JP2014072324A - プリント配線板及びその製造方法 - Google Patents
プリント配線板及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014072324A JP2014072324A JP2012216531A JP2012216531A JP2014072324A JP 2014072324 A JP2014072324 A JP 2014072324A JP 2012216531 A JP2012216531 A JP 2012216531A JP 2012216531 A JP2012216531 A JP 2012216531A JP 2014072324 A JP2014072324 A JP 2014072324A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring board
- resin layer
- resin
- printed wiring
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/036—Multilayers with layers of different types
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/429—Plated through-holes specially for multilayer circuits, e.g. having connections to inner circuit layers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4602—Manufacturing multilayer circuits characterized by a special circuit board as base or central core whereon additional circuit layers are built or additional circuit boards are laminated
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
- H05K3/465—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits by applying an insulating layer having channels for the next circuit layer
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09818—Shape or layout details not covered by a single group of H05K2201/09009 - H05K2201/09809
- H05K2201/09854—Hole or via having special cross-section, e.g. elliptical
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/425—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
- H05K3/427—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in metal-clad substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
- H05K3/4673—Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
- H05K3/4676—Single layer compositions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
- Y10T29/49165—Manufacturing circuit on or in base by forming conductive walled aperture in base
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
【課題】プリント配線板の反りを抑制しつつ、銅箔の密着性を向上させることで、プリント配線板の電気的信頼性を向上させる。
【解決手段】プリント配線板が、スルーホール100cを備える基板100(コア基板)と、基板100の表裏に形成された第1導体パターン及び第2導体パターン(導体層100a、100b)と、スルーホール100c内部に充填されためっきにより形成され、第1導体パターンと第2導体パターンとを接続するスルーホール導体100dと、を備える。基板100は、無機繊維と樹脂とを含む絶縁層1001と、絶縁層1001の表裏に形成された樹脂層1002及び1003と、からなり、樹脂層1002及び1003は、無機繊維を含有せず、樹脂層1002の厚みと樹脂層1003の厚みとの和は、基板100の厚みの20%以下である。
