JP2014116185A - 試料位置決め装置、荷電粒子線装置、および試料ホルダー - Google Patents

試料位置決め装置、荷電粒子線装置、および試料ホルダー Download PDF

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Abstract

【課題】外乱振動の影響を低減できる試料位置決め装置を提供する。
【解決手段】 試料位置決め装置100は、荷電粒子線装置用の試料位置決め装置であって、荷電粒子線装置の試料室1に連通可能な孔12を有しているベース10と、試料Sを保持可能な試料保持部23を有する第1部分22、および弾性部材34を介して第1部分22を支持している第2部分24を有し、孔12に移動可能に装着される試料ホルダー20と、試料室1において、第1部分22を支持する第1部分支持部40と、を含む。
【選択図】図1

Description

本発明は、試料位置決め装置、荷電粒子線装置、および試料ホルダーに関する。
電子顕微鏡では、試料を原子レベルの高い観察倍率で観察する場合や試料を高い精度で分析する場合に、外乱振動が問題となる。外乱振動は、例えば、装置が設置された床の振動等によって発生する。電子顕微鏡では、外乱振動によって装置が振動し、電子顕微鏡像が振動してしまうなどの問題が生じる(例えば特許文献1参照)。
ここで、電子顕微鏡では、試料位置決め装置によって試料の位置決めを行う。例えば、特許文献2には、試料を支持する試料ホルダー、試料をX軸方向に移動させるX軸駆動機構、および試料をY軸方向に移動させるY軸駆動機構を備えた試料位置決め装置が開示されている。
特許文献2に記載のX軸駆動機構は、試料ホルダーが大気圧で引き込まれることを防止しつつ、試料の位置をX軸方向に支持するレバーを有し、レバーを回転させることで試料をX軸方向に移動させる。すなわち、X軸駆動機構では、試料ホルダーを位置決めすることによって、試料のX軸方向の位置決めを行っている。
特許文献2に記載のY軸駆動機構は、試料ホルダーが収容される貫通孔を有するシフターを有し、シフターを球面軸受部の中心の周囲を回動させることで、試料をY軸方向に移動させる。すなわち、Y軸駆動機構では、試料ホルダー、シフター、および球面軸受部を位置決めすることによって、試料のY軸方向の位置決めを行っている。
特開2010−113810号公報 特開2010−157491号公報
本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、外乱振動の影響を低減できる試料位置決め装置、荷電粒子線装置、および試料ホルダーを提供することにある。
(1)本発明に係る試料位置決め装置は、
荷電粒子線装置用の試料位置決め装置であって、
荷電粒子線装置の試料室に連通可能な孔を有しているベースと、
試料を保持可能な試料保持部を有する第1部分、および弾性部材を介して前記第1部分を支持している第2部分を有し、前記孔に移動可能に装着される試料ホルダーと、
前記試料室において、前記第1部分を支持する第1部分支持部と、
を含む。
このような試料位置決め装置によれば、試料支持部を有する第1部分を、第2部分と独立して位置決めすることができる。したがって、例えば試料ホルダー全体を位置決めする場合と比べて、位置決めの対象となる部材を、軽量化することができる。そのため、外乱振動の影響を低減することができる。
(2)本発明に係る試料位置決め装置において、
前記第1部分支持部を介して、前記第1部分を移動させる第1部分駆動機構を含んでいてもよい。
(3)本発明に係る試料位置決め装置において、
前記第1部分駆動機構は、
軸部を回転駆動する駆動部と、
前記軸部の回転運動を直線運動に変換して前記第1部分支持部に伝達する変換部と、
を有していてもよい。
(4)本発明に係る試料位置決め装置において、
前記軸部は、前記試料室に連通可能な開口部に配置され、
前記軸部と前記開口部の内面との間には、磁性流体シールが設けられていてもよい。
このような試料位置決め装置によれば、軸部と開口部の内面との間を、Oリングを用いることなく磁性流体シールで封止しているため、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
(5)本発明に係る試料位置決め装置において、
前記ベースを回転可能に支持するベース支持部と、
前記ベースを介して、前記試料ホルダーを回転させるベース駆動機構と、
前記ベース支持部と前記ベースとの間に設けられている磁性流体シールと、
を含んでいてもよい。
このような試料位置決め装置によれば、ベース支持部とベースとの間を、Oリングを用いることなく磁性流体シールで封止しているため、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
(6)本発明に係る試料位置決め装置において、
前記第2部分に装着され、前記第2部分と前記孔の内面との間を封止するためのOリングを含んでいてもよい。
このような試料位置決め装置によれば、第1部分の移動によっても、Oリングが摺動しないため、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
(7)本発明に係る試料位置決め装置において、
前記試料ホルダーは、前記第2部分に接続された第3部分を有し、
前記第3部分は、前記孔の径よりも大きい幅を有していてもよい。
このような試料位置決め装置によれば、第3部分を、試料室の圧力と大気圧との圧力差により生じる力によって、ベースに固定することができる。そのため、試料室の圧力と大気圧との圧力差によって試料ホルダーにかかる力を、ベースで支えることができる。したがって、大気圧の変動による試料ホルダーの移動を抑制でき、試料のドリフトを抑制することができる。
(8)本発明に係る荷電粒子線装置は、
本発明に係る試料位置決め装置を含む。
このような試料位置決め装置によれば、本発明に係る試料位置決め装置を含むため、外
乱振動の影響を低減することができる。
(9)本発明に係る試料ホルダーは、
荷電粒子線装置用の試料ホルダーであって、
試料を保持可能な試料保持部を有する第1部分と、
弾性部材を介して前記第1部分を支持している第2部分と、
を含む。
このような試料ホルダーによれば、試料保持部を有する第1部分を、第2部分と独立して位置決めすることができる。したがって、例えば試料ホルダー全体を位置決めする場合と比べて、位置決めの対象となる部材を、軽量化することができる。そのため、外乱振動の影響を低減することができる。
第1実施形態に係る試料位置決め装置を模式的に示す断面図。 第1実施形態に係る試料位置決め装置を模式的に示す断面図。 第1実施形態に係る試料位置決め装置の試料ホルダーを模式的に示す図。 第1実施形態に係る試料位置決め装置の自在継手部を模式的に示す断面図。 アフタードリフトを説明するための図。 1自由度系の振動モデルを示す図。 第1実施形態の変形例に係る試料位置決め装置の試料ホルダーを模式的に示す図。 第1実施形態の変形例に係る試料位置決め装置の試料ホルダーを模式的に示す断面図。 第2実施形態に係る荷電粒子線装置の構成を説明するための図。
