JP2014115618A - 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - Google Patents

電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 シロキサン変性樹脂を含有する電子写真感光体において、初期摩擦力(初期摩擦係数)の低減と、電子写真感光体の繰り返し使用時のゴースト画像を抑制を両立した電子写真感光体、ならびに電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。
【解決手段】 電子写真感光体の表面層が、(α)特定のシロキサン変性樹脂、(β)特定の化合物、および電荷輸送物質を含有する。
【選択図】 図1

Description

本発明は電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
電子写真装置に搭載される電子写真感光体は、有機光導電性物質(電荷発生物質)を含有する電子写真感光体がよく用いられている。電子写真装置が繰り返し画像形成するのに伴い、電子写真感光体の表面には、帯電、露光、現像、転写およびクリーニングなどの電気的や機械的外力が直接加えられるため、それらに対する耐久性が要求される。さらに、電子写真感光体の表面には、接触部材(クリーニングブレードなど)との摩擦力の低減(潤滑性、滑り性)も求められている。
潤滑性という課題に対して、特許文献1および特許文献2には、特定のシロキサン変性(シロキサン構造を有する)ポリカーボネート樹脂を電子写真感光体の表面層に含有させる方法が提案されている。また、特許文献3には、特定のシロキサン変性ポリエステル樹脂を表面層に含有させる方法が提案されている。
特開2008−195905号公報 特開2006−328416号公報 特開2009−84556号公報
しかしながら、本発明者らの検討の結果、電子写真感光体の表面層に上記のシロキサン材料と電荷輸送物質を含有させると、ゴーストが発生しやすくなることが分かった。具体的には、出力画像中、前回転時に光が照射された部分のみ濃度が濃くなる、いわゆるポジゴーストという現象が発生しやすい。
特許文献1〜3に開示された特定のシロキサン変性ポリカーボネート樹脂やシロキサン変性ポリエステル樹脂を用いた場合、電子写真感光体の繰り返し使用時のゴースト画像に関して、改善の余地があることが分かった。
本発明の目的は、特定のシロキサン変性樹脂を含有する電子写真感光体において、初期摩擦力(初期摩擦係数)の低減と、電子写真感光体の繰り返し使用時のゴースト画像の抑制を両立した電子写真感光体を提供することにある。また、本発明の別の目的は、そのような電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ、及び電子写真装置を提供することにある。
上記目的は、以下の本発明によって達成される。
本発明は、支持体、該支持体上に設けられた電荷発生層および該電荷発生層上に設けられた電荷輸送層を有する電子写真感光体であって、
該電子写真感光体の表面層が、下記(α)、(β)および電荷輸送物質を含有することを特徴とする電子写真感光体に関する。
(α)下記式(A)〜(D)のいずれかで示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂
(β)ヘキサノール、ヘプタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、ニトロベンゼン、ピロリドン、N−メチルピロリドン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸ベンジル、3−エトキシプロピオン酸エチル、アセトフェノン、サリチル酸メチル、フタル酸ジメチル、およびスルホランからなる群より選択される少なくとも1種の化合物
Figure 2014115618
(式(A)中、Yは単結合、メチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、フェニルエチリデン基、シクロヘキシリデン基または酸素原子を示す。Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。Wは、下記式(W1)または下記式(W2)で示される1価の基を示す。)
Figure 2014115618
(式(W1)および式(W2)中、R〜Rは、それぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を示す。aは括弧内の構造の繰り返し数を示し、bおよびcは、それぞれ独立に括弧内の構造の繰り返し数を示す。式(A)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるaの平均値は、10以上150以下である。式(A)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるb+cの平均値は、10以上150以下である。)
Figure 2014115618
(式(B)中、Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基を示す。Vは、下記式(V1)または下記式(V2)で示される1価の基を示す。)
Figure 2014115618
(式(V1)および式(V2)中、R〜Rは、それぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を示す。dは括弧内の構造の繰り返し数を示し、2以上10以下の整数である。eは括弧内の構造の繰り返し数を示し、fおよびgは、それぞれ独立に括弧内の構造の繰り返し数を示す。式(B)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるeの平均値は、10以上150以下である。式(B)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるf+gの平均値は、10以上150以下である。)
Figure 2014115618
(式(C)中、Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。h、iおよびjは、それぞれ独立に括弧内の構造の繰り返し数を示す。式(C)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるhおよびiの平均値は、1以上10以下であり、式(C)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるjの平均値は、20以上200以下である。)
Figure 2014115618
(式(D)中、Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。kは括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(D)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるkの平均値は、20以上200以下である。)
また、本発明は、前記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジに関する。
また、本発明は、前記電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置に関する。
本発明によれば、初期摩擦係数の低減と、電子写真感光体の繰り返し使用時のゴースト画像の抑制との両立に優れた電子写真感光体、ならびに該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。
本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。 ゴースト電位、ゴースト画像評価の際に用いるゴースト評価用印字を説明するための図である。 1ドット桂馬パターン画像を説明するための図である。 電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。
