JP5103672B2 - 荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置 - Google Patents
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Description
前記Z移動機構部は、少なくとも3点以上の球により調整を行って前記試料ステージの軸芯を出すのが好ましい。
前記Z移動機構部は、XY移動機構用支持板内に設置されるのが好ましい。
前記Z移動機構部は、前記Z移動機構部は、回転機構の回転をばねの伸縮で行うのが好ましい。
前記固体潤滑被膜は、フッ素樹脂により形成することが好ましい。
14 XY移動機構部
15 Z移動機構部
22 昇降ディスク
23 回転ディスク
23b テーパ面
24 ウォームギア
25 球
26 球
Claims (12)
- 荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置において、
トップエントリ方式の試料ステージと、
前記試料ステージをXY平面に移動するXY移動機構部と、
前記試料ステージをXY平面に対して垂直なZ方向に回転機構を用いて移動するZ移動機構部と
を備え、
前記Z移動機構部は、回転機構を用いて回転操作される回転ディスクのテーパ面に転動体を乗り上げさせることにより前記試料ステージを前記Z方向に移動する
ことを特徴とする荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記転動体は、球またはローラまたはベアリングである
ことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記Z移動機構部は、球またはローラまたはベアリングの3点接触により試料ステージの試料面の水平を出す
ことを特徴とする請求項2記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記Z移動機構部は、球またはローラまたはベアリングの3点接触により試料ステージの試料面を熱絶縁する
ことを特徴とする請求項2記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記Z移動機構部は、少なくとも3点以上の球により調整を行って前記試料ステージの軸芯を出す
ことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記Z移動機構部は、前記試料ステージのZ方向の固定にばねを使用することにより、Z方向の移動を許しながらも固定する
ことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記Z移動機構部は、XY移動機構用支持板内に設置される
ことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記Z移動機構部は、回転機構の回転をばねの伸縮で行う
こと特徴とする請求項1記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記Z移動機構部は、前記回転ディスクの外周部における3箇所のそれぞれに配置された各1個以上の回転体によって前記回転ディスクの軸芯を出す
ことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記Z移動機構部は、前記回転ディスクの外周部の少なくとも1箇所に、この回転ディスクの回転を制止する板バネを有している
ことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記回転ディスクは、外周部にウォームホイールが形成されるとともに、このウォームホイールに噛合するウォームギヤを介して前記回転機構によって回転操作され、
前記ウォームホイール及び前記ウォームギヤの互いの摺動部には、固体潤滑被膜が形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。 - 前記固体潤滑被膜は、フッ素樹脂により形成されている
ことを特徴とする請求項11記載の荷電粒子線装置の試料ステージ移動装置。
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US4587431A (en) * | 1983-04-22 | 1986-05-06 | Jeol Ltd. | Specimen manipulating mechanism for charged-particle beam instrument |
DE3546095A1 (de) * | 1985-12-24 | 1987-06-25 | Zeiss Carl Fa | Goniometertisch |
JPH02161405A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-06-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学装置 |
JPH0359494A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-14 | Nec Corp | 微動zステージ装置 |
JP2756620B2 (ja) * | 1992-01-10 | 1998-05-25 | キヤノン株式会社 | 半導体露光方法およびその装置 |
US5216235A (en) * | 1992-04-24 | 1993-06-01 | Amray, Inc. | Opto-mechanical automatic focusing system and method |
US5303035A (en) * | 1992-05-04 | 1994-04-12 | New Focus, Inc. | Precision micropositioner |
JPH06162984A (ja) * | 1992-11-17 | 1994-06-10 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡用試料装置 |
US6328096B1 (en) * | 1997-12-31 | 2001-12-11 | Temptronic Corporation | Workpiece chuck |
JP2000208083A (ja) | 1999-01-20 | 2000-07-28 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡の試料冷却装置 |
US6844150B2 (en) * | 2000-08-24 | 2005-01-18 | The Regents Of The University Of California | Ultrahigh resolution multicolor colocalization of single fluorescent probes |
JP2002134053A (ja) | 2000-10-25 | 2002-05-10 | Jeol Ltd | 極低温試料装着部材傾斜装置、試料ホルダ、および試料ホルダ装着部材 |
JP3986778B2 (ja) * | 2001-08-10 | 2007-10-03 | 日本電子株式会社 | ホルダ支持装置 |
US6891170B1 (en) * | 2002-06-17 | 2005-05-10 | Zyvex Corporation | Modular manipulation system for manipulating a sample under study with a microscope |
JP2006509999A (ja) * | 2002-08-02 | 2006-03-23 | イー エイ フィシオネ インストルメンツ インコーポレーテッド | 顕微鏡の試料調製方法及び装置 |
JP2004281141A (ja) * | 2003-03-13 | 2004-10-07 | Sony Corp | 電子ビーム照射装置および電子ビーム照射方法 |
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DE10344492B4 (de) * | 2003-09-24 | 2006-09-07 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Teilchenstrahlgerät |
US20080073559A1 (en) * | 2003-12-12 | 2008-03-27 | Horsky Thomas N | Controlling the flow of vapors sublimated from solids |
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DE102004049371B4 (de) * | 2004-10-09 | 2015-05-21 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Nanomanipulator zum Analysieren oder Bearbeiten von Objekten |
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