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
1. 第1実施形態
1.1. 試料位置決め装置の構成
まず、第1実施形態に係る荷電粒子線装置用の試料位置決め装置の構成について図面を参照しながら説明する。図1および図2は、第1実施形態に係る荷電粒子線装置用の試料位置決め装置100を模式的に示す断面図である。図2は、試料ホルダー20の先端付近を拡大して示している。なお、図1および図2には、原点Oで互いに直交する軸として、X軸、Y軸、Z軸を図示している。
図1および図2は、試料位置決め装置100の使用状態、すなわち、試料ホルダー20をベース10に装着した状態を示している。
試料位置決め装置100は、本発明に係る試料ホルダーを含む。ここでは、本発明に係る試料ホルダーとして、試料ホルダー20を含む場合について説明する。
試料位置決め装置100は、図1に示すように、ベース10と、試料ホルダー20と、先端支持部40と、を含む。試料位置決め装置100は、さらに、X軸駆動機構50と、Y軸駆動機構60と、ベース駆動機構(以下「回転駆動機構」ともいう)70と、フランジ80と、を含むことができる。なお、第1実施形態では、試料位置決め装置100は、透過型電子顕微鏡の試料位置決め装置である。
試料位置決め装置100は、試料Sを試料室1の所望の位置へ移動および静止させることができる。具体的には、試料位置決め装置100は、試料ホルダー20によって試料Sを支持し、駆動機構50,60によって、試料室1において、X,Y軸方向に試料Sを移動させることができる。また、試料位置決め装置100は、回転駆動機構70によって、試料Sを傾斜させることができる。
透過電子顕微鏡の試料室1は、減圧状態に維持可能である。試料室1は、公知のポンプ(図示しない)によって真空排気されることにより減圧状態に維持される。試料室1には、試料ホルダー20によって試料Sが導入される。試料室1に導入された試料Sには、電子線が照射される。試料室1は、鏡筒2に囲まれた空間である。図示の例では、電子線は、鏡筒2内をZ軸に沿って進行する。
試料ホルダー20は、ベース10の孔12に対して、移動可能に装着される。これにより、試料ホルダー20は、ベース10に対して取り付け、取り外しが可能となる。試料ホルダー20をベース10の孔12に挿入することにより、試料ホルダー20をベース10の孔12に装着することができる。試料ホルダー20は、第1部分(以下「分離先端部」ともいう)22と、第2部分(以下「シャフト部」ともいう)24と、第3部分(以下「グリップ部」ともいう)26と、を有する。
分離先端部22は、試料Sを保持可能な試料保持部23を有している。試料保持部23は、例えば、分離先端部22の先端に設けられている。試料保持部23は、図示はしないが、例えば、試料Sをねじの締め付けにより固定してもよいし、試料Sをリング状のばねを用いて押さえることにより固定してもよい。試料ホルダー20がベース10の孔12に装着されると、試料保持部23は、試料室1に配置される。
シャフト部24は、試料ホルダー20がベース10の孔12に装着されると、ベース10の孔12に配置される。シャフト部24には、Oリング36が装着されている。具体的には、シャフト部24の外周面には、溝25が周設されており、この溝25内にOリング36が装着されている。シャフト部24の先端には、図2に示すように、X軸方向に穴が設けられており、分離先端部22の一部は、この穴に挿入される。
グリップ部26は、図1に示すように、シャフト部24に接続されている。グリップ部26は、シャフト部24に固定されている。グリップ部26の幅W(図1の例では、Y軸方向の長さ)は、ベース10の孔12の径よりも大きい。そのため、試料ホルダー20がベース10の孔12に装着されると、グリップ部26は、ベース10の孔12に挿入されず、試料室1の圧力と大気圧との圧力差により生じる力によって、ベース10に押しつけられる。すなわち、グリップ部26は、試料室1の圧力と大気圧との圧力差により生じる力によって、ベース10に固定される。図示の例では、グリップ部26は、ベース10の端面14に押しつけられている。
分離先端部22とシャフト部24とは、弾性部材34を介して接続されている。分離先端部22とシャフト部24とを弾性部材34で接続することにより、分離先端部22をシャフト部24と独立して移動させることができる。図示の例では、弾性部材34は、ばねである。なお、弾性部材34としては、分離先端部22をシャフト部24と独立して移動させることができれば特に限定されず、ゴム等であってもよい。弾性部材34の一方の端部は、シャフト部24に接続されており、他方の端部は、分離先端部22に接続されている。弾性部材34は、分離先端部22にシャフト部24から遠ざかる方向(図示の例では−X軸方向)の力を作用させる。すなわち、弾性部材34は、圧縮ばねである。図示の例では、弾性部材34によって、分離先端部22は、先端支持部40のスライダ42に押し
付けられている。そのため、分離先端部22は、先端支持部40を移動させることにより、シャフト部24と独立して移動することができる。弾性部材34の発生力は、Oリング36でシールされる面積にかかる大気圧による力よりも小さくなるように設定される。すなわち、弾性部材34の発生力は、試料室1の圧力と大気圧との圧力差によって試料ホルダー20にかかる荷重よりも小さくなるように設定される。
Oリング36は、ベース10の孔12の内面(孔12を規定するベース10の面)と接して、ベース10と試料ホルダー20との間を気密に封止している。Oリング36は、シャフト部24の移動に伴って、ベース10の孔12内を摺動する。Oリング36の材質は、例えば、ゴムなどの粘弾性材料である。
図3は、試料ホルダー20を模式的に示す図である。図3は、試料ホルダー20をベース10から取り外した状態を示している。
試料ホルダー20では、シャフト部24とグリップ部26が固定されている。また、分離先端部22とシャフト部24とは、試料ホルダー20をベース10から取り外した状態では、ピン32、弾性部材34、および溝35によって固定される。したがって、試料ホルダー20は、ベース10から取り外した状態では、分離先端部22、シャフト部24、およびグリップ部26が分離せずに一体となっている。
具体的には、分離先端部22は、弾性部材34によって、シャフト部24に設けられたV字型の溝35の内面35aに、分離先端部22に固定されたピン32が押し当てられることにより固定される。これにより、試料ホルダー20をベース10から抜き取ったときに、分離先端部22がシャフト部24から外れないようにすることができる。分離先端部22には、例えば、4本のピン32が固定されている。シャフト部24には、4本のピン32に対応して4つの溝35が設けられている。