本発明は、電子写真感光体の表面層が、下記(α)、(β)および電荷輸送物質を含有することを特徴とする。
(α)式(A)〜(D)のいずれかで示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂
(β)ヘキサノール、ヘプタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、ニトロベンゼン、ピロリドン、N−メチルピロリドン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸ベンジル、3−エトキシプロピオン酸エチル、アセトフェノン、サリチル酸メチル、フタル酸ジメチルおよびスルホランからなる群より選択される少なくとも1種の化合物。
本発明者らは、電子写真感光体の表面層が上記(β)(以下、構成要件βとも称する)を含有することにより、初期摩擦係数の低減と、電子写真感光体の繰り返し使用時のゴースト画像の抑制との両立に優れた効果を奏する理由を以下のように推測している。
ゴーストが発生する原因の1つとして、表面層が含有する電荷輸送物質が凝集したことによる電荷の移動阻害の発生が考えられる。そして、電荷輸送物質の凝集が生じる要因として、表面層中に含有するシロキサン変性樹脂と電荷輸送物質との相溶性が低いと考えられる。
一方、構成要素βと電荷輸送物質との相溶性は、構成要素(β)と上記(α)(以下、構成要素αとも称する)との相溶性よりも高いと考えられる。
従って、構成要素αと電荷輸送物質との間に構成要素βが介在することで、構成要素αと電荷輸送物質との相溶性の低下が抑制され、電荷輸送物質の凝集を抑制していると考えている。これにより、電荷輸送物質の凝集が抑制され、電子写真感光体の繰り返し使用時のゴースト画像の抑制効果が得られるものと推測している。
〈構成要素α〉
構成要素αは、下記式(A)〜(D)のいずれかで示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂である。
Figure 2014115618
式(A)中、Yは単結合、メチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、フェニルエチリデン基、シクロヘキシリデン基または酸素原子を示す。Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。Wは、下記式(W1)または下記式(W2)で示される1価の基を示す。
Figure 2014115618
式(W1)および式(W2)中、R〜Rは、それぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を示す。aは括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(A)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるaの平均値は、10以上150以下である。bおよびcは、それぞれ独立に括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(A)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるb+cの平均値は、10以上150以下である。
Figure 2014115618
式(B)中、Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基を示す。Vは、下記式(V1)または下記式(V2)で示される1価の基を示す。
Figure 2014115618
式(V1)および式(V2)中、R〜Rは、それぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を示す。dは括弧内の構造の繰り返し数を示し、2以上10以下の整数である。eは括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(B)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるeの平均値は、10以上150以下である。fおよびgは、それぞれ独立に括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(B)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるf+gの平均値は、10以上150以下である。
Figure 2014115618
式(C)中、Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。h、iおよびjは、それぞれ独立に括弧内の構造の繰り返し数を示す。式(C)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるhおよびiの平均値は、それぞれ独立に1以上10以下であり、式(C)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるjの平均値は、20以上200以下である。
Figure 2014115618
式(D)中、Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。kは括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(D)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるkの平均値は、20以上200以下である。
式(A)〜(D)中のX〜Xがm−フェニレン基またはp−フェニレン基である場合、m−フェニレン基であるものとp−フェニレン基であるものとを併用することが好ましい。併用する場合、X〜Xがm−フェニレン基であるもの/X〜Xがp−フェニレン基であるものが3/7〜7/3(モル比)であることが好ましく、1/1(モル比)であることがより好ましい。
以下に、上記式(A)の具体例を示す。
Figure 2014115618
表1中、「m/p」はm−フェニレン基/p−フェニレン基が1/1(モル比)であることを意味し、「p−O−p」は2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。
以下に、上記式(B)の具体例を示す。
Figure 2014115618
表2中、「m/p」はm−フェニレン基/p−フェニレン基が1/1(モル比)であることを意味し、「p−O−p」は2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。
以下に、上記式(C)で示される構造単位の例を示す。
Figure 2014115618
表3中、「m/p」はm−フェニレン基/p−フェニレン基が1/1(モル比)であることを意味し、「p−O−p」は2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。
以下に、上記式(D)の具体例を示す。
Figure 2014115618
表4中、「m/p」はm−フェニレン基/p−フェニレン基が1/1(モル比)であることを意味し、「p−O−p」は2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。
上記式(A)〜(D)のいずれかで示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂は、さらに、下記式(E)で示される構造単位を有してもよい。
Figure 2014115618
式(E)中、Yは単結合、メチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、フェニルエチリデン基、シクロヘキシリデン基または酸素原子を示す。Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。R11〜R14は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基を示す。
以下に、上記式(E)で示される構造単位の例を示す。
