JP2014075579A - 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ生成空間と、プラズマ生成空間に連通した基板処理空間と、を有する基板処理室201と、前記プラズマ生成空間の外側に配され、コイル212と前記コイルに接続される波形調整回路を合わせた電気的長さが投入される電力の波長の整数倍の長さである誘導結合構造と、前記基板処理空間内に設けられ、表面にシリコン含有層が形成された高アスペクト比の溝を有する基板を載置する基板載置台217と、プラズマ生成空間に酸素含有ガスを供給する酸素ガス供給系を有するガス供給部234と、基板処理室からガスを排気する排気部235とを有する構成とする。
【選択図】図1
Description
前記プラズマ生成空間の外側に配され、コイルと前記コイルに接続される波形調整回路を合わせた電気的長さが、投入される電力の波長の整数倍の長さである誘導結合構造と、
前記基板処理空間内に設けられ、表面にシリコン含有層が形成された高アスペクト比の溝を有する基板を載置する基板載置台と、
前記基板処理室の壁に設けられた基板搬入出口と、
基板を処理する際、前記基板載置台に載置された基板を前記基板搬入出口と前記コイルの下端との間に位置するよう前記基板載置台を昇降可能な基板支持台昇降部と、
前記プラズマ生成空間に酸素含有ガスを供給する酸素ガス供給系を有するガス供給部と、
前記基板処理室からガスを排気する排気部と
を有する基板処理装置が提供される。
前記処理室の上方であって、空間が連通するプラズマ生成空間に酸素含有ガスを供給しつつガスを排気する工程と、
前記プラズマ生成空間の外周に配された誘導結合構造のコイルに、前記コイルおよびそれに接続される波形調整回路の電気的長さを整数倍の波長を有する電力を投入し、生成されるプラズマ電位が前記基板上の電位以下となるようプラズマ生成空間にプラズマを生成する工程と、
前記生成されたプラズマによって前記基板処理室の基板を酸化処理する工程と
を有する半導体装置の製造方法が提供される。
(1)基板処理装置の構成
本発明の第1実施形態に係る基板処理装置について、図1から図5を用いて以下に説明する。図1は、本実施形態に係る基板処理装置の断面図である。
処理装置100は、ウエハ200をプラズマ処理する処理炉202を備えている。処理炉202には、処理室201を構成する処理容器203が設けられている。処理容器203は、第1の容器であるドーム型の上側容器210と、第2の容器である碗型の下側容器211とを備えている。上側容器210が下側容器211の上に被さることにより、処理室201が形成される。上側容器210は、例えば酸化アルミニウム(Al2O3)または石英(SiO2)等の非金属材料で形成されており、下側容器211は、例えばアルミニウム(Al)で形成されている。
処理室201の底側中央には、ウエハ200を載置する基板載置部としてのサセプタ217が配置されている。サセプタ217は例えば窒化アルミニウム(AlN)、セラミックス、石英等の非金属材料から形成されており、ウエハ200上に形成される膜等の金属汚染を低減することができるように構成されている。
処理室201の上方、つまり上側容器210の上部には、シャワーヘッド236が設けられている。シャワーヘッド236は、キャップ状の蓋体233と、ガス導入口234と、バッファ室237と、開口238と、遮蔽プレート240と、ガス吹出口239とを備え、反応ガスを処理室201内へ供給できるように構成されている。バッファ室237は、ガス導入口234より導入される反応ガスを分散する分散空間としての機能を持つ。
下側容器211の側壁には、処理室201内から反応ガスを排気するガス排気口235が設けられている。ガス排気口235には、ガス排気管231の上流端が接続されている。ガス排気管231には、上流側から順に圧力調整器(圧力調整部)としてのAPC(Auto Pressure Controller)242、開閉弁としてのバルブ243b、真空排気装置としての真空ポンプ246が設けられている。
処理室201の外周部、すなわち上側容器210の側壁の外側には、処理室201を囲うように、第1の電極としての、螺旋状の共振コイル212が設けられている。共振コイル212には、RFセンサ272、高周波電源273と周波数整合器274が接続される。
プラズマの生成原理についいては後述する。