図1に示すように、試料ホルダー20がベース10の孔12に挿入されると、Oリング36により真空シールされる試料室1の圧力と大気圧力の差によって、グリップ部26がベース10の端面14に押し付けられ、シャフト部24およびグリップ部26が固定される。このとき、分離先端部22は、先端支持部40のスライダ42に弾性部材34によって押し付けられ固定される。また、弾性部材34が圧縮されることにより、ピン32が溝35の内面35aから離れ、分離先端部22とシャフト部24とが分離される。すなわち、分離先端部22は、シャフト部24とは独立して移動が可能となる。また、分離先端部22には、スライダ42に設けられた位置決めピン43の直径よりも幅の広い溝37が設けられている。この位置決めピン43と溝37によって、シャフト部24に対する分離先端部22の回転を拘束する。図示の例では、位置決めピン43および溝37は、分離先端部22のX軸まわりの回転の自由度を拘束する。
ベース10は、試料室1に連通する孔12を有している。図示の例では、孔12は、ベース10を、X軸方向に貫通している。孔12の形状は、例えば、円柱状であり、孔12の中心軸(図示しない)は、X軸に平行である。孔12には、試料ホルダー20が挿入される。これにより、試料ホルダー20のシャフト部24は、Y軸方向およびZ軸方向の移動が規制される。
先端支持部40は、試料室1において、分離先端部22を支持する。先端支持部40は、図2に示すように、スライダ42と、ロータ44と、を含んで構成されている。
スライダ42は、リニアガイド45を介して、ロータ44に直動(直線的に移動)可能に固定されている。スライダ42は、リニアガイド45によって、ロータ44に対してリ
ニアガイド45に沿った直動以外の移動が規制される。図示の例では、スライダ42は、リニアガイド45によって、ロータ44に対してX軸方向の直動以外の移動が規制されている。
リニアガイド45は、ガイド溝45aと、ガイド溝45a内に転動可能に挟持されている複数のボール45bと、を含んで構成されている。ガイド溝45aは、図示の例では、X軸方向に沿って形成されている。ボール45bは、スライダ42とロータ44の間に配置されている。ボール45bが転がることでスライダ42は小さな抵抗で直動することができる。リニアガイド45は、スライダ42の直進以外の自由度を拘束する。図示の例では、リニアガイド45は、スライダ42のX軸方向の直動以外の自由度を拘束している。
ロータ44は、自在継手部46を介して、ステータ82に固定されている。ロータ44は、原点O周りに数度の角度範囲で回転可能である。すなわち、原点Oは、ロータ44の回転中心である。図4は、自在継手部46を模式的に示す断面図である。なお、図4は、図2のIV−IV線断面図である。自在継手部46は、リング47と、ベアリング48a,48bと、ねじ49と、を含んで構成されている。
ロータ44およびステータ82は、それぞれ、一対のベアリング48a,48bを介してねじ49でリング47に固定されている。ベアリング48a,48bには、予圧がかけられるようになっており、ロータ44はがたのない状態で回転可能である。図示の例では、ロータ44は、リング47をY軸方向に挟むように設けられている。また、ステータ82は、リング47をZ軸方向に挟むように設けられている。
自在継手部46では、リング47およびロータ44は、ステータ82に対してZ軸まわりに回転が可能である。また、ロータ44は、リング47に対してY軸まわりに回転が可能である。したがって、ロータ44は、原点Oまわりに自在に回転可能である。リング47は、中空であり、リング47の内側には、シャフト部24が通っている。
なお、自在継手部46は、ステータ82が自在継手部を介してロータ44を自在に回転可能に支持できればその構成は特に限定されない。
ステータ82は、ベース10に固定されている。ステータ82およびベース10が一体となってベアリング83a,83bによりX軸まわりに回転が可能に支持されている。図示の例では、ベアリング83aは、ステータ82と鏡筒2との間に設けられている。ベアリング83aの外輪は、鏡筒2に対して固定されている。また、ベアリング83bは、ベース10とフランジ80との間に設けられている。ベアリング83bの外輪は、フランジ80に対して固定されている。ステータ82がX軸まわりに回転することにより、試料ホルダー20(試料S)がX軸まわりに回転する。
フランジ80は、ベース10を支持している。すなわち、フランジ80は、ベース10を支持するためのベース支持部として機能する。フランジ80とベース10との間のシールは、磁性流体シール84によって行われている。これにより、ベース10が回転しても、試料室1を減圧状態に保つことができる。
X軸駆動機構50は、モーター52と、軸部(以下「モーター軸」ともいう)53と、カップリング54と、磁性流体シール55と、カップリング56と、回転運動を直線運動に変換する変換部59と、を含んで構成されている。
モーター52は、モーター軸53を回転駆動する。すなわち、モーター52は、モーター軸53に回転を付与する。ここでは、軸部53を回転駆動する駆動部としてモーター5
2を示したが、駆動部は軸部を回転駆動することができれば、モーターに限定されない。モーター52は、プレート85に固定されている。プレート85は、ウォームホイール74に固定されている。
モーター軸53は、カップリング54、磁性流体シール55、およびカップリング56を介して、ボールナット57に接続されている。モーター軸53は、ベース10に設けられた開口部15に配置されている。開口部15は、磁性流体シール55によって、外部と連通する空間と、試料室1に連通する空間とに分けられている。
磁性流体シール55は、ベース10に設けられた開口部15の内面とモーター軸63との間に設けられている。磁性流体シール55は、開口部15の内面とモーター軸53との間をシールする。開口部15の内面は、開口部15を規定するベース10の面である。磁性流体シール55によって、試料室1を減圧状態に保ちつつ、モーター軸53を試料室1に連通する空間まで導入することができる。
カップリング56は、伸縮および微小角の回転が可能となっている。カップリング56は、モーター軸53の直線的な移動およびロータ44の回転によるモーター軸53の回転を吸収することができる。これにより、ボールねじ58が回転して軸方向(X軸方向)に移動しても回転力を伝達することができる。また、Y軸駆動機構60やZ軸駆動機構(図示せず)の動作によりロータ44とボールナット57がともに原点Oを中心として回転移動した場合にも、回転力を伝達することができる。
カップリング54およびカップリング56としては、例えば外ハブの溝と内ハブの窪みに保持されたボールを介して回転伝達するボールカップリング、円柱状の材料に螺旋状のスリットを入れたヘリカルカップリング、ベローズを用いたベローズカップリング等を用いることができる。
変換部59は、ボールナット57と、ボールねじ58と、を含んで構成されている。
ボールナット57は、ロータ44に固定されている。ボールナット57は、ボールねじ58に螺合する。
ボールねじ58の先端は、球状になっており、スライダ42に接触している。この接触面に予圧を与えるために、図示はしないが、スライダ42とロータ44の間には、引張ばねが設けられている。ボールねじ58とボールナット57との間には予圧がかけられており、ボールねじ58が回転してもボールねじ58の軸の姿勢が変化しないように形成されている。