Figure 2014115618
表5中、「m/p」はm−フェニレン基/p−フェニレン基が1/1(モル比)であることを意味し、「p−O−p」は2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。 シロキサン変性樹脂に用いられる上記式(E)で示される構造単位は、1種でも、2種以上であっても良い。
本発明において、シロキサン部分を構成する両端のケイ素原子、およびそれらに結合する基と、該両端のケイ素原子に挟まれた酸素原子、ケイ素原子、およびそれらに結合する基を含む部位をシロキサン部位と称する。例えば、下記式(W1−S)および下記式(C−S)で示される構造単位の場合、シロキサン部位は、それぞれ破線で囲まれた部位のことである。
Figure 2014115618
上記シロキサン変性樹脂の全質量に対するシロキサン部位の含有量は一般的な分析手法で解析可能である。以下に、分析手法の例を示す。
電子写真感光体の表面層を溶剤で溶解させた後、サイズ排除クロマトグラフィーや高速液体クロマトグラフィーのような各組成成分を分離回収可能な分取装置で、表面層に含有される種々の材料を分取する。分取されたシロキサン変性樹脂を、H−NMR測定による水素原子(樹脂を構成している水素原子)のピーク位置、およびピーク面積比による換算法によって構成材料構造、および含有量を確認することができる。それらの結果より、シロキサン部分の繰り返し数やモル比を算出し、含有量(質量比)に換算する。また、シロキサン変性樹脂をアルカリ存在下などで加水分解させ、カルボン酸部分とビスフェノール部分に分解する。得られたビスフェノール部分に対し、核磁気共鳴スペクトル分析や質量分析により、シロキサン部分の繰り返し数やモル比を算出し、含有量(質量比)に換算することができる。
本発明においても上記の手法を用いて、シロキサン変性樹脂中に含有されるシロキサン部位の質量比を測定することが可能である。また、シロキサン変性樹脂中に含有されるシロキサン部位の質量比は、重合時のシロキサン部位を含むモノマー単位の原材料の使用量と関係するため、目的のシロキサン部位の質量比とするために、原材料の使用量を調整した。
シロキサン変性樹脂中のシロキサン部位の含有量は、シロキサン変性樹脂の全質量に対して1質量%以上50質量%以下であることが好ましい。
シロキサン変性樹脂は、上記式(A)〜(D)のいずれかで示される構造単位と上記式(E)で示される構造単位との共重合体であることが好ましい。その共重合形態は、ブロック共重合、ランダム共重合、交互共重合などのいずれの形態であってもよい。また、シロキサン変性樹脂は、末端にシロキサン構造を有さない方が好ましい。
シロキサン変性樹脂の重量平均分子量は、10,000以上150,000以下であることが好ましい。さらには、20,000以上100,000以下であることがより好ましい。
本発明において、樹脂の重量平均分子量とは、常法に従い、特開2007−79555号公報に記載の方法により測定されたポリスチレン換算の重量平均分子量である。
以下に、上記シロキサン変性樹脂のうち、ポリカーボネート樹脂の合成例を示す。
上記ポリカーボネート樹脂は、特開平5−158249号公報、特開平10−182832号公報、特開2006−328416号公報および特開2008−195905号公報に記載の合成方法を用いて合成することが可能である。本発明においても同様の合成方法を用い、上記式(A)〜(D)のいずれかで示される構造単位、および上記式(E)で示される構造単位に応じた原材料を用いて表6〜表9の合成例に示す構成要素α(ポリカーボネート樹脂)を合成した。合成したポリカーボネート樹脂の重量平均分子量およびポリカーボネート樹脂中のシロキサン部位の含有量(質量%)を表6〜表9に示す。
Figure 2014115618
表6中、「a」、「b」、「c」は、式(A)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるa、bまたはcの平均値を示す。
Figure 2014115618
表7中、「e」、「f」、「g」は、式(B)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるe、fまたはgの平均値を示す。
Figure 2014115618
表8中、「h」、「i」、「j」は、式(C)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるh、iまたはjの平均値を示す。
Figure 2014115618
表9中、「k」は、式(D)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるkの平均値を示す。
以下に、上記シロキサン変性樹脂のうち、ポリエステル樹脂の合成例を示す。
上記ポリエステル樹脂は、特開平05−043670号公報、特開平08−234468号公報および特開2009−084556号公報に記載の合成方法を用いて合成することが可能である。本発明においても同様の合成方法を用い、上記式(A)〜(D)で示される繰り返し単位、および上記式(E)で示される構造単位に応じた原材料を用いて表10〜表13の合成例に示す構成要素α(ポリエステル樹脂)を合成した。合成したポリエステル樹脂の重量平均分子量およびポリエステル樹脂中のシロキサン部位の含有量(質量%)を表10〜表13に示す。
Figure 2014115618
表10中、「a」、「b」、「c」は、式(A)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるa、bまたはcの平均値を示す。
Figure 2014115618
表11中、「e」、「f」、「g」は、式(B)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるe、fまたはgの平均値を示す。
Figure 2014115618
表12中、「h」、「i」、「j」は、式(C)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるh、iまたはjの平均値を示す。
Figure 2014115618
表13中、「k」は、式(D)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるkの平均値を示す。
電子写真感光体の表面層(電荷輸送層、保護層)に含有される構成要素αの含有量は、表面層の全質量に対して、0.1質量%以上60質量%以下であると、初期摩擦係数の低減と、繰り返し使用時のゴースト画像の抑制の観点から好ましい。より好ましくは、1質量%以上45質量%以下である。
〈構成要素βについて〉
上述の表面層には、構成要素βとして、ヘキサノール、ヘプタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、ニトロベンゼン、ピロリドン、N−メチルピロリドン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸ベンジル、3−エトキシプロピオン酸エチル、アセトフェノン、サリチル酸メチル、フタル酸ジメチルおよびスルホランからなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含有する。
これらの化合物を含有することにより、繰り返し使用によるゴースト画像の抑制の効果が得られる。好ましい上記構成要素βの含有量は、表面層の全質量に対して、0.001質量%以上3.0質量%以下であり、より好ましくは、表面層の全質量に対して、0.001質量%以上2.0質量%以下である。この範囲においては、特に、初期摩擦係数の低減と、繰り返し使用時のゴースト画像の抑制との両立に優れる。
表面層は、構成要素βを含有する表面層用塗布液の塗膜を支持体上に形成し、塗膜を加熱乾燥させることにより形成される。
構成要素βは、表面層を形成する際の加熱乾燥工程により揮発しやすいため、表面層用塗布液中の構成要素βの含有量は、表面層中の構成要素βの含有量よりも多くすることが好ましい。したがって、表面層用塗布液中の構成要素βの含有量は、表面層用塗布液の全質量に対して、5質量%以上80質量%以下が好ましい。