【選択図】図3
【解決手段】プリント配線板が、スルーホール100cを備える基板100(コア基板)と、基板100の表裏に形成された第1導体パターン及び第2導体パターン(導体層100a、100b)と、スルーホール100c内部に充填されためっきにより形成され、第1導体パターンと第2導体パターンとを接続するスルーホール導体100dと、を備える。基板100は、無機繊維と樹脂とを含む絶縁層1001と、絶縁層1001の表裏に形成された樹脂層1002及び1003と、からなり、樹脂層1002及び1003は、無機繊維を含有せず、樹脂層1002の厚みと樹脂層1003の厚みとの和は、基板100の厚みの20%以下である。
【選択図】図3
Description
本発明は、プリント配線板及びその製造方法に関する。
特許文献1には、3つの絶縁層(第一絶縁層、第二絶縁層、第三絶縁層)から構成される積層板に貫通孔が形成され、その貫通孔に導体が充填されてなるプリント配線板が開示されている。特許文献1に記載のプリント配線板では、3つの絶縁層のうち、第二絶縁層と第三絶縁層とに挟まれる第一絶縁層は、無機繊維基材を含んでいるが、第二絶縁層及び第三絶縁層の各々は、無機繊維基材を含んでいない。
特許文献1では、第二絶縁層及び第三絶縁層に無機充填材を含ませることが望ましいとされている(特許文献1の請求項5などを参照)。また、第二絶縁層及び第三絶縁層には、特に40〜60重量部の無機充填材を含ませることが望ましいとされている(特許文献1の段落「0028」、「0033」、「0039」などを参照)。しかしながら、例えば第二絶縁層及び第三絶縁層に40〜60重量部の無機充填材を含ませた場合には、プリント配線板の電気的信頼性が低下することが、発明者の実験で確認されている。プリント配線板の電気的信頼性が低下することは、プリント配線板の歩留まり低下にもつながり得る。
また、特許文献1の段落「0049」には、第一絶縁層の両面に、無機充填材を含まない絶縁層(第二絶縁層、第三絶縁層)を設けることが開示されている。しかしながら、特許文献1に記載のプリント配線板では、第二絶縁層及び第三絶縁層が厚い(第一絶縁層の約0.75倍、銅箔の約15倍、総コア基板厚の約0.5倍)ため、プリント配線板を構成する基板の熱膨張率(CTE)が高くなり、プリント配線板が反り易くなると考えられる。また、銅箔が剥離し易くなる。
本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、プリント配線板の反りを抑制しつつ、銅箔の密着性を向上させることで、プリント配線板の電気的信頼性を向上させることを目的とする。また、本発明は、プリント配線板の歩留まり向上を他の目的とする。
本発明に係るプリント配線板は、
第1面と該第1面の反対面の第2面とを有し、貫通孔を備えるコア基板と、
前記第1面上に形成されている第1導体パターンと、
前記第2面上に形成されている第2導体パターンと、
前記貫通孔内部に充填されためっきにより形成され、前記第1導体パターンと前記第2導体パターンとを接続するスルーホール導体と、
を備えるプリント配線板であって、
前記コア基板は、無機繊維と樹脂とを含む絶縁層と、前記絶縁層の表面上に設けられ前記第1面を有する第1樹脂層と、前記絶縁層の裏面上に設けられ前記第2面を有する第2樹脂層と、からなり、
前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層は、無機繊維を含有せず、
前記第1樹脂層の厚みと前記第2樹脂層の厚みとの和は、前記コア基板の厚みの20%以下である。
第1面と該第1面の反対面の第2面とを有し、貫通孔を備えるコア基板と、
前記第1面上に形成されている第1導体パターンと、
前記第2面上に形成されている第2導体パターンと、
前記貫通孔内部に充填されためっきにより形成され、前記第1導体パターンと前記第2導体パターンとを接続するスルーホール導体と、
を備えるプリント配線板であって、
前記コア基板は、無機繊維と樹脂とを含む絶縁層と、前記絶縁層の表面上に設けられ前記第1面を有する第1樹脂層と、前記絶縁層の裏面上に設けられ前記第2面を有する第2樹脂層と、からなり、
前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層は、無機繊維を含有せず、
前記第1樹脂層の厚みと前記第2樹脂層の厚みとの和は、前記コア基板の厚みの20%以下である。
本発明に係るプリント配線板の製造方法は、
第1面と該第1面の反対面の第2面とを有し、貫通孔を備え、無機繊維と樹脂とを含む絶縁層と、前記絶縁層の表面上に設けられ前記第1面を有する第1樹脂層と、前記絶縁層の裏面上に設けられ前記第2面を有する第2樹脂層と、からなるコア基板を準備することと、