モーター52が回転すると、モーター軸53が回転し、ボールねじ58が軸方向(X軸方向)に移動する。これにより、ボールねじ58の先端に接触するスライダ42は、リニアガイド45に沿って直線的に移動する。すなわち、ボールナット57およびボールねじ58は、モーター軸53の回転運動を直線運動に変換してスライダ42に伝達する。
X軸駆動機構50は、分離先端部22(試料S)をリニアガイド45に沿って直線的に移動させることができる。なお、図示の場合には、X軸駆動機構50は、分離先端部22をX軸に平行に移動させる。また、ロータ44が図示の位置から所定角度θだけ回転した場合には、リニアガイド45の向きも変わるため、X軸駆動機構50は、分離先端部22をX軸に対して所定角度θだけ傾いた軸に平行に移動させることができる。
Y軸駆動機構60は、モーター62と、軸部(以下「モーター軸」ともいう)63と、
カップリング64と、磁性流体シール65と、カップリング66と、回転運動を直線運動に変換する変換部69と、を含む。
モーター62は、モーター軸63を回転駆動する。すなわち、モーター62は、モーター軸63に回転を付与する。モーター62は、プレート85に固定されている。ここでは、軸部63を回転駆動する駆動部としてモーター62を示したが、駆動部は軸部を回転駆動することができれば、モーターに限定されない。
モーター軸63は、カップリング64、磁性流体シール65、およびカップリング66を介して、ボールナット67に接続されている。モーター軸63は、ベース10に設けられた開口部16に配置されている。開口部16は、磁性流体シール65によって、外部と連通する空間と、試料室1に連通する空間とに分けられている。
磁性流体シール65は、ベース10に設けられた開口部16の内面とモーター軸63との間に設けられている。磁性流体シール65は、開口部16の内面とモーター軸63との間をシールする。開口部16の内面は、開口部16を規定するベース10の面である。磁性流体シール65によって、試料室1を減圧状態に保ちつつ、モーター軸63を試料室1に連通する空間まで導入することができる。
カップリング66は、伸縮可能となっている。カップリング66は、モーター軸63の直線的な移動を吸収することができる。これにより、ボールねじ68が回転して軸方向(X軸方向)に移動しても回転力を伝達することができる。
カップリング64およびカップリング66としては、例えば、ボールカップリング、ヘリカルカップリング、ベローズカップリング等を用いることができる。
変換部69は、ボールナット67と、ボールねじ68と、を含んで構成されている。
ボールナット67は、ステータ82に固定されている。ボールナット67は、ボールねじ68に螺合する。
ボールねじ68の先端は、球状になっており、ロータ44に接触している。この接触面に予圧を与えるために、ばね88が設けられている。ボールねじ68とボールナット67との間には予圧がかけられており、ボールねじ68が回転してもボールねじ68の軸の姿勢が変化しないように形成されている。
モーター62が回転すると、モーター軸63が回転し、ボールねじ68が軸方向(X軸方向)に移動する。これにより、ボールねじ68の先端に接触するロータ44は、Z軸まわりに回転する。すなわち、ボールナット67およびボールねじ68は、モーター軸63の回転運動を直線運動に変換してロータ44に伝達する。これにより、分離先端部22は、Z軸まわりに回転する。
Y軸駆動機構60は、分離先端部22をZ軸まわりに回転させることができる。この分離先端部22の回転による移動は、微小範囲では擬似的にY軸方向の移動とみなすことができる。したがって、Y軸駆動機構60は、試料Sを疑似的にY軸方向に移動させることができる。
試料位置決め装置100では、図示はしないが、さらに、Z軸駆動機構を有することができる。Z軸駆動機構は、Y軸駆動機構60と同様の構成であり、ボールねじがロータ44に接触する位置が、Y軸駆動機構60のボールねじ68がロータ44に接触する位置に
対して、X軸まわりに90°回転した位置である。したがって、ロータ44の姿勢は、ロータ44とY軸駆動機構60のボールねじ68との接触点、ロータ44とZ軸駆動機構のボールねじとの接触点、および回転中心(原点)の3点で決定される。
回転駆動機構70は、ウォームギア72と、ウォームホイール74と、モーター(図示せず)と、を含んで構成されている。ウォームホイール74は、ベース10に固定されている。モーターは、ベース10に固定されている。モーターは、ウォームギア72を回転駆動する。ウォームギア72が回転すると、ウォームホイール74が回転し、ベース10がX軸まわりに回転する。これにより、ベース10に固定されたステータ82がベース10と一体となって回転し、試料ホルダー20がX軸まわりに回転する。
1.2. 試料位置決め装置の動作
次に、第1実施形態に係る荷電粒子線装置用の試料位置決め装置100の動作について図1〜3を参照しながら説明する。
まず、試料SのX軸方向の位置決めについて説明する。試料位置決め装置100では、試料SのX軸方向の位置決めは、X軸駆動機構50によって行われる。具体的には、モーター52がモーター軸53を回転させることにより、ボールナット57が回転する。ボールナット57の回転によりボールねじ58が移動し、スライダ42がリニアガイド45に沿って移動する。これにより、分離先端部22が、リニアガイド45に沿って移動し(図示の例ではX軸方向に移動し)、試料SのX軸方向の位置決めを行うことができる。
試料位置決め装置100では、X軸駆動機構50によって、試料SをX軸方向に移動させても、開口部15の内面とモーター軸53との間に設けられた磁性流体シール55によって、試料室1を減圧状態に保つことができる。このように、試料位置決め装置100では、開口部15の内面とモーター軸53との間を、Oリングを用いることなく磁性流体シール55で封止することができるため、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
ここで、アフタードリフトについて説明する。図5は、アフタードリフトを説明するための図である。なお、図5では、便宜上、XモーターM2は、回転するものではなく、直動するものとして図示した。XモーターM2がA方向(例えば、+X軸方向)に駆動したとき、試料ホルダーM4は、試料ホルダー支持部M6に設けられたベアリングM8によって支持されながらA方向に直線的に移動させられる。このとき、試料ホルダーM4には、A方向とは反対方向のB方向(例えば、−X軸方向)に、大気圧(試料室の圧力と大気圧との圧力差により生じる力)P、および試料ホルダーM4に装着されたOリングの摩擦抵抗力Fが働く。なお、XモーターM2とベアリングM8との間には、X送り機構の剛性(ばね性)M10が存在する。したがって、試料ホルダーM4の位置は、XモーターM2の駆動量だけではなく、大気圧Pと、Oリングの摩擦抵抗力Fと、X送り機構の剛性M10とのバランスによって決定される。Oリングの摩擦抵抗力Fがない場合には、大気圧PとX送り機構の剛性M10のたわみによる力がつり合うため、XモーターM2の移動量と試料ホルダーM4の移動量は一致する。一方、Oリングの摩擦抵抗力Fがある場合、送り方向と逆向きに摩擦抵抗力が働くため、試料ホルダーM4の移動量は、XモーターM2の駆動量よりも小さくなる。
