同じ成分のスパッタリングターゲット材をスパッタし、ガラス基板などの上に成膜し得られる。ここで、スパッタにより成膜された薄膜は急冷されている。これに対し、本発明での供試材としては、単ロール式の急冷装置にて作製した急冷薄帯を用いる。これは実際にスパッタにより成膜された薄帯の成分による諸特性の影響を、簡易的に液体急冷薄帯により評価したものである。
[急冷薄帯の作製条件]
急冷薄帯の作製条件としては、表1および表2に示す各成分に秤量した原料20gを径40mm程度の水冷銅鋳型にて減圧して、Ar中でアーク溶解し、急冷薄帯の溶解母材とした。急冷薄帯の作製条件は、単ロール方式で径15mmの石英管中にて、この溶解母材をセットし、出湯ノズルの内径を1mmとし、雰囲気気圧を61kPa、噴霧差圧を69kPa、銅ロール(径300mm)の回転数を3000rpm、銅ロールと出湯ノズルのギャップを0.3mmにて出湯した。出湯温度は各溶解母材の溶け落ち直後の温度とした。このようにして、作製した急冷薄帯を供試材とし、以下の項目で評価した。
[急冷薄帯の熱伝導度]
熱伝導度は急冷薄帯を4端子法により測定し求めた固有抵抗を算出することで評価した。熱伝導度については、表1に示す比較例No.1の純Cuの値を1とした場合に、0.5未満を×、0.5〜0.6未満を△、0.6〜0.8未満を○、0.8以上を◎とした。これらの結果を表1および2に示す。
[急冷薄帯の硬さ]
急冷薄帯を縦に樹脂埋め研磨し、ビッカース硬度計にて測定した。測定荷重は25gで、n=10平均で評価した。表1に示す比較例No.1の純Cuの値を1とした場合に、1.0以下を×、1.0超え〜1.5を△、1.5超え〜2.5を○、2.5超を◎とした。これらの結果を表1および2に合わせて示す。
Figure 2014118621
Figure 2014118621
表1、2に示すように、No.2〜6、8〜11、13〜21、23〜25、27〜67は本発明例であり、No.1、7、12、22、26、68〜70は比較例である。
比較例No.1は、Cu単独であるために硬さが劣る。比較例No.7は、(A)群元素のCr含有量が高いために熱伝導度が劣る。比較例No12は、(A)群元素のMo含有量が高いために熱伝導度が劣る。比較例No22は、(A)群元素のCr、Mo、Wの合計含有量が高いために熱伝導度が劣る。
比較例No26は、(B)群元素のAlの含有量が高いために熱伝導度が劣る。比較例No68は、(C)群元素のYの含有量が高いために熱伝導度が劣る。比較例No69は、(C)群元素のYの含有量がより高いために熱伝導度が悪い。比較例No70は、(C)群元素のNdの含有量が高いために熱伝導度が悪い。
これに対して、本発明であるNo.2〜6、8〜11、13〜21、23〜25、27〜67は、いずれも本発明の条件を満たしていることから、高い熱伝導度を得ることが可能となり、かつ硬度を高め耐衝撃性に優れた合金を提供することができる。ただ、本発明であるNo.2の場合は、(A)群元素のCr含有量が低めの関係から硬度がやや劣るが耐衝撃性には問題がない。
以上述べたように、本発明により、特に高い熱伝導度と高強度を併せ持ち、ヒートシンク層の硬さを向上させ、かつ耐衝撃性に優れたCu系磁気記録用合金およびスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体を得ることを可能とした極めて優れた効果を奏するものである。


特許出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊

Claims (6)

  1. at%で、Cr,Mo,Wのうちの1種または2種以上を1〜23.4%を含有し、残部Cuおよび不可避的不純物からなることを特徴とするCu系磁気記録用合金。
  2. 請求項1に記載したCu系磁気記録用合金に、更にat%で、Al,Si,Zn,Mn,Niのうちの1種または2種以上を0.2〜5%を含有することを特徴とするCu系磁気記録用合金。
  3. 請求項1に記載したCu系磁気記録用合金に、更にat%で、Y,La,Ce,Nb,Sm,Gd,Tb,Dyのうちの1種または2種以上を0.1〜1%を含有することを特徴とするCu系磁気記録用合金。
  4. 請求項1に記載したCu系磁気記録用合金に、更にat%で、Al,Si,Zn,Mn,Niのうちの1種または2種以上を0.2〜5%を含有し、かつY,La,Ce,Nb,Sm,Gd,Tb,Dyのうちの1種または2種以上を0.1〜1%を含有することを特徴とするCu系磁気記録用合金。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載したCu系磁気記録用合金を用いたスパッタリングターゲット材。
  6. 請求項1〜4のいずれか1項に記載したCu系磁気記録用合金を用いた垂直磁気記録媒体。
JP2012276421A 2012-12-19 2012-12-19 Cu系磁気記録用合金およびスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体 Active JP6026261B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012276421A JP6026261B2 (ja) 2012-12-19 2012-12-19 Cu系磁気記録用合金およびスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体
PCT/JP2013/082186 WO2014097860A1 (ja) 2012-12-19 2013-11-29 Cu系磁気記録用合金及びスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体
TW102145586A TWI586820B (zh) 2012-12-19 2013-12-11 A Cu-based magnetic recording alloy, a sputtering target material, and a perpendicular magnetic recording medium using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012276421A JP6026261B2 (ja) 2012-12-19 2012-12-19 Cu系磁気記録用合金およびスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014118621A true JP2014118621A (ja) 2014-06-30
JP6026261B2 JP6026261B2 (ja) 2016-11-16