前記コア基板の前記第1面上に、第1導体パターンを形成することと、
前記コア基板の前記第2面上に、第2導体パターンを形成することと、
前記貫通孔内に、めっきを充填することにより、前記第1導体パターンと前記第2導体パターンとを接続するスルーホール導体を形成することと、
を含むプリント配線板の製造方法であって、
前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層は、無機繊維を含有せず、
前記第1樹脂層の厚みと前記第2樹脂層の厚みとの和は、前記コア基板の厚みの20%以下である。
第1面と該第1面の反対面の第2面とを有し、貫通孔を備え、無機繊維と樹脂とを含む絶縁層と、前記絶縁層の表面上に設けられ前記第1面を有する第1樹脂層と、前記絶縁層の裏面上に設けられ前記第2面を有する第2樹脂層と、からなるコア基板を準備することと、
前記コア基板の前記第1面上に、第1導体パターンを形成することと、
前記コア基板の前記第2面上に、第2導体パターンを形成することと、
前記貫通孔内に、めっきを充填することにより、前記第1導体パターンと前記第2導体パターンとを接続するスルーホール導体を形成することと、
を含むプリント配線板の製造方法であって、
前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層は、無機繊維を含有せず、
前記第1樹脂層の厚みと前記第2樹脂層の厚みとの和は、前記コア基板の厚みの20%以下である。
本発明によれば、配線板の反りを抑制しつつ、銅箔の密着性を向上させることで、配線板の電気的信頼性を向上させることが可能になる。また、本発明によれば、この効果に加えて又はこの効果に代えて、配線板の歩留まり向上を可能にするという効果が奏される場合がある。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図中、矢印Z1、Z2は、それぞれ配線板の主面(表裏面)の法線方向に相当する配線板の積層方向(又は配線板の厚み方向)を指す。一方、矢印X1、X2及びY1、Y2は、それぞれ積層方向に直交する方向(又は各層の側方)を指す。配線板の主面は、X−Y平面となる。また、配線板の側面は、X−Z平面又はY−Z平面となる。積層方向において、コアに近い側を下層、コアから遠い側を上層という。
導体層は、一乃至複数の導体パターンで構成される層である。導体層は、電気回路を構成する導体パターン、例えば配線(グランドも含む)、パッド、又はランド等を含む場合もあれば、電気回路を構成しない面状の導体パターン等を含む場合もある。
開口部には、孔や溝のほか、切欠や切れ目等も含まれる。
本実施形態に係る配線板10は、例えば図1に示すような多層プリント配線板(両面リジッド配線板)である。配線板10は、基板100と、絶縁層101、102、103、104と、導体層100a、100b、110、120、130、140と、スルーホール導体100dと、ビア導体101b、102b、103b、104bと、ソルダーレジスト層11、12と、を有する。本実施形態の配線板10は、例えば矩形板状のリジッド配線板である。ただしこれに限られず、配線板10は、矩形板状以外の形状を有していてもよいし、フレキシブル配線板であってもよい。配線板10は、例えば電子機器の回路を含む。配線板10の表面又は内部に電子部品が実装されてもよい。以下、基板100の表裏面(2つの主面)の一方(Z1側)を面F11、他方(Z2側)を面F12という。
基板100は、配線板10のコア基板に相当する。基板100の面F11上には導体層100aが形成され、基板100の面F12上には導体層100bが形成される。導体層100a及び100bは、基板100に形成された孔内の導体(スルーホール導体100d)によって相互に電気的に接続される。本実施形態の配線板10では、基板100と、スルーホール導体100dと、導体層100a及び100bとが、コア部に相当する。
本実施形態に係る配線板10では、基板100の面F11上及び導体層100a上に、絶縁層101、103(それぞれ層間絶縁層)と導体層110、130とが交互に形成される。また、基板100の面F12上及び導体層100b上に、絶縁層102、104(それぞれ層間絶縁層)と導体層120、140とが交互に形成される。各導体層は、層間絶縁層に形成された孔内の導体(例えばビア導体101b、102b、103b、104b)によって相互に電気的に接続される。
コア部上に積層される導体層、層間絶縁層、及びビア導体は、ビルドアップ部に相当する。以下、最も下層に位置するビルドアップ部を、下層ビルドアップ部といい、下層ビルドアップ部よりも上層のビルドアップ部を、上層ビルドアップ部という。本実施形態では、下層ビルドアップ部が、絶縁層101、102と、導体層110、120と、ビア導体101b、102bと、から構成される。また、上層ビルドアップ部が、絶縁層103、104と、導体層130、140と、ビア導体103b、104bと、から構成される。