制御部としてのコントローラ221は、信号線Aを通じてAPC242、バルブ243b及び真空ポンプ246を、信号線Bを通じてサセプタ昇降機構268を、信号線Cを通じてヒータ217b及びインピーダンス可変機構275を、信号線Dを通じてゲートバルブ244を、信号線Eを通じてRFセンサ272及び高周波電源273、周波数整合器274を、信号線Fを通じてマスフローコントローラ252a,252b,252c及びバルブ253a,253b,253c,243aを、それぞれ制御するように構成されている。
次に、本実施形態に係る基板処理工程について、主に図3を用いて説明する。図3は、本実施形態に係る基板処理工程を示すフロー図である。本実施形態に係る基板処理工程は、例えばフラッシュメモリ等の半導体デバイスの製造工程の一工程として、上述の処理装置100により実施される。なお以下の説明において、処理装置100を構成する各部の動作は、コントローラ221により制御される。
まずは、上記のウエハ200を処理室201内に搬入する。具体的には、サセプタ昇降機構268がウエハ200の搬送位置までサセプタ217を下降させて、サセプタ217の貫通孔217aにウエハ突上げピン266を貫通させる。その結果、ウエハ突き上げピン266が、サセプタ217表面よりも所定の高さ分だけ突出した状態となる。
続いて、処理室201内に搬入されたウエハ200の昇温を行う。ヒータ217bは予め加熱されており、ヒータ217bが埋め込まれたサセプタ217上に、搬入されたウエハ200を保持することで、例えば150℃以上650℃以下の範囲内の所定値にウエハ200を加熱する。ここでは、ウエハ200の温度が600℃となるよう加熱する。また、ウエハ200の昇温を行う間、真空ポンプ246によりガス排気管231を介して処理室201内を真空排気し、処理室201内の圧力を0.1Pa以上1000Pa以下の範囲内の所定値とする。例えば200Paに調整される。真空ポンプ246は、少なくとも後述の基板搬出工程S160が終了するまで作動させておく。
次に、反応ガスとしてのO2ガスの供給を開始する。具体的には、バルブ253aを開け、マスフローコントローラ252aにて流量制御しながら、バッファ室237を介して処理室201内へのO2ガスの供給を開始する。このとき、O2ガスの流量を、例えば100sccm以上1000sccm以下の範囲内の所定値とする。また、処理室201内の圧力が、例えば1Pa以上1000Pa以下の範囲内の所定圧力となるように、APC242の開度を調整して処理室201内を排気する。このように、処理室201内を適度に排気しつつ、後述のプラズマ処理工程S140の終了時までO2ガスの供給を継続する。
処理室201内の圧力が安定したら、共振コイル212に対して高周波電源273から整合器272を介して、高周波電力の印加を開始する。
以下にその理由を詳述する。
所定の処理時間が経過してO2ガスの供給を停止したら、ガス排気管231を用いて処理室201内を真空排気する。これにより、処理室201内のO2ガスや、O2ガスが反応した排ガス等を処理室201外へと排気する。その後、APC242の開度を調整し、処理室201内の圧力を処理室201に隣接する真空搬送室(ウエハ200の搬出先。図示せず)と同じ圧力(例えば100Pa)に調整する。
処理室201内が所定の圧力となったら、サセプタ217をウエハ200の搬送位置まで下降させ、ウエハ突上げピン266上にウエハ200を支持させる。そして、ゲートバルブ244を開き、図中省略の搬送機構を用いてウエハ200を処理室201外へ搬出する。このとき、処理室201内を不活性ガス等でパージしながらウエハ200の搬出を行ってもよい。以上により、本実施形態に係る基板処理工程を終了する。
本実施形態によれば、以下に示す1つまたは複数の効果を奏する。
続いて、第二の実施形態を、図7、8を用いて説明する。図7、8は立体的に積層されたフラッシュメモリ構造を説明するための説明図である。第二の実施形態は第一の実施形態と次の点で相違する。第一に、基板処理工程で処理されるウエハに形成された成膜パターンが異なる。第二に、処理方法において第一の実施形態における図3のS130、S140が異なる。S110、S120、S150、S160については実施例1と同様の工程である。基板処理装置は、実施例1と同様の装置を用いる。
(1)基板処理工程
本実施形態に係る基板処理工程について説明する。本実施形態に係る基板処理工程は、例えばフラッシュメモリ等の半導体デバイスの製造工程の一工程として、上述の処理装置100により実施される。なお以下の説明において、処理装置100を構成する各部の動作は、コントローラ221により制御される。
本実施形態に係る基板処理工程を以下に詳述する。
まずは、図7のパターンが形成されたウエハ200を処理室201内に搬入する。