ところで、Oリングの素材であるゴムなどの粘弾性材料には、応力緩和が生じることが知られている。試料ホルダーM4の移動によってOリングは変形させられ、Oリングには応力が発生する。当該応力は、応力緩和によって時間経過とともに漸減する。したがって、Oリングの摩擦抵抗力FによってX送り機構の剛性M10に発生したたわみは、時間経過とともに少なくなる。つまり、試料ホルダーM4は、XモーターM2によって移動させ
られた方向(A方向)に移動しつづける。これが、試料移動後のアフタードリフトとして観察される。
試料位置決め装置100では、上述したように、開口部15の内面とモーター軸53との間を、Oリングを用いることなく磁性流体シール55で封止することができるため、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
また、X軸駆動機構50によって位置決めされるのは、分離先端部22である。したがって、例えば、試料ホルダー全体を位置決めする場合と比べて、位置決めされる部材を軽量化することができる。また、例えば、図示しないテコ機構の回転運動によって試料をX軸方向に移動させる駆動機構の場合には、テコを構成する部材が比較的長くなりその曲げ剛性が低くなることがあるが、X軸駆動機構50では、テコを構成する要素が存在しないため、それと比べて、高い剛性を有することができる。
次に、試料SのY軸方向の位置決めについて説明する。試料位置決め装置100では、試料SのY軸方向の位置決めは、Y軸駆動機構60によって行われる。具体的には、モーター62がモーター軸63を回転させることにより、ボールねじ68が回転する。このとき螺合するボールナット67が固定されているため、ボールねじ68はX方向に直動し、これに接触するロータ44がZ軸まわりに回転する。これにより、分離先端部22が微小領域では擬似的にY軸方向に移動し、試料SのY軸方向の位置決めを行うことができる。
試料位置決め装置100では、Y軸駆動機構60によって、試料Sを疑似的にY軸方向に移動させても、開口部16の内面とモーター軸63との間に設けられた磁性流体シール65によって、試料室1を減圧状態に保つことができる。このように、試料位置決め装置100では、開口部16の内面とモーター軸63との間を、Oリングを用いることなく磁性流体シール65で封止することができるため、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
また、Y軸駆動機構60によって位置決めされるのは、分離先端部22および先端支持部40である。したがって、例えば、先端が分離しない試料ホルダーを位置決めするための構成と比べて、位置決めされる部材を軽量化することができる。さらに、ボールナット67から、ボールねじ68がロータ44に接触する接触点までのボールねじ68の長さを短くすることができ、かつ、当該接触点から試料S(試料保持部23)までのY軸方向の距離も短くできる。したがって、ロータ44、ボールねじ68を含む分離先端部22を移動させるための機構の剛性を高めることができ、外乱振動の影響を低減することができる。また、各距離を短くできることによって、温度変化による熱膨張に伴う試料移動、すなわち、熱ドリフトを抑制することができる。
なお、試料SのZ軸方向の駆動については、Y軸駆動機構60と同様の構成を有するZ軸駆動機構によって行われるため、その説明を省略する。
次に、試料SのX軸まわりの位置決めについて説明する。試料位置決め装置100では、試料SのX軸まわりの位置決めは、回転駆動機構70によって行われる。具体的には、図示しないモーターによりウォームギア72を回転させると、ウォームホイール74により回転方向が変換され、ベース10がX軸まわりに回転する。これにより、試料ホルダー20が回転し、試料SのX軸まわりの位置決めを行うことができる。
試料位置決め装置100では、回転駆動機構70によって、試料Sを回転させても、ベース10とフランジ80との間に設けられている磁性流体シール84によって、試料室1を減圧状態に保つことができる。このように、ベース10とフランジ80との間を、Oリ
ングを用いることなく磁性流体シール84で封止することができるため、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
試料位置決め装置100および試料ホルダー20は、例えば、以下の特徴を有する。
試料位置決め装置100では、試料室1に連通可能な孔12を有しているベース10と、試料Sを保持可能な試料保持部23を有する分離先端部22、および弾性部材34を介して分離先端部22を支持しているシャフト部24を有し、孔12に移動可能に装着される試料ホルダー20と、試料室1において、分離先端部22を支持する先端支持部40と、を含む。これにより、分離先端部22を、シャフト部24と独立して位置決めすることができる。したがって、例えば試料ホルダー全体を位置決めする場合と比べて、位置決めの対象となる部材(分離先端部22)を、軽量化することができる。そのため、試料位置決め装置100では、外乱振動の影響を低減することができる。
ここで、軽量化と外乱振動の関係について説明する。図6は、1自由度系の振動モデルを示す図である。図6において、ベースBが周波数fHz、変位aで強制振動した際、ばねSpでベースBに接続されている質量Mの変位をaとおいて、ベースBと質量Mとの間の標準化された相対変位|a−a|/aは、下記式で表される。
Figure 2014116185
ここで、λは系の固有振動数fに対する周波数fの比、ξは1自由度系の減衰比である。
λが1より十分に小さな領域において、相対変位はλに比例する。床振動等の外乱振動は、一般的に、除振機D等で高周波の振動の伝達が抑制されるので、問題になるのは、数Hzの周波数成分である。数Hzという周波数は装置の固有振動数より十分に低いため、λが1より十分に小さいという条件を満たす。強制振動の周波数fが一定のとき、相対変位は系の固有振動数fの2乗に反比例する。すなわち、下記式のように表される。
Figure 2014116185
よって、相対変位を小さくして外乱振動の影響を低減するためには、系の固有振動数fを高くすることが必要である。そのためには、ばねSpのばね定数を高めるか、あるいは質量Mを軽減することが重要である。試料位置決め装置100では、位置決めされる部材を軽量化できるため、上述のように系の固有振動数を高くすることができ、外乱振動の影響、すなわち、相対変位量を低減できる。
試料位置決め装置100では、先端支持部40を介して、分離先端部22を移動させるX軸駆動機構50およびY軸駆動機構60を含むため、分離先端部22をX軸方向およびY軸方向に移動させることができる。