最外の絶縁層103上及び導体層130上には、ソルダーレジスト層11が設けられ、最外の絶縁層104上及び導体層140上には、ソルダーレジスト層12が設けられる。ソルダーレジスト層11、12にはそれぞれ開口部11a、12aが形成され、開口部11a、12aでそれぞれ露出する導体層130、140がパッドP1、P2(外部接続端子)となる。配線板10の片面又は両面に他の配線板又は電子部品等が実装されることで、配線板10は、例えば携帯機器(携帯電話等)の回路基板として使用することができる。本実施形態の配線板10は、例えば片面に電子部品(ICチップ等)が実装され、反対側の面にマザーボートに実装するためのバンプが形成されるパッケージ基板(PKG基板)である。また、配線板10に、PoP(Package on Package)技術を適用してもよい。
配線板10を構成する各導体(導体層、ビア導体など)は、例えば銅からなる。各ビア導体はそれぞれ、例えばフィルド導体からなる。ただしこれに限られず、各ビア導体は、例えばコンフォーマル導体からなってもよい。配線板10を構成する各絶縁層(基板100を除く)は、例えばガラス布、アラミド繊維の不織布、又は紙等の基材に、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、又はフェノール系樹脂等を含浸させたものからなる。また、配線板10を構成する各絶縁層(基板100を除く)は、例えば無機フィラーを含む。ただし、配線板10を構成する導体及び絶縁層の材料は任意である。例えば各絶縁層(基板100を除く)は、基材(ガラス布等)なしで樹脂のみから構成されてもよいし、無機フィラーを含んでいなくてもよい。
ソルダーレジスト層11及び12の各々は、例えばアクリル−エポキシ系樹脂を用いた感光性樹脂、エポキシ樹脂を主体とした熱硬化性樹脂、又は紫外線硬化型の樹脂等からなる。
図1において、配線板10の厚さD10は、例えば400μmである。各導体層(導体層100a、100bを除く)の厚さはそれぞれ、例えば15μmである。各絶縁層(基板100を除く)の厚さはそれぞれ、例えば40μmである。ソルダーレジスト層11、12の厚さはそれぞれ、例えば13〜25μmの範囲にある。
以下、図2〜図4を参照して、本実施形態に係る配線板10のコア部について詳述する。
図2は、図1に示される配線板10のスルーホール導体100d及びその周辺を拡大して示す平面図である。図2には、基板100の面F11上の導体層100aが示されている。
図2に示すように、本実施形態では、導体層100aが、円板状のランドP11と、ランドP11につながるライン状の配線P12と、ランドP11の近傍に位置する配線P13と、を含む。配線P13は、ランドP11とは電気的に絶縁されている。
図3は、図1に示される配線板10におけるスルーホール導体100d及びその周辺を拡大して示す断面図である。
本実施形態に係る配線板10のコア部は、図3に示すように、基板100と、スルーホール導体100dと、導体層100a及び100bと、から構成される。導体層100bは、スルーホール導体100dのランドP21と、ランドP21につながるライン状の配線P22と、を有する。導体層100bに含まれるランドP21、配線P22はそれぞれ、例えばランドP11、配線P12(図2参照)と同様の形態を有する。
基板100は、図3に示すように、絶縁層1001と、樹脂層1002と、樹脂層1003と、から構成される。以下、絶縁層1001の表裏面(2つの主面)の一方(Z1側)を面F1、他方(Z2側)を面F2という。樹脂層1002は、絶縁層1001の面F1上に形成され、樹脂層1003は、絶縁層1001の面F2上に形成される。本実施形態では、樹脂層1002の上面が、基板100の面F11に相当し、樹脂層1003の上面が、基板100の面F12に相当する。
基板100にはスルーホール100cが形成され、スルーホール100c内に導体(例えば銅めっき)が充填されることにより、スルーホール導体100d(例えばフィルド導体)が形成される。スルーホール導体100dの形状は、例えば砂時計状(鼓状)である。すなわち、スルーホール導体100dは括れ部100eを有し、スルーホール導体100dの幅は、面F11から括れ部100eに近づくにつれて徐々に小さくなり、また、面F12から括れ部100eに近づくにつれて徐々に小さくなる。しかしこれに限られず、スルーホール導体100dの形状は任意であり、例えば略円柱であってもよい。
導体層100aは、基板100の面F11上に、金属箔2001(例えば銅箔)と、例えば銅の無電解めっき膜2003と、例えば銅の電解めっき2004とが、この順で積層されて構成される。導体層100bは、基板100の面F12上に、金属箔2002(例えば銅箔)と、例えば銅の無電解めっき膜2003と、例えば銅の電解めっき2004とが、この順で積層されて構成される。本実施形態では、金属箔2001が、導体層100aの最下層に位置し、金属箔2002が、導体層100bの最下層に位置する。金属箔2001は樹脂層1002に接し、金属箔2002は樹脂層1003に接する。