具体的には、サセプタ昇降機構268がウエハ200の搬送位置までサセプタ217を下降させて、サセプタ217の貫通孔217aにウエハ突上げピン266を貫通させる。その結果、ウエハ突き上げピン266が、サセプタ217表面よりも所定の高さ分だけ突出した状態となる。
続いて、処理室201内に搬入されたウエハ200の昇温を行う。ヒータ217bは予め加熱されており、ヒータ217bが埋め込まれたサセプタ217上に、搬入されたウエハ200を保持することで、例えば150℃以上650℃以下の範囲内の所定値にウエハ200を加熱する。ここでは、ウエハ200の温度が600℃となるよう加熱する。また、ウエハ200の昇温を行う間、真空ポンプ246によりガス排気管231を介して処理室201内を真空排気し、処理室201内の圧力を0.1Pa以上1000Pa以下の範囲内の所定値とする。例えば200Paに調整される。真空ポンプ246は、少なくとも後述の基板搬出工程が終了するまで作動させておく。
次に、反応ガスとしてのO2ガスおよびH2ガスの供給を開始する。
具体的に次の通りである。
(混合ガス流量制御工程)
バルブ243a,253b,253cを開け、O2ガスとH2ガスとArガスとの混合ガスを、バッファ室237を介して処理室201内に導入(供給)する。
供給する際、上記混合ガスの供給前に、H2ガスを処理室201内に導入して、処理室201内が所定の圧力となるように調整してもよい。こうすることにより、混合ガス供給開始時、処理室201内の圧力を保持した状態で、コントロール電極605に対する急激な酸化を抑制することができる。
そして、このプラズマ化した(プラズマ状態となった)混合ガスを、露出したフローティングゲート層603の側壁及び露出したコントロール電極605の側壁が形成されたウエハ200に供給して、ウエハ200にプラズマ処理(選択酸化処理)を施す。
域に対して、OHによる酸化作用と比較してHによる還元作用が大きくなり、上記ウエハ200上の金属を含む領域の表面の酸化が抑制される(酸化されたとしても還元する)。
所定の処理時間が経過してO2ガス、H2ガス、Arガスの供給を停止したら、ガス排気管231を用いて処理室201内を真空排気する。これにより、処理室201内のO2ガス、H2ガス、Arガスや、O2ガスが反応した排ガス等を処理室201外へと排気する。その後、APC242の開度を調整し、処理室201内の圧力を処理室201に隣接する真空搬送室(ウエハ200の搬出先。図示せず)と同じ圧力(例えば100Pa)に調整する。
処理室201内が所定の圧力となったら、サセプタ217をウエハ200の搬送位置まで下降させ、ウエハ突上げピン266上にウエハ200を支持させる。そして、ゲートバルブ244を開き、図中省略の搬送機構を用いてウエハ200を処理室201外へ搬出する。このとき、処理室201内を不活性ガス等でパージしながらウエハ200の搬出を行ってもよい。以上により、本実施形態に係る基板処理工程を終了する。
本実施形態によれば、以下に示す1つまたは複数の効果を奏する。
(b)このようにすることで、このような微細化3次元パターンにおいて柱状絶縁体601に近い位置に形成されているフローティングゲートのような膜、すなわち極細溝の底部に形成されている膜においても、フローティングゲート層の側壁を修復することが可能となる。
(c)修復することで、リーク電流を抑制すると共に、隣接するデバイスに対してリーク電流の影響を抑制することができる。
処理室と、前記処理室の外周に設けられたコイルと、前記処理室内に設けられ、高アスペクト比の溝を有する基板を載置する基板載置台と、前記基板載置台に内包された電極と、前記処理室壁に設けられた基板搬入出口と、前記基板載置台に載置された基板を前記基板搬入出口と前記コイルの下端との間に位置するよう前記基板載置台を昇降可能な基板支持台昇降部とを有する基板処理装置。
前記基板載置台に内包された電極には、インピーダンスを可変する可変機構が接続される付記1記載の基板処理装置。
基板搬入出口を介して、高アスペクト比の溝を有する基板を基板処理室に設けられた基板載置台に載置する工程と、前記基板が、前記処理室の外周に設けられたコイルの下端より下であって、所定の位置となるよう、前記基板載置台を昇降する工程と、前記基板処理室に所定のガスを供給する工程と、前記コイルに電力を供給し、前記ガスをプラズマ状態とし、前記基板を処理する工程と、前記基板が処理されたら、前記処理室から基板を搬出する工程とを有する半導体装置の製造方法。
プラズマが生成されるプラズマ生成空間と、前記プラズマ生成空間に連通し基板処理時に基板が投入される基板処理空間と、を有する基板処理室と、