試料位置決め装置100では、X軸駆動機構50は、モーター軸53を回転駆動するモーター52と、モーター軸53の回転運動を直線運動に変換して先端支持部40(スライダ42)に伝達する変換部59と、を含む。また、モーター軸53は、試料室1に連通する開口部15に配置され、モーター軸53と開口部15の内面との間には、磁性流体シー
ル55が設けられている。これにより、試料位置決め装置100では、モーター軸53と開口部15の内面との間を、Oリングを用いることなく磁性流体シール55で封止することができるため、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
また、試料位置決め装置100では、Y軸駆動機構60は、モーター軸63を回転駆動するモーター62と、モーター軸63の回転運動を直線運動に変換して先端支持部40(ロータ44)に伝達する変換部69と、を含む。また、モーター軸63は、試料室1に連通する開口部16に配置され、モーター軸63と開口部16の内面との間には、磁性流体シール65が設けられている。これにより、試料位置決め装置100では、モーター軸63と開口部16の内面との間を、Oリングを用いることなく磁性流体シール65で封止することができるため、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
試料位置決め装置100では、回転駆動機構70は、ベース10を回転可能に支持するベアリング83a,83b、フランジ80と、ベース10を介して、試料ホルダー20を回転させる回転駆動機構70と、フランジ80とベース10との間に設けられている磁性流体シール84と、を含む。これにより、試料位置決め装置100では、フランジ80とベース10との間を、Oリングを用いることなく磁性流体シール84で封止することができるため、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
試料位置決め装置100によれば、シャフト部24に装着され、ベース10の孔12の内面に接するOリング36を含んで構成されているため、ベース10と試料ホルダー20との間を気密に封止することができる。また、分離先端部22が移動および回転しても、Oリング36は、摺動しないため、分離先端部22を移動させても、Oリング36を摺動させないことができる。したがって、Oリングに起因するアフタードリフトをなくすことができる。
試料位置決め装置100では、試料ホルダー20は、シャフト部24に接続されたグリップ部26を有し、グリップ部26は、孔12の径よりも大きい幅Wを有する。これにより、グリップ部26を、試料室1の圧力と大気圧との圧力差によって生じる力によって、ベース10に固定することができる。したがって、大気圧の変動による試料ホルダー20の移動を抑制することができ、試料Sのドリフトを抑制することができる。
試料ホルダー20によれば、試料Sを保持可能な試料保持部23を有する分離先端部22と、弾性部材34を介して分離先端部22を支持しているシャフト部24と、を含んで構成されているため、分離先端部22を、シャフト部24と独立して位置決めすることができる。したがって、例えば、試料ホルダー全体を位置決めする場合と比べて、位置決めの対象となる部材を、軽量化することができる。そのため、外乱振動の影響を低減することができる。
試料位置決め装置100では、試料ホルダー20がシャフト部24を有するため、後述する変形例で説明するように、シャフト部24内にY軸回転駆動機構を構成する部材を設けることができる。また、シャフト部24内に電気配線を通して試料室1内の試料Sを加熱したり、シャフト部24内に光ファイバーを通して、試料室1内の試料Sに光を照射したりすることができる。
1.2. 試料位置決め装置の変形例
次に、試料位置決め装置100の変形例について説明する。図7は、第1実施形態の変形例に係る試料位置決め装置100の試料ホルダー20aを模式的に示す図である。図8は、第1実施形態の変形例に係る試料位置決め装置100の試料ホルダー20aを模式的に示す断面図である。なお、図8は、図7のVIII−VIII線断面図である。以下、
本変形例に係る試料ホルダー20aにおいて、上述した試料ホルダー20の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
試料ホルダー20aは、試料室1において、試料SをY軸に平行な軸Yd周りに回転(傾斜)させるY軸回転駆動機構210を含んで構成されている。なお、Yd軸は、Y軸に平行な軸であって、試料保持部23の中心を通る軸である。
Y軸回転駆動機構210は、モーター軸212と、Oリング214と、カップリング216と、送りねじ217と、シャフト218と、ベルクランク219と、傾斜台220と、を含んで構成されている。
モーター軸212は、シャフト部24内に設けられている。モーター軸212は、カップリング216を介して、送りねじ217に接続されている。
モーター軸212は、図示しないモーターによって回転が付与される。モーター軸212には、シャフト部24の内面とモーター軸212との間を封止するためのOリング214が装着されている。
カップリング216は、伸縮可能となっている。カップリング216は、送りねじ217の直線的な移動を吸収することができる。
送りねじ217は、モーター軸212によって回転し、軸方向(試料室1内ではX軸方向)に移動する。送りねじ217の先端は、シャフト218に接している。
シャフト218は、送りねじ217とベルクランク219との間に設けられている。シャフト218は、送りねじ217が軸方向に移動することにより、当該軸方向に移動する。シャフト218の端部は、ベルクランク219の一方のアーム219aに接している。
ベルクランク219は、分離先端部22に設けられている。ベルクランク219は、互いに異なる方向に延出するアーム219a,219bを有している。ベルクランク219は、ピン219cで回転可能に固定されている。シャフト218が軸方向に移動することで、ベルクランク219はピン219cを中心として回転する。この回転によって、アーム219bに固定されたピン221に接触して保持された傾斜台220が回転する。
傾斜台220には、試料保持部23が設けられている。傾斜台220は、Yd軸に中心を一致させる図示しない一対のピンで分離先端部22に回転可能に固定されている。傾斜台220は、試料保持部23を通るYd軸まわりに回転する。傾斜台220が回転することにより、試料保持部23に支持された試料SはYd軸まわりに回転(傾斜)する。
試料ホルダー20aによれば、Y軸回転駆動機構210を含んで構成されているため、試料Sを、Yd軸まわりに回転(傾斜)させることができる。
2. 第2実施形態
次に、第2実施形態に係る荷電粒子線装置について、図面を参照しながら説明する。図9は、第2実施形態に係る荷電粒子線装置の構成を説明するための図である。第2実施形態に係る荷電粒子線装置1000は、本発明に係る試料位置決め装置を含んで構成されている。ここでは、荷電粒子線装置1000が、試料位置決め装置100を含んで構成されている場合について説明する。なお、図9では、試料位置決め装置100を簡略化して図示している。