表面層中の構成要素βの含有量は、以下に示す測定方法により求めることができる。HP7694 Headspace samper(アジレント・テクノロジー(株)製)と、HP6890 series GS System(アジレント・テクノロジー(株)製)を用いて測定した。前記Headspace samperの設定は、Oven 150℃、Loop 170℃、Transfer Line 190℃とした。製造した表面層を有する電子写真感光体を5mm×40mm片(試料片)に切り出し、バイアル瓶に入れ、前記Headspace samperにセットし、発生したガスをガスクロマトグラフィー(HP6890 series GS System)で測定した。該表面層の質量は、測定後、バイアル瓶から取り出した試料片の質量と、その後、表面層を剥がした後の該試料片の質量の差分から求めた。表面層を剥がした試料片とは、バイアル瓶から取り出した試料片をメチルエチルケトンに5分間浸漬して表面層を剥がし、100℃で5分間で乾燥したものとした。本発明においても、上述の方法を用いて表面層中の構成要素βの含有量を測定した。
次に、電子写真感光体の構成について説明する。
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に設けられた電荷発生層および該電荷発生層上に設けられた電荷輸送層を有する。図4中、(a)および(b)は、本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図4の(a)および(b)中、101は支持体であり、102は電荷発生層であり、103は電荷輸送層であり、104は保護層(第2電荷輸送層)である。
該電荷発生層は積層構造としてもよく、該電荷輸送層を積層構成としてもよい。電荷輸送層が表面層であるときは、構成要素α、構成要素βおよび電荷輸送物質を含有する。また、電荷輸送層上に保護層(表面層)を形成してもよい。この場合、保護層が構成要素α、構成要素βおよび電荷輸送物質を含有する。
〔支持体〕
支持体としては、導電性を有するもの(導電性支持体)が好ましい。例えば、アルミニウム、ステンレス、銅、ニッケル、亜鉛などの金属または合金が挙げられる。アルミニウムやアルミニウム合金性の支持体の場合は、ED管、EI管や、これらを切削、電解複合研磨、湿式または乾式ホーニング処理した支持体を用いることもできる。また、金属支持体、樹脂支持体上にアルミニウム、アルミニウム合金、または酸化インジウム−酸化スズ合金等の導電性材料の薄膜を形成したものも挙げられる。
また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、銀粒子などの導電性粒子を樹脂などに含浸した支持体や、導電性結着樹脂を有するプラスチックを用いることもできる。
導電性支持体の表面は、レーザー光などの散乱による干渉縞の防止などを目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などを施してもよい。
電子写真感光体において、支持体上に、導電性粒子と樹脂を有する導電層を設けてもよい。導電層は、導電性粒子を結着樹脂に分散させた導電層用塗布液の塗膜を用いて形成される層である。
導電性粒子としては、カーボンブラック、アセチレンブラックや、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉や、導電性酸化スズ、ITOなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。
導電層に用いられる結着樹脂としては、具体的には、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂が挙げられる。
導電層用塗布液の溶剤としては、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。導電層の膜厚は、0.2μm以上40μm以下であることが好ましく、1μm以上35μm以下であることがより好ましく、さらには5μm以上30μm以下であることがより好ましい。
支持体または導電層と、電荷発生層との間に下引き層を設けてもよい。
下引き層は、結着樹脂を含有する下引き層用塗布液の塗膜を支持体上、または、導電層上に形成し、塗膜を乾燥または硬化させることによって形成することができる。
下引き層の結着樹脂として具体的には、ポリアクリル酸類、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂が挙げられる。下引き層に用いられる結着樹脂は熱可塑性樹脂が好ましく、具体的には、熱可塑性のポリアミド樹脂が好ましい。ポリアミド樹脂としては、溶液状態で塗布できるような低結晶性または非結晶性の共重合ナイロンが好ましい。
下引き層用塗布液の溶剤としては、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、及び芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。下引き層の膜厚は、0.05μm以上40μm以下であることが好ましく、0.1μm以上30μm以下であることがより好ましい。また、下引き層には、半導電性粒子あるいは電子輸送物質、あるいは電子受容性物質を含有させてもよい。
〔電荷発生層〕
支持体、導電層または下引き層上には、電荷発生層が形成される。
電子写真感光体に用いられる電荷発生物質として具体的には、アゾ顔料、フタロシアニン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料が挙げられる。これら電荷発生物質は1種のみ用いてもよく、2種以上用いてもよい。これらの中でも、特にオキシチタニウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンなどが高感度であるため好ましい。
電荷発生層に用いられる結着樹脂として具体的には、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、尿素樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ブチラール樹脂が特に好ましい。これらの樹脂は、単独、混合または共重合体として1種または2種以上用いることができる。
電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤とともに分散して得られる電荷発生層用塗布液の塗膜を形成し、塗膜を乾燥させることによって形成することができる。また、電荷発生層は、電荷発生物質の蒸着膜としてもよい。
分散方法としては、たとえば、ホモジナイザー、超音波、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミルを用いた方法が挙げられる。
電荷発生物質と結着樹脂との割合は、結着樹脂1質量部に対して、電荷発生物質が0.1質量部以上10質量部以下の範囲が好ましく、1質量部以上3質量部以下がより好ましい。
電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。
電荷発生層の膜厚は、0.01μm以上5μm以下であることが好ましく、0.1μm以上2μm以下であることがより好ましい。
また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。また、電荷発生層において電荷(キャリア)の流れが滞らないようにするために、電荷発生層には、電子輸送物質、電子受容性物質を含有させてもよい。
〔電荷輸送層〕
電子写真感光体において、電荷発生層上には、電荷輸送層が設けられる。
電荷輸送層および表面層に含有される電荷輸送物質としては、例えば、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、エナミン化合物が挙げられる。これら電荷輸送物質は1種のみ用いてもよく、2種以上用いてもよい。以下に、電荷輸送物質の例を示す。
Figure 2014115618
Figure 2014115618