前記プラズマ生成空間の外側に配され、コイルと前記コイルに接続される波形調整回路を合わせた電気的長さが、投入される電力の波長の整数倍の長さである誘導結合構造と、
前記基板処理空間内に設けられ、表面にシリコン含有層が形成された高アスペクト比の溝を有する基板を載置する基板載置台と、
前記基板処理室の壁に設けられた基板搬入出口と、
基板を処理する際、前記基板載置台に載置された基板を前記基板搬入出口と前記コイルの下端との間に位置するよう前記基板載置台を昇降可能な基板支持台昇降部と、
前記プラズマ生成空間に酸素含有ガスを供給する酸素ガス供給系を有するガス供給部と、
前記基板処理室からガスを排気する排気部と
を有する基板処理装置。
前記ガス供給部は、さらに水素含有ガスを供給する水素含有ガス供給系を有する付記4記載の基板処理装置。
基板搬入出口を介して、表面にシリコン含有層が形成された高アスペクト比の溝を有する基板を、基板処理室内の基板載置台に載置する工程と、
前記処理室の上方であって、空間が連通するプラズマ生成空間に酸素含有ガスを供給しつつガスを排気する工程と、
前記プラズマ生成空間の外周に配された誘導結合構造のコイルに、前記コイルおよびそれに接続される波形調整回路の電気的長さを整数倍の波長を有する電力を投入し、生成されるプラズマ電位が前記基板上の電位以下となるようプラズマ生成空間にプラズマを生成する工程と、
前記生成されたプラズマによって前記基板処理室の基板を酸化処理する工程と
を有する半導体装置の製造方法。
前記溝は、シリコン含有層の他に金属含有層を有し、前記酸素含有ガスを供給する前に、水素含有ガスを供給する付記5記載の半導体装置の製造方法。
前記プラズマを生成する工程では、前記金属含有層が変質しない温度で加熱する付記6記載の半導体装置の製造方法。
前記溝は複数並列に形成され、前記溝の間には金属含有層およびシリコン含有層を有するデバイス構造が形成され、前記プラズマを生成する工程では、前記金属含有層が変質しない温度で加熱しつつ、前記シリコン含有層を酸化する付記5の半導体装置の製造方法。
200…ウエハ
201…処理室
212…共振コイル
217…サセプタ
301…トレンチ
302…マスク
Claims (6)
- プラズマが生成されるプラズマ生成空間と、前記プラズマ生成空間に連通し基板処理時に基板が投入される基板処理空間と、を有する基板処理室と、
前記プラズマ生成空間の外側に配され、コイルと前記コイルに接続される波形調整回路を合わせた電気的長さが、投入される電力の波長の整数倍の長さである誘導結合構造と、
前記基板処理空間内に設けられ、表面にシリコン含有層が形成された高アスペクト比の溝を有する基板を載置する基板載置台と、
前記基板処理室の壁に設けられた基板搬入出口と、
基板を処理する際、前記基板載置台に載置された基板を前記基板搬入出口と前記コイルの下端との間に位置するよう前記基板載置台を昇降可能な基板支持台昇降部と、
前記プラズマ生成空間に酸素含有ガスを供給する酸素ガス供給系を有するガス供給部と、
前記基板処理室からガスを排気する排気部と
を有する基板処理装置。 - 前記ガス供給部は、さらに水素含有ガスを供給する水素含有ガス供給系を有する請求項1記載の基板処理装置。
- 基板搬入出口を介して、表面にシリコン含有層が形成された高アスペクト比の溝を有する基板を、基板処理室内の基板載置台に載置する工程と、
前記処理室の上方であって、空間が連通するプラズマ生成空間に酸素含有ガスを供給しつつガスを排気する工程と、
前記プラズマ生成空間の外周に配された誘導結合構造のコイルに、前記コイルおよびそれに接続される波形調整回路の電気的長さを整数倍の波長を有する電力を投入し、生成されるプラズマ電位が前記基板上の電位以下となるようプラズマ生成空間にプラズマを生成する工程と、
前記生成されたプラズマによって前記基板処理室の基板を酸化処理する工程と
を有する半導体装置の製造方法。 - 前記溝は、シリコン含有層の他に金属含有層を有し、前記酸素含有ガスを供給する前に、水素含有ガスを供給する請求項4記載の半導体装置の製造方法。
- 前記プラズマを生成する工程では、前記金属含有層が変質しない温度で加熱する請求項5記載の半導体装置の製造方法。
- 前記溝は複数並列に形成され、前記溝の間には金属含有層およびシリコン含有層を有するデバイス構造が形成され、前記プラズマを生成する工程では、前記金属含有層が変質しない温度で加熱しつつ、前記シリコン含有層を酸化する請求項4記載の半導体装置の製造方法。
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