荷電粒子線装置1000は、図9に示すように、電子線源1001と、照射レンズ1002と、試料位置決め装置100と、対物レンズ1004と、中間レンズ1005と、投影レンズ1006と、撮像装置1008と、鏡筒2と、を含んで構成されている。ここでは、荷電粒子線装置1000が、透過電子顕微鏡(TEM)である場合について説明するが、荷電粒子線装置1000は、走査透過電子顕微鏡(Scanning Transmission Electron Microscope;STEM)であってもよい。
電子線源1001、照射レンズ1002、対物レンズ1004、投影レンズ1006は、鏡筒2の内部に収容されている。鏡筒2の内部は、排気装置(図示省略)によって減圧排気されている。
電子線源1001は、電子線EBを発生させる。電子線源1001は、陰極から放出された電子を陽極で加速し電子線EBを放出する。電子線源1001として、公知の電子銃を用いることができる。
照射レンズ1002は、電子線源1001の後段に配置されている。照射レンズ1002は、電子線源1001で発生した電子線EBを試料Sに照射するためのレンズである。照射レンズ1002は、例えば、複数の集束レンズ(図示せず)を含んで構成されている。
試料室1には、試料ホルダー20によって試料Sが保持されている。試料室1における試料Sの位置決めは、試料位置決め装置100によって行われる。
対物レンズ1004は、照射レンズ1002の後段に配置されている。対物レンズ1004は、試料Sを透過した電子線EBで結像するための初段のレンズである。
中間レンズ1005は、対物レンズ1004の後段に配置されている。投影レンズ1006は、中間レンズ1005の後段に配置されている。中間レンズ1005および投影レンズ1006は、対物レンズ1004によって結像された像をさらに拡大し、撮像装置1008上に結像させる。
撮像装置1008は、電子線EBを検出するための検出器を有している。検出器は、例えば、2次元的に配置されたCCDを有するCCDカメラである。撮像装置1008は、電子顕微鏡像を検出し、この電子顕微鏡像の情報を出力する。
荷電粒子線装置1000は、図示の例では、除振機1010を介して架台1012上に設置されている。架台1012は、床FL上に設置されている。
荷電粒子線装置1000は、試料位置決め装置100を含んで構成されているため、床FLの振動等によって発生する外乱振動の影響を低減することができる。
なお、ここでは、試料位置決め装置100を、透過電子顕微鏡に適用した場合について説明したが、試料位置決め装置100は、透過電子顕微鏡に限らず、その他の荷電粒子線装置に適用することができる。荷電粒子線装置としては、例えば、電子顕微鏡、集束イオンビーム装置、電子ビーム露光装置等が挙げられる。
本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成すること
ができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
1…試料室、2…鏡筒、10…ベース、12…孔、14…端面、15,16…開口部、20,20a…試料ホルダー、22…分離先端部、23…試料保持部、24…シャフト部、26…グリップ部、32…ピン、34…弾性部材、35…溝、35a…内面、36…Oリング、37…溝、40…先端支持部、42…スライダ、43…位置決めピン、44…ロータ、45…リニアガイド、45a…ガイド溝、45b…ボール、46…自在継手部、47…リング、48a,48b…ベアリング、49…ねじ、50…X軸駆動機構、52…モーター、53…モーター軸、54…カップリング、55…磁性流体シール、56…カップリング、57…ボールナット、58…ボールねじ、59…変換部、60…Y軸駆動機構、62…モーター、63…モーター軸、64…カップリング、65…磁性流体シール、66…カップリング、67…ボールナット、68…ボールねじ、69…変換部、70…回転駆動機構、72…ウォームギア、74…ウォームホイール、80…フランジ、82…ステータ、83a、83b…ベアリング、84…磁性流体シール、85…プレート、88…ばね、100…試料位置決め装置、210…Y軸回転駆動機構、212…モーター軸、214…Oリング、216…カップリング、217…送りねじ、218…シャフト、219…ベルクランク、219a,219b…アーム、219c…ピン、220…傾斜台、221…ピン、1000…荷電粒子線装置、1001…電子線源、1002…照射レンズ、1004…対物レンズ、1005…中間レンズ、1006…投影レンズ、1008…撮像装置、1010…除振機、1012…架台

Claims (9)

  1. 荷電粒子線装置用の試料位置決め装置であって、
    荷電粒子線装置の試料室に連通可能な孔を有しているベースと、
    試料を保持可能な試料保持部を有する第1部分、および弾性部材を介して前記第1部分を支持している第2部分を有し、前記孔に移動可能に装着される試料ホルダーと、
    前記試料室において、前記第1部分を支持する第1部分支持部と、
    を含む、試料位置決め装置。
  2. 請求項1において、
    前記第1部分支持部を介して、前記第1部分を移動させる第1部分駆動機構を含む、試料位置決め装置。
  3. 請求項2において、
    前記第1部分駆動機構は、
    軸部を回転駆動する駆動部と、
    前記軸部の回転運動を直線運動に変換して前記第1部分支持部に伝達する変換部と、
    を有している、試料位置決め装置。
  4. 請求項3において、
    前記軸部は、前記試料室に連通可能な開口部に配置され、
    前記軸部と前記開口部の内面との間には、磁性流体シールが設けられている、試料位置決め装置。
  5. 請求項1ないし4のいずれか1項において、
    前記ベースを回転可能に支持するベース支持部と、
    前記ベースを介して、前記試料ホルダーを回転させるベース駆動機構と、
    前記ベース支持部と前記ベースとの間に設けられている磁性流体シールと、
    を含む、試料位置決め装置。
  6. 請求項1ないし5のいずれか1項において、
    前記第2部分に装着され、前記第2部分と前記孔の内面との間を封止するためのOリングを含む、試料位置決め装置。
  7. 請求項1ないし6のいずれか1項において、
    前記試料ホルダーは、前記第2部分に接続された第3部分を有し、
    前記第3部分は、前記孔の径よりも大きい幅を有する、試料位置決め装置。
  8. 請求項1ないし7のいずれか1項に記載の試料位置決め装置を含む、荷電粒子線装置。
  9. 荷電粒子線装置用の試料ホルダーであって、
    試料を保持可能な試料保持部を有する第1部分と、
    弾性部材を介して前記第1部分を支持している第2部分と、
    を含む、試料ホルダー。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108666194A (zh) * 2017-03-27 2018-10-16 日本株式会社日立高新技术科学 试样保持器具、部件安装用器具以及带电粒子束装置