電荷輸送層は、電荷輸送物質および結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液の塗膜を形成し、塗膜を乾燥させることによって形成することができる。
表面層(電荷輸送層、保護層)には、樹脂としては、構成要素αを含有するが、他の樹脂をさらに混合して用いてもよい。他の樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂が挙げられる。ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂は、前記式(E)で示される構造単位を有する樹脂Eであることが好ましい。前記式(E)で示される構造単位としては、例えば、前記(E−1)〜(E−19)が挙げられる。前記式(E)で示される構造単位を有する樹脂Eは、前記式(E)で示される構造単位のうち、1種の重合体でも、2種以上の共重合体であっても良い。これらの中でも、前記(E−3)、(E−4)、(E−5)、(E−15)、(E−17)または(E−18)で示される構造単位が好ましい。また、他の樹脂は、シロキサン部位を有さない方が好ましい。表面層に上記樹脂Eを含有する場合、樹脂Eとシロキサン変性樹脂との質量比率は、1/9〜50/1であることが好ましい。
樹脂Eは、特開2006−328416号公報、特開平05−043670号公報および特開平08−234468号公報に記載の合成方法に記載の合成方法を用いて合成することが可能である。樹脂E(ポリカーボネート樹脂およびポリエステル樹脂)の合成例を表14および表15に示す。
Figure 2014115618
合成例64における「(E−5)/(E−6)/(E−7)=4/5/1」は、共重合比(モル比)を意味する。
Figure 2014115618
電荷輸送層の膜厚は、好ましくは5〜50μm、より好ましくは10〜30μmである。
電荷輸送物質と結着樹脂との質量比は、5:1〜1:5、好ましくは3:1〜1:3である。また、繰り返し使用時のゴースト画像の抑制の観点から、表面層中の電荷輸送物質の含有量は、表面層の全質量に対して、20質量%以上50質量%以下である。
電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。好ましくは、キシレン、トルエン、およびテトラヒドロフランである。
電子写真感光体の各層には、各種添加剤を添加することができる。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、対光安定剤のような劣化防止剤や、有機微粒子、無機微粒子などの微粒子が挙げられる。
劣化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系耐光安定剤、硫黄原子含有酸化防止剤、リン原子含有酸化防止剤が挙げられる。
有機微粒子としては、フッ素原子含有樹脂粒子、ポリスチレン微粒子、ポリエチレン樹脂粒子のような高分子樹脂粒子が挙げられる。無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナのような金属酸化物が挙げられる。
上記各層の塗布液を塗布する際には、浸漬塗布法(浸漬コーティング法)、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ローラーコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法などの塗布方法を用いることができる。なかでも浸漬塗布法方が好ましい。
上記各層の塗布液を乾燥させて塗膜を形成する乾燥温度としては、60℃以上150℃以下で乾燥させることが好ましい。このうち、電荷輸送層用塗布液(表面層用塗布液)の乾燥温度としては、特には110℃以上140℃以下が好ましい。また、乾燥時間としては、10〜60分間が好ましく、20〜60分間がより好ましい。
〔電子写真装置〕
図1に、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す。
図1において、1は円筒状の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度をもって回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体1の表面は、回転過程において、帯電手段(一次帯電手段:帯電ローラーなど)3により、負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段(不図示)から出力される目的の画像情報の時系列電気デジタル画像信号に対応して強度変調された露光光(画像露光光)4を受ける。こうして電子写真感光体1の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。
電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、現像手段5の現像剤に含まれるトナーで反転現像により現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体1の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段(転写ローラーなど)6からの転写バイアスによって、転写材(紙など)Pに順次転写されていく。なお、転写材Pは、転写材供給手段(不図示)から電子写真感光体1の回転と同期して取り出されて電子写真感光体1と転写手段6との間(当接部)に給送される。また、転写手段6には、バイアス電源(不図示)からトナーの保有電荷とは逆極性のバイアス電圧が印加される。
トナー像の転写を受けた転写材Pは、電子写真感光体1の表面から分離されて定着手段8へ搬入されてトナー像の定着処理を受けることにより画像形成物(プリント、コピー)として装置外へ搬送される。
トナー像転写後の電子写真感光体1の表面は、クリーニング手段(クリーニングブレードなど)7によって転写残りの現像剤(転写残トナー)の除去を受けて清浄面化される。次いで、前露光手段(不図示)からの前露光光(不図示)により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図1に示すように、帯電手段3が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。
上記の電子写真感光体1、帯電手段3、現像手段5、転写手段6、およびクリーニング手段7などの構成要素の中から複数のものを選択し、これらを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に支持して構成することが可能である。そして、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図1では、電子写真感光体1と、帯電手段3、現像手段5、およびクリーニング手段7とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段10を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ9としている。
以下に、具体的な実施例、比較例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。下記実施例1〜154、比較例1〜112の結果は表16〜表33に示す。
〔実施例1〕
直径24mm、長さ257mmのアルミニウムシリンダーを支持体(導電性支持体)とした。
次に、SnOコート処理硫酸バリウム(導電性粒子)10部、酸化チタン(抵抗調節用顔料)2部、フェノール樹脂(結着樹脂)6部、シリコーンオイル(レベリング剤)0.001部およびメタノール4部およびメトキシプロパノール16部の混合溶剤を用いて導電層用塗布液を調製した。
この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間140℃で硬化(熱硬化)させることによって、膜厚が15μmの導電層を形成した。
次に、N−メトキシメチル化ナイロン3部および共重合ナイロン3部をメタノール65部およびn−ブタノール30部の混合溶剤に溶解させることによって、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を10分間80℃で乾燥させることによって、膜厚が0.7μmの下引き層を形成した。