スルーホール導体100dは、スルーホール100cの壁面上に、例えば銅の無電解めっき膜2003と、例えば銅の電解めっき2004とが、この順で積層されて構成される。スルーホール導体100dは、めっきにより、基板100(絶縁層)の両面の導体層100a及び100bと一緒に形成される。このため、スルーホール導体100dと基板100の両側の導体層100a及び100bとは、少なくとも一部で連続している。具体的には、図3に示すように、スルーホール導体100d及びその両端の導体層100a、100bにわたって、無電解めっき膜2003及び電解めっき2004が形成され、無電解めっき膜2003及び電解めっき2004の各々は、継ぎ目なしで連続して(一体的に)形成される。
図3において、絶縁層1001の厚さD11は、例えば140μmであり、樹脂層1002の厚さD12は、例えば5μmであり、樹脂層1003の厚さD13は、例えば5μmである。すなわち、厚さD12と厚さD13との和は10μmであり、基板100の厚さ(=150μm)の約6.67%に相当する。このように、本実施形態では、樹脂層1002の厚さD12と樹脂層1003の厚さD13との和が、基板100の厚さの20%以下になっている。
本実施形態では、基板100の厚さ(樹脂層1002の厚さと絶縁層1001の厚さと樹脂層1003の厚さとの合計)において、絶縁層1001の厚さが占める割合が、93%である。無機繊維及び無機フィラーを含む絶縁層1001の割合が大きくなれば、基板100の熱膨張率が小さくなり、配線板10の反りが抑制されると考えられる。
導体層100a及び100bの厚さはそれぞれ、例えば15μmである。金属箔2001及び2002の厚さはそれぞれ、例えば15μmである。導体層100aを構成する無電解めっき膜2003の厚さと導体層100bを構成する無電解めっき膜2003の厚さとはそれぞれ、例えば1μmである。導体層100aを構成する電解めっき2004の厚さと導体層100bを構成する電解めっき2004の厚さとはそれぞれ、例えば12μmである。本実施形態では、導体層100a(金属箔2001、無電解めっき膜2003、電解めっき2004)と導体層100b(金属箔2002、無電解めっき膜2003、電解めっき2004)とが、互いに同じ厚さを有する。しかしこれに限られず、導体層100aと導体層100bとが、互いに異なる厚さを有していてもよい。
図2及び図3において、スルーホール100c両端の開口の幅D21(直径)はそれぞれ、例えば80μmである。スルーホール100cの括れ部100eの幅D22(直径)は、例えば50μmである。
絶縁層1001は、無機繊維に樹脂を含浸させてなる。本実施形態では、絶縁層1001が、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させてなる。エポキシ樹脂は、熱硬化性を有する。ただしこれに限られず、絶縁層1001は、例えばアラミド繊維の不織布等の無機繊維に、ポリイミド樹脂、又はフェノール系樹脂を含浸させてなるものであってもよい。
樹脂層1002及び1003はそれぞれ、無機繊維を含有しない。本実施形態では、樹脂層1002及び1003がそれぞれ、熱硬化性を有するエポキシ樹脂から構成される。ただしこれに限られず、樹脂層1002及び1003はそれぞれ、例えばポリイミド樹脂、BT樹脂、アリル化フェニレンエーテル樹脂(A−PPE樹脂)、アラミド樹脂、液晶ポリマー(LCP)、PEEK樹脂、又はPTFE樹脂(フッ素樹脂)から構成されてもよい。
本実施形態では、絶縁層1001が、無機繊維(例えばガラスクロス)に、40〜70wt%(重量比)の割合で無機フィラーを含む樹脂(例えばエポキシ樹脂)を含浸させてなる。すなわち、絶縁層1001は、無機繊維、樹脂、及び無機フィラーから構成される。そして、樹脂の重さをW1、無機フィラーの重さをW2とすると、「100×W2/(W1+W2)」は、40〜70の範囲にある。また、図4Aに示すように、本実施形態では、絶縁層1001が、小さな無機フィラーFと大きな無機フィラーFとの両方を含む。具体的には、最も小さな無機フィラーFの直径は1μmであり、最も大きな無機フィラーFの直径は5μmである。無機フィラーFの含有量は、例えば絶縁層1001の全体にわたって略均一である。
無機フィラーFとしては、例えばシリカ系フィラー(溶解石英、等方性シリカ、シリカ、タルク、雲母、カオリン、又はケイ酸カルシウム等)を用いることが好ましい。ただし、無機フィラーFはシリカ系フィラーに限られず任意である。
また、本実施形態では、図4Aに示すように、樹脂層1002が、表層部に、無機フィラーを含まない。ただし、図4Bに示すように、樹脂層1002は、絶縁層1001と樹脂層1002との境界部R11(面F1近傍)に無機フィラーを含む(詳しくは、後述する)。一方、樹脂層1002において、境界部R11よりも外側(面F11側)の部分R12(表層部を含む)は、無機フィラーを含まない。本実施形態では、樹脂層1002の無機フィラーを含まない部分R12の厚さが、例えば5μmである。