Family

ID=50978198

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012276421A Active JP6026261B2 (ja) 2012-12-19 2012-12-19 Cu系磁気記録用合金およびスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6026261B2 (ja)
TW (1) TWI586820B (ja)
WO (1) WO2014097860A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104962775A (zh) * 2015-06-30 2015-10-07 安庆市灵宝机械有限责任公司 一种截齿刀头用合金
JP2017088921A (ja) * 2015-11-04 2017-05-25 三菱マテリアル株式会社 Cu合金スパッタリングターゲット及びCu合金膜
CN107039097A (zh) * 2015-10-01 2017-08-11 日立金属株式会社 电子部件用多层布线膜以及覆盖层形成用溅射靶材
WO2021125196A1 (ja) * 2019-12-17 2021-06-24 宇部興産株式会社 黒鉛-銅複合材料、それを用いたヒートシンク部材、および黒鉛-銅複合材料の製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002109720A (ja) * 2000-09-28 2002-04-12 Hitachi Ltd 垂直磁気記録媒体及びこれを用いた磁気記憶装置
JP2012069230A (ja) * 2010-08-26 2012-04-05 Showa Denko Kk 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置
JP2013149316A (ja) * 2012-01-19 2013-08-01 Showa Denko Kk 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記録再生装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7038873B2 (en) * 2003-03-20 2006-05-02 Hitachi Maxell, Ltd. Magnetic recording medium having a specific relation of coercive force HC and residual magnetization MR in perpendicular direction to substrate surface
JP5105332B2 (ja) * 2008-08-11 2012-12-26 昭和電工株式会社 磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置
JP5693345B2 (ja) * 2011-04-14 2015-04-01 昭和電工株式会社 熱アシスト磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002109720A (ja) * 2000-09-28 2002-04-12 Hitachi Ltd 垂直磁気記録媒体及びこれを用いた磁気記憶装置
JP2012069230A (ja) * 2010-08-26 2012-04-05 Showa Denko Kk 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置
JP2013149316A (ja) * 2012-01-19 2013-08-01 Showa Denko Kk 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記録再生装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104962775A (zh) * 2015-06-30 2015-10-07 安庆市灵宝机械有限责任公司 一种截齿刀头用合金
CN107039097A (zh) * 2015-10-01 2017-08-11 日立金属株式会社 电子部件用多层布线膜以及覆盖层形成用溅射靶材
CN107039097B (zh) * 2015-10-01 2019-04-23 日立金属株式会社 电子部件用多层布线膜以及覆盖层形成用溅射靶材
JP2017088921A (ja) * 2015-11-04 2017-05-25 三菱マテリアル株式会社 Cu合金スパッタリングターゲット及びCu合金膜
WO2021125196A1 (ja) * 2019-12-17 2021-06-24 宇部興産株式会社 黒鉛-銅複合材料、それを用いたヒートシンク部材、および黒鉛-銅複合材料の製造方法
JPWO2021125196A1 (ja) * 2019-12-17 2021-06-24
JP7165341B2 (ja) 2019-12-17 2022-11-04 Ube株式会社 黒鉛-銅複合材料、それを用いたヒートシンク部材、および黒鉛-銅複合材料の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI586820B (zh) 2017-06-11
WO2014097860A1 (ja) 2014-06-26
JP6026261B2 (ja) 2016-11-16
TW201430148A (zh) 2014-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6116928B2 (ja) 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用CoFe系合金およびスパッタリングターゲット材
JP6026261B2 (ja) Cu系磁気記録用合金およびスパッタリングターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体
JP5698023B2 (ja) 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材ならびに磁気記録媒体
JP5359890B2 (ja) 軟磁性膜形成用Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材
CN103173666B (zh) 磁盘用铝合金基板及其制造方法
TWI558831B (zh) An alloy and a sputtering target for a soft magnetic film layer of a vertical magnetic recording medium
JP5714397B2 (ja) 磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体
JP6210503B2 (ja) 磁気記録用軟磁性用合金およびスパッタリングターゲット材
TWI480383B (zh) A magneto-optical recording medium for a magnetic recording medium, a sputtering target material, and a magnetic recording medium
JP2011099166A (ja) 軟磁性膜用Co−Fe系合金、軟磁性膜および垂直磁気記録媒体
JP5425530B2 (ja) 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用CoFeNi系合金およびスパッタリングターゲット材
JP5031443B2 (ja) 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金
TW201339342A (zh) 垂直磁記錄媒體之軟磁性薄膜層用合金以及濺鍍靶材以及具有軟磁性薄膜層之垂直磁記錄媒體
JP6442460B2 (ja) 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用CoFe系合金およびスパッタリングターゲット材
TWI683010B (zh) 非磁性且非晶質之合金以及利用了該合金之濺鍍靶材及磁記錄媒體
CN107251139B (zh) Ni-Cu系磁记录介质的籽晶层用合金和溅射靶材及磁记录介质
SG193095A1 (en) Thermal diffusion control film for use in magnetic recording medium for heat-assisted magnetic recording, magnetic recording medium, and sputtering target
JP6108201B2 (ja) 熱アシスト磁気記録媒体用ヒートシンク層
JP2020135907A (ja) 垂直磁気記録媒体の軟磁性層形成用スパッタリングターゲット、並びに、垂直磁気記録媒体及びその軟磁性層
JP2013011018A (ja) 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150803

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160209

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160407

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160726

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160829

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161011

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161012

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6026261

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250