次に、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°の7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°および28.3°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)10部を用いた。これをシクロヘキサノン250部にポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBX−1 積水化学工業(株)製)5部を溶解させた液に加えた。これを、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミル装置で23±3℃雰囲気下1時間分散し、酢酸エチル250部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間100℃で乾燥させることによって、膜厚が0.3μmの電荷発生層を形成した。
次に、上記式(CTM−1)で示される化合物9部と、樹脂PC−A(1)1部、および、樹脂PC−E(2)9部、安息香酸メチル10部を、テトラヒドロフラン(THF)65部に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。
この電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を125℃で40分間乾燥させることによって、膜厚が16μmの電荷輸送層を形成した。このようにして、導電層、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層(表面層)を有する電子写真感光体を製造した。
形成された電荷輸送層には、安息香酸メチルが0.12質量%が含有されていることがガスクロマトグラフィーを用いて上述の測定方法により確認された。
次に、評価について説明する。評価は、繰り返し使用時のゴースト画像ならびに初期摩擦係数について行った。
<ゴースト画像評価>
ゴースト画像の評価装置としては、ヒューレットパッカード社製HP Color LaserJet 3700(直径24mmの円筒状の電子写真感光体が装着可能)を用いた。プロセスカートリッジに作製した電子写真感光体を装着し、プロセスカートリッジを評価装置に装着し、温度32.5℃、湿度80%RH環境下で評価を行った。A4サイズの普通紙を用い、連続して印字率2%の横線画像の出力を10,000枚行った後、図2に示すゴースト評価用画像を出力した。ゴースト評価用画像は、図2に示すように、画像の先頭部に「白画像」中に四角の「ベタ画像」を出した後、図3に示す「1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像」を作成したものである。なお、図2中、「ゴースト」部は、「ベタ画像」に起因するゴーストが出現し得る部分である。ゴースト画像の程度は、出力した図2に示す画像から、A:ゴーストがほとんどみられない、B:ゴーストがわずかに見られる、C:ゴーストがはっきり分かる、の3段階で評価した。実施例1において、10,000枚の繰り返し使用後にゴースト画像はほとんど見られなかった。結果を表25に示す。
<ゴースト電位評価>
ゴースト電位の評価には、前記ヒューレットパッカード社製HP Color LaserJet 3700を用いた。プロセスカートリッジに作製した電子写真感光体を装着し、プロセスカートリッジを評価装置に装着し、評価は温度32.5℃、湿度80%RH環境下で行った。ゴースト電位評価は、A4サイズの普通紙を用い、連続して印字率2%の横線画像の出力を10,000枚行った後、以下の方法で行った。ゴースト電位の測定は、プロセスカートリッジを改造し、電子写真感光体の端部から128mm位置(中央部)に電位測定用プローブが位置するように固定された冶具と現像器を交換して、現像器位置で行った。電子写真感光体の非露光部の暗部電位が−500Vとなるように印加バイアスを設定し、レーザー光の光量は0.28μJ/cmとなるように設定した。ゴースト電位は、図2に示す画像を出力する信号を評価装置に入力して測定した。図2に示す画像を出力する信号により、感光体表面には、図2に示す画像に相当する静電潜像が形成される。図2に示す画像に相当する静電潜像において、ハーフトーン画像形成領域におけるゴースト画像発生領域の電位と、ハーフトーン画像形成領域におけるゴースト画像発生領域以外の領域における電位との電位差を、ゴースト電位とした。実施例1において、10,000枚の繰り返し使用後のゴースト電位は5Vであった。結果を表25に示す。
<摩擦係数測定>
実施例、比較例で製造した電位写真感光体の摩擦係数測定を次に示す方法で行った。常温常湿環境下(23℃/50%RH)において新東科学(株)製のHEIDON−14を用いて摩擦係数測定を行った。ブレード(ウレタンゴムブレード)を一定(50g)の荷重をかけた状態で電子写真感光体に接触設置した。電子写真感光体を50mm/minのスキャンスピードで電子写真感光体の軸方向に平行移動させたときの電子写真感光体とゴムブレードとの間に働く摩擦力を測定する。摩擦力は、ウレタンゴムブレード側に取り付けた歪みゲージの歪み量として計測し、引っ張り荷重(感光体に加わる力)に換算した。動摩擦係数はウレタンゴムブレードが動いている時の〔感光体に加わる力(摩擦力)(gf)〕/〔ブレードに加えた荷重(gf)〕から求められる。使用したウレタングムブレードは北辰工業社製ウレタンブレード(ゴム硬度67°)を5mm×30mm×2mmにカットし、荷重50gでwith方向、角度27°にて測定した。実施例1において、摩擦係数は、1.0であった。結果を表25に示す。
〔実施例2〜36〕
実施例1において、電荷輸送層の構成要素α、その他の樹脂(樹脂E)、構成要素β、電荷輸送物質および溶剤の種類と含有量を表16に示すように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造した。なお、実施例35および実施例36の電荷輸送層の膜厚は、それぞれ、10μmおよび25μmであった。結果を表25に示す。
Figure 2014115618
〔実施例37〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、135℃で60分間に変更した以外は、実施例3と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表25に示す。
〔実施例38〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、120℃で20分間に変更した以外は、実施例3と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表25に示す。
〔実施例39〜70〕
実施例1において、電荷輸送層の構成要素α、樹脂E、構成要素β、電荷輸送物質および溶剤の種類と含有量を表17に示すように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造した。なお、実施例69および実施例70の電荷輸送層の膜厚は、それぞれ、10μmおよび25μmであった。結果を表26に示す。
Figure 2014115618
〔実施例71〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、135℃で60分間に変更した以外は、実施例41と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表26に示す。
〔実施例72〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、120℃で20分間に変更した以外は、実施例41と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表26に示す。
〔実施例73〜120〕