図4Bでは、点ハッチングの粗密により無機フィラーの含有量を示しており、ハッチングが密であるほど無機フィラーの含有量は多い。すなわち、絶縁層1001と樹脂層1002との境界部R11(面F1近傍)においては、面F11に近づくにつれて無機フィラーの含有量が減るように、漸次、無機フィラーの含有量が変化している。すなわち、絶縁層1001の表層部(面F1近傍)においては、樹脂層1002(又は、面F1)に近づくにつれて無機フィラーの含有量が減る。境界部R11の厚さは、例えば2μmであり、そのうち、樹脂層1002を構成する部分の厚さは、例えば5μmであり、絶縁層1001を構成する部分の厚さは、例えば190μmである。
本実施形態では、樹脂層1003が、樹脂層1002と同様、図4A及び図4Bに示されるような態様で、無機フィラーを含んでいる。すなわち、本実施形態では、樹脂層1003が、絶縁層1001と樹脂層1003との境界部(面F2近傍)を除いて、略全体的に、無機フィラーを含まない。また、絶縁層1001と樹脂層1003との境界部(面F2近傍)においては、面F12に近づくにつれて無機フィラーの含有量が減るように、漸次、無機フィラーの含有量が変化している。ただしこれに限られず、樹脂層1002と樹脂層1003とは、互いに異なる態様で、無機フィラーを含んでいてもよい。
本実施形態では、樹脂層1002における無機フィラーの含有量が、絶縁層1001から面F11に向かうにつれて少なくなり、樹脂層1003における無機フィラーの含有量が、絶縁層1001から面F12に向かうにつれて少なくなる。すなわち、絶縁層1001と樹脂層1002との境界部、及び、絶縁層1001と樹脂層1003との境界部の各々において、絶縁層1001から遠ざかるにつれて無機フィラーの含有量が減る。これにより、無機フィラーを含む部分(絶縁層1001)から無機フィラーを含まない部分(樹脂層1002又は1003)に向かって、無機フィラーの量がなだらかに変化するようになるため、絶縁層1001と樹脂層1002、1003との密着性が向上すると考えられる。
また、図5に示すように、本実施形態の配線板10におけるスルーホール100cの壁面F30を、絶縁層1001の側面F31と、境界部R11の側面F32と、樹脂層1002の側面F33と、に分けて考えると、側面F32及びF33の各々に比べて、側面F31の粗さは大きくなり易い。これは、側面F31においては、無機フィラーに起因する脱粒が生じ易いためであると推察される。そのため、側面F31では、側面F32よりも無機繊維の露出量(露出面積又は突出量など)が大きくなり易い。なお、絶縁層1001と樹脂層1003との境界部についても、同様のことがいえる。
本実施形態では、樹脂層1002及び1003がそれぞれ、表層部に、無機フィラーを含まない。これにより、配線板10の電気的信頼性が向上すると考えられる。以下、図6〜図11を参照して、このことについてさらに説明する。
例えば下記の点で本実施形態に係る配線板10とは異なる配線板(以下、フィラーを含む配線板という)について考える。すなわち、フィラーを含む配線板は、図6に示すように、絶縁層1001及び樹脂層1002、1003の各々が、全体的に40〜60重量部の無機フィラーを含んでいる。
フィラーを含む配線板(図6)のスルーホール100cは、例えば図7に示すように、両面に金属箔2001、2002が形成された基板100を準備して、基板100及び金属箔2001、2002の全てを貫通するようなレーザ照射を行うことによって形成される。この際、基板100は、40〜60重量部の無機フィラーを含む。また、基板100は、大きな無機フィラーだけでなく、小さな無機フィラーも含んでいる。そのため、例えばレーザ照射後にスルーホール100cにデスミアを行ったときに、図8Aに示すように、小さな無機フィラーが集合して樹脂と一緒に塊R102となって、剥がれ易くなる。そして、この塊R102の剥がれ(脱粒)が生じると、図8Aに示すように、金属箔2001の先端部P101が基板100から剥離し易くなる。そして、金属箔2001の剥離(金属箔2001の反り)によって生じる隙間R101と、塊R102がなくなることによって生じる空隙とによって、図8Bに示すように、基板100と金属箔2001との間に、大きな空間R100が生じることになる。
上記のような空間R100が形成された状態で、スルーホール導体100dを形成するためのめっき(例えば無電解めっき)を行うと、めっき液が空間R100に入り込んで、図9に示すように、スルーホール100cの縁部(スルーホール100c周辺)の導体層が部分的に厚くなり易くなると考えられる。図10は、脱粒が生じた状態でめっきを行って形成したスルーホール導体100d及びその周辺を示すSEM写真である。