JP2023182490A (ja) * 2022-06-14 2023-12-26 株式会社Anmic 大気遮断装置及び大気非暴露搬送方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9778186B2 (en) * 2014-04-15 2017-10-03 Kla-Tencor Corporation System for electron beam detection
JP6454129B2 (ja) * 2014-10-29 2019-01-16 日本電子株式会社 アクチュエーター、試料位置決め装置、および荷電粒子線装置
US10520527B2 (en) * 2017-12-15 2019-12-31 The Regents Of The University Of California Miniature device for ultra high sensitivity and stability probing in vacuum
JP6876652B2 (ja) * 2018-05-14 2021-05-26 日本電子株式会社 観察方法、試料支持体、試料保持具セット、および透過電子顕微鏡
WO2020014188A1 (en) * 2018-07-09 2020-01-16 The Regents Of The University Of Michigan Microscope surveillance system
JP2021085410A (ja) * 2019-11-25 2021-06-03 日本電子株式会社 アクチュエーター、試料位置決め装置、および荷電粒子線装置
CN112289668A (zh) * 2020-09-28 2021-01-29 北京中科科仪股份有限公司 一种电镜探测器的驱动机构及电镜探测器装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS504656U (ja) * 1973-05-16 1975-01-18
JPS5329392U (ja) * 1976-08-20 1978-03-13
JPS55137454U (ja) * 1979-03-23 1980-09-30
JPH01115041A (ja) * 1987-10-28 1989-05-08 Hitachi Ltd 荷電粒子線装置の運動導入機構
JPH01165557U (ja) * 1988-05-11 1989-11-20
JPH03187143A (ja) * 1989-12-15 1991-08-15 Shimadzu Corp 試料ステージ
JPH06274949A (ja) * 1993-03-19 1994-09-30 Canon Inc 情報処理装置
JP2001343021A (ja) * 2000-03-16 2001-12-14 Applied Materials Inc 真空軸受構造体及び可動部材を支持する方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3230365A (en) * 1962-02-21 1966-01-18 Jeol Ltd Tiltable specimen holding device for electron beam apparatus
US4587431A (en) * 1983-04-22 1986-05-06 Jeol Ltd. Specimen manipulating mechanism for charged-particle beam instrument
JPS6355844A (ja) * 1986-08-27 1988-03-10 Hitachi Ltd テ−ブル装置
US4782236A (en) * 1987-02-17 1988-11-01 Anwar Chitayat Means for locking a workpiece to a beam-generating apparatus
JP4875905B2 (ja) * 2006-02-24 2012-02-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ 試料保持装置および荷電粒子線装置
JP5103672B2 (ja) * 2007-03-30 2012-12-19 日本電子株式会社 荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置
JP5502309B2 (ja) 2008-11-04 2014-05-28 日本電子株式会社 透過型電子顕微鏡
JP5476087B2 (ja) * 2008-12-03 2014-04-23 日本電子株式会社 荷電粒子線装置の物体位置決め装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS504656U (ja) * 1973-05-16 1975-01-18
JPS5329392U (ja) * 1976-08-20 1978-03-13
JPS55137454U (ja) * 1979-03-23 1980-09-30
JPH01115041A (ja) * 1987-10-28 1989-05-08 Hitachi Ltd 荷電粒子線装置の運動導入機構
JPH01165557U (ja) * 1988-05-11 1989-11-20
JPH03187143A (ja) * 1989-12-15 1991-08-15 Shimadzu Corp 試料ステージ
JPH06274949A (ja) * 1993-03-19 1994-09-30 Canon Inc 情報処理装置
JP2001343021A (ja) * 2000-03-16 2001-12-14 Applied Materials Inc 真空軸受構造体及び可動部材を支持する方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108666194A (zh) * 2017-03-27 2018-10-16 日本株式会社日立高新技术科学 试样保持器具、部件安装用器具以及带电粒子束装置
JP2018163825A (ja) * 2017-03-27 2018-10-18 株式会社日立ハイテクサイエンス 試料保持具、部材装着用器具、および荷電粒子ビーム装置
CN108666194B (zh) * 2017-03-27 2022-03-25 日本株式会社日立高新技术科学 试样保持器具、部件安装用器具以及带电粒子束装置
TWI770131B (zh) * 2017-03-27 2022-07-11 日商日立高新技術科學股份有限公司 試樣保持器具、部件安裝用器具以及帶電粒子束裝置
JP2023182490A (ja) * 2022-06-14 2023-12-26 株式会社Anmic 大気遮断装置及び大気非暴露搬送方法

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