実施例1において、電荷輸送層の構成要素α、樹脂E、構成要素β、電荷輸送物質および溶剤の種類と含有量を表18および表19に示すように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造した。なお、実施例119および実施例120の電荷輸送層の膜厚は、それぞれ、10μmおよび25μmであった。結果を表27および表28に示す。
Figure 2014115618
Figure 2014115618
〔実施例121〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、135℃で60分間に変更した以外は、実施例73と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表28に示す。
〔実施例122〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、120℃で20分間に変更した以外は、実施例73と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表28に示す。
〔実施例123〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、115℃で20分間に変更した以外は、実施例73と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表28に示す。
〔実施例124〜152〕
実施例1において、電荷輸送層の構成要素α、樹脂E、構成要素β、電荷輸送物質および溶剤の種類と含有量を表20に示すように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造した。なお、実施例151および実施例152の電荷輸送層の膜厚は、それぞれ、10μmおよび25μmであった。結果を表29に示す。
Figure 2014115618
〔実施例153〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、135℃で60分間に変更した以外は、実施例124と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表29に示す。
〔実施例154〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、120℃で20分間に変更した以外は、実施例124と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表29に示す。
〔比較例1〜29〕
実施例1において、電荷輸送層の構成要素α、樹脂E、構成要素βの比較化合物、電荷輸送物質および溶剤の種類と含有量を表21に示すように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造した。なお、比較例28および比較例29の電荷輸送層の膜厚は、それぞれ、10μmおよび25μmであった。結果を表30に示す。比較例20〜22において、表面層中のモノグライム(比較例20)、酢酸n−ペンチル(比較例21)、1−ペンタノール(比較例22)の含有量は、順に、0.002質量%、0.040質量%、0.030質量%であった。
〔比較例30〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、135℃で60分間に変更した以外は、比較例3と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表30に示す。
〔比較例31〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、120℃で20分間に変更した以外は、比較例3と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表30に示す。
Figure 2014115618
〔比較例32〜56〕
実施例1において、電荷輸送層の構成要素α、樹脂E、構成要素βの比較化合物、電荷輸送物質および溶剤の種類と含有量を表22に示すように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造した。なお、比較例55および比較例56の電荷輸送層の膜厚は、それぞれ、10μmおよび25μmであった。結果を表30に示す。比較例49〜51において、表面層中のモノグライム(比較例49)、酢酸n−ペンチル(比較例50)、1−ペンタノール(比較例51)の含有量は、順に、0.005質量%、0.040質量%、0.040質量%であった。
〔比較例57〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、135℃で60分間に変更した以外は、比較例34と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表30に示す。
〔比較例58〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、120℃で20分間に変更した以外は、比較例34と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表30に示す。
Figure 2014115618
〔比較例59〜86〕
実施例1において、電荷輸送層の構成要素α、樹脂E、構成要素βの比較化合物、電荷輸送物質および溶剤の種類と含有量を表23に示すように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造した。なお、比較例85および比較例86の電荷輸送層の膜厚は、それぞれ、10μmおよび25μmであった。結果を表31に示す。比較例71〜73において、表面層中のモノグライム(比較例71)、酢酸n−ペンチル(比較例72)、1−ペンタノール(比較例73)の含有量は、順に、0.003質量%、0.040質量%、0.050質量%であった。
〔比較例87〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、135℃で60分間に変更した以外は、比較例59と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表31に示す。
〔比較例88〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、120℃で20分間に変更した以外は、比較例59と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表31に示す。
Figure 2014115618
〔比較例89〜110〕
実施例1において、電荷輸送層の構成要素α、樹脂E、構成要素βの比較化合物、電荷輸送物質および溶剤の種類と含有量を表24に示すように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造した。なお、比較例109および比較例110の電荷輸送層の膜厚は、それぞれ、10μmおよび25μmであった。結果を表31に示す。比較例103〜105において、表面層中のモノグライム(比較例103)、酢酸n−ペンチル(比較例104)、1−ペンタノール(比較例105)の含有量は、順に、0.003質量%、0.050質量%、0.030質量%であった。
〔比較例111〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、135℃で60分間に変更した以外は、比較例89と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表31に示す。
〔比較例112〕
電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布した後の乾燥条件を、120℃で20分間に変更した以外は、比較例89と同様に電子写真感光体を製造した。結果を表31に示す。
Figure 2014115618
Figure 2014115618
Figure 2014115618
Figure 2014115618