そして、上記のように導体層が部分的に厚くなった状態で、導体層100a(図6)をパターニングするためのエッチングを行うと、その導体層の厚くなった部分において、本来除去すべき導体がエッチングにより除去しきれず、残り易くなる。その結果、図11(図2に対応する図)に示すように、例えばランドP11とその近傍の配線P13とを短絡させるような導体P20が残って、電気的特性の異常が生じ易くなる。また、脱粒した塊R102がめっき液中を浮遊して基板表面に付着した場合には、めっきの異常析出(ひいては、電気的特性の異常)の原因となることも懸念される。
さらに、基板100の表層部に無機フィラーが含まれる場合には、基板100表面に無機フィラーが露出して、基板100と金属箔2001との密着性を低下させることが懸念される。
なお、ここでは、基板100の面F11側(金属箔2001等)について言及したが、基板100の面F12側(金属箔2002等)についても同様のことがいえる。
この点、本実施形態では、樹脂層1002及び1003がそれぞれ、表層部(面F11近傍及び面F12近傍)に、無機フィラーを含まない。これにより、樹脂層1002及び1003の各々の表面(面F11、面F12、及びスルーホール100cの壁面)において、無機フィラーは露出せず、また、上述のような脱粒が生じにくくなる。その結果、樹脂層1002とその上の導体層100a(特に、金属箔2001)との密着性(又は接続信頼性)、及び樹脂層1003とその上の導体層100b(特に、金属箔2002)との密着性(又は接続信頼性)が、それぞれ向上すると考えられる。
また、上述のような、脱粒に起因する電気的特性の異常が生じにくくなるため、配線板10の電気的信頼性が向上すると考えられる。さらにその結果、配線板10の歩留まりが向上すると考えられる。
本実施形態では、樹脂層1002の厚さD12と樹脂層1003の厚さD13との和が、基板100の厚さの20%以下になっている。これにより、プリント配線板の反りを抑制しつつ、金属箔の密着性を向上させることが可能になる。以下、図12〜図14を参照して、このことについて説明する。
なお、図12〜図14は、試料A〜Iについての実験結果、詳しくは、各図に示されるようなコア部を有する配線板(試料A〜I)について、銅箔の剥離及び基板の反りの試験を行った結果を示す表である。表中の「無機フィラー含有量」は、樹脂の無機フィラー含有量を示しており、例えば無機繊維に樹脂を含浸させてなる絶縁層においては、含浸前の樹脂に含まれる無機フィラー含有量を示している。また、試料A〜Iの構成は、図12〜図14に示される点以外は、本実施形態の配線板10と同じである。試料A〜Iにおいては、コア基板が基板100に、絶縁層が絶縁層1001に、第1樹脂層が樹脂層1002に、第2樹脂層が樹脂層1003に、第1銅箔が金属箔2001に、第2銅箔が金属箔2002に、第1導体層が導体層100aに、第2導体層が導体層100bに、それぞれ相当する。
試料A〜Iのコア基板では、絶縁層が、無機繊維にエポキシ系樹脂を含浸させてなり、第1樹脂層及び第2樹脂層の各々が、エポキシ系樹脂からなる。ただし、試料Gのコア基板は、第1樹脂層及び第2樹脂層を含まない。
試料A〜Cでは、図12に示されるように、絶縁層の無機フィラー含有量が65wt%であり、第1樹脂層及び第2樹脂層の各々は、無機フィラーを含まない。また、試料A〜Cでは、第1銅箔の厚さ及び第2銅箔の厚さの各々が、3μmである。
絶縁層の厚さは、試料Aで94μmであり、試料Bで142μmであり、試料Cで190μmである。第1樹脂層の厚さ及び第2樹脂層の厚さの各々は、試料Aで3μmであり、試料Bで4μmであり、試料Cで5μmである。第1導体層の厚さ及び第2導体層の厚さの各々は、試料Aで15μmであり、試料Bで18μmであり、試料Cで20μmである。コア基板の厚さにおける第1及び第2樹脂層の厚さの割合は、試料Aで6.00%であり、試料Bで5.30%であり、試料Cで5.00%である。
上記構成を有する試料A〜Cでは、銅箔(第1銅箔、第2銅箔)の剥離も、基板の反りも、ほとんど生じなかった。
試料D〜Fでは、図13に示されるように、第1銅箔の厚さ及び第2銅箔の厚さの各々が、3μmであり、第1導体層の厚さ及び第2導体層の厚さの各々が、18μmである。
絶縁層の無機フィラー含有量は、試料Dで70wt%であり、試料Eで70wt%であり、試料Fで50wt%である。第1樹脂層の無機フィラー含有量及び第2樹脂層の無機フィラー含有量の各々は、試料Dで5wt%であり、試料Eで3wt%であり、試料Fで0wt%である。
絶縁層の厚さは、試料Dで86μmであり、試料Eで138μmであり、試料Fで194μmである。第1樹脂層の厚さ及び第2樹脂層の厚さの各々は、試料Dで7μmであり、試料Eで6μmであり、試料Fで3μmである。コア基板の厚さにおける第1及び第2樹脂層の厚さの割合は、試料Dで14.00%であり、試料Eで8.00%であり、試料Fで3.00%である。
上記構成を有する試料D〜Fでは、銅箔(第1銅箔、第2銅箔)の剥離も、基板の反りも、ほとんど生じなかった。
試料G〜Iでは、図14に示されるように、第1銅箔の厚さ及び第2銅箔の厚さの各々が、3μmであり、第1導体層の厚さ及び第2導体層の厚さの各々が、18μmである。