Figure 2014115618
Figure 2014115618
Figure 2014115618
Figure 2014115618
実施例と比較例の対比から、電子写真感光体の表面層に構成要素αのシロキサン変性樹脂と構成要素βの化合物を含有することにより、初期の摩擦係数の低減と、繰り返し使用によるゴーストを抑制する効果を両立していることが示されている。
1 電子写真感光体
2 軸
3 帯電手段
4 露光光
5 現像手段
6 転写手段
7 クリーニング手段
8 定着手段
9 プロセスカートリッジ
10 案内手段
P 転写材

Claims (11)

  1. 支持体、該支持体上に設けられた電荷発生層および該電荷発生層上に設けられた電荷輸送層を有する電子写真感光体であって、
    該電子写真感光体の表面層が、下記(α)、(β)および電荷輸送物質を含有することを特徴とする電子写真感光体。
    (α)下記式(A)〜(D)のいずれかで示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂
    (β)ヘキサノール、ヘプタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、ニトロベンゼン、ピロリドン、N−メチルピロリドン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸ベンジル、3−エトキシプロピオン酸エチル、アセトフェノン、サリチル酸メチル、フタル酸ジメチルおよびスルホランからなる群より選択される少なくとも1種の化合物
    Figure 2014115618

    (式(A)中、Yは単結合、メチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、フェニルエチリデン基、シクロヘキシリデン基または酸素原子を示す。Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。Wは、下記式(W1)または下記式(W2)で示される1価の基を示す。)
    Figure 2014115618

    (式(W1)および式(W2)中、R〜Rは、それぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を示す。aは括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(A)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるaの平均値は、10以上150以下である。bおよびcは、それぞれ独立に括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(A)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるb+cの平均値は、10以上150以下である。)
    Figure 2014115618

    (式(B)中、Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基を示す。Vは、下記式(V1)または下記式(V2)で示される1価の基を示す。)
    Figure 2014115618

    (式(V1)および式(V2)中、R〜Rは、それぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を示す。dは2以上10以下の整数を示す。eは括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(B)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるeの平均値は、10以上150以下である。fおよびgは、それぞれ独立に括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(B)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるf+gの平均値は、10以上150以下である。)
    Figure 2014115618

    (式(C)中、Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。h、iおよびjは、それぞれ独立に括弧内の構造の繰り返し数を示す。式(C)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるhおよびiの平均値は、それぞれ独立に1以上10以下であり、式(C)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるjの平均値は、20以上200以下である。)
    Figure 2014115618

    (式(D)中、Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。kは括弧内の構造の繰り返し数を示し、式(D)で示される構造単位を有するシロキサン変性樹脂におけるkの平均値は、20以上200以下である。)
  2. 前記(β)が、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸ベンジル、3−エトキシプロピオン酸エチル、アセトフェノン、サリチル酸メチルおよびフタル酸ジメチルからなる群より選択される少なくとも1種の化合物である請求項1に記載の電子写真感光体。
  3. 前記(β)の含有量が、前記表面層の全質量に対して0.001質量%以上2.0質量%以下である請求項1または2に記載の電子写真感光体。
  4. 前記(α)の含有量が、前記表面層の全質量に対して1質量%以上45質量%以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
  5. 前記シロキサン変性樹脂が、さらに下記式(E)で示される構造単位を有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
    Figure 2014115618

    (式(E)中、Yは単結合、メチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、フェニルエチリデン基、シクロヘキシリデン基または酸素原子を示す。Xは、m−フェニレン基、p−フェニレン基または2つのp−フェニレン基が酸素原子を介して結合した2価の基を示す。nは0または1である。R11〜R14は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す。)
  6. 前記電荷輸送物質が、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物およびエナミン化合物からなる群より選択される少なくとも1種である請求項1〜5のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
  7. 前記表面層が、前記電荷輸送層である請求項1〜6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
  8. 前記シロキサン変性樹脂中のシロキサン部位の含有量が、前記シロキサン変性樹脂の全質量に対して1質量%以上50質量%以下である請求項1〜7のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
  9. 前記電荷輸送物質の含有量が、表面層の全質量に対して、20質量%以上50質量%以下である請求項1〜8のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
  10. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
  11. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
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