絶縁層の無機フィラー含有量は、試料Gで65wt%であり、試料Hで65wt%であり、試料Iで70wt%である。第1樹脂層の無機フィラー含有量及び第2樹脂層の無機フィラー含有量の各々は、試料Hで0wt%であり、試料Iで70wt%である。
絶縁層の厚さは、試料Gで150μmであり、試料Hで140μmであり、試料Iで194μmである。第1樹脂層の厚さ及び第2樹脂層の厚さの各々は、試料Hで30μmであり、試料Iで3μmである。コア基板の厚さにおける第1及び第2樹脂層の厚さの割合は、試料Gで0.00%であり、試料Hで30.00%であり、試料Iで3.00%である。
上記構成を有する試料Gでは、基板の反りはほとんど生じなかったが、銅箔(第1銅箔、第2銅箔)の剥離が生じた。上記構成を有する試料Hでは、銅箔(第1銅箔、第2銅箔)の剥離はほとんど生じなかったが、基板の反りが生じた。上記構成を有する試料Iでは、基板の反りはほとんど生じなかったが、銅箔(第1銅箔、第2銅箔)の剥離が少し生じた。
上記のように、試料Gでは、銅箔の剥離が生じたが、試料A〜Fでは、銅箔の剥離はほとんど生じなかった。このことから、無機繊維を含有しない第1樹脂層及び第2樹脂層を設けることで、銅箔の剥離が抑制されると考えられる。
上記のように、試料Hでは、基板の反りが生じたが、試料A〜Fでは、基板の反りはほとんど生じなかった。このことから、第1樹脂層の厚みと第2樹脂層の厚みとの和を、コア基板の厚みの20%以下、より好ましくはコア基板の厚みの2〜15%の範囲内にすることで、基板の反りが抑制されると考えられる。
上記のように、試料Iでは、銅箔の剥離が少し生じたが、試料A〜Fでは、銅箔の剥離はほとんど生じなかった。このことから、第1樹脂層と第2樹脂層との各々における無機フィラーの含有量を10wt%以下にすることで、銅箔の剥離が抑制されると考えられる。
本実施形態の配線板10は、無機繊維を含有しない樹脂層1002及び1003を有する。また、本実施形態の配線板10では、樹脂層1002の厚みと樹脂層1003の厚みとの和が、基板100の厚みの20%以下であり、より詳しくはコア基板の厚みの2〜15%の範囲にある。このため、プリント配線板の反りを抑制しつつ、金属箔の密着性を向上させることが可能になる。また、その結果、プリント配線板の電気的信頼性を向上させることが可能になる。また、プリント配線板の電気的信頼性が向上すれば、プリント配線板の歩留まりが向上すると考えられる。
さらに、本実施形態の配線板10では、樹脂層1002及び1003の各々における無機フィラーの含有量が10wt%以下である。これにより、基板100(コア基板)と金属箔2001、2002との密着性が向上すると考えられる。ただしこれに限られず、樹脂層1002及び1003の少なくとも一方の無機フィラーの含有量を10wt%以下にすれば、その樹脂層については、銅箔の剥離が抑制されると考えられる。
本実施形態では、樹脂層1002の厚さと樹脂層1003の厚さとが、ほぼ同じである。また、絶縁層1001を構成する樹脂と、樹脂層1002を構成する樹脂と、樹脂層1003を構成する樹脂とは、同一の樹脂(例えばエポキシ樹脂)である。これにより、絶縁層1001の表裏の対称性が高まり、基板100の反りが抑制されると考えられる。
本実施形態では、樹脂層1002の無機フィラーを含まない部分の厚さと、樹脂層1003の無機フィラーを含まない部分の厚さとが、それぞれ基板100に含まれる最も大きな無機フィラーの直径以上である。また、基板100(コア基板)の面F11及びF12の各々には無機フィラーが露出しない。その結果、基板100(コア基板)と金属箔2001、2002との密着性が向上すると考えられる。
本実施形態では、樹脂層1002が金属箔2001よりも薄くて、且つ、樹脂層1003が金属箔2002よりも薄い。このため、無機繊維及び無機フィラーのいずれも含まない樹脂層1002、1003を設けても、基板100の熱膨張率(CTE)の低下は少ないと考えられる。このため、配線板10の反りを抑制しつつ、配線板10の電気的信頼性を向上させることが可能になる。
本実施形態では、樹脂層1002の厚さD12(図3)及び樹脂層1003の厚さD13(図3)がそれぞれ、5μmである。配線板10の反りを抑制しつつ、配線板10の電気的信頼性を向上させるためには、樹脂層1002の厚さ及び樹脂層1003の厚さがそれぞれ、3〜7μmの範囲にあることが好ましいと考えられる。
本実施形態では、樹脂層1002と絶縁層1001と樹脂層1003とから構成される基板100の熱膨張率が、6ppm/Kである。好適に配線板10の反りを抑制するためには、樹脂層1002と絶縁層1001と樹脂層1003とから構成される基板100の熱膨張率が、5〜7ppm/Kの範囲にあることが好ましいと考えられる。
本実施形態では、絶縁層1001が、ガラス繊維不織布に無機フィラー含有樹脂を含浸させて形成される。無機フィラーの含有量は、65wt%である。好適に基板100の熱膨張率を小さくするためには、絶縁層1001のガラスクロスに含浸させる無機フィラー含有樹脂の無機フィラー含有量が、40〜70wt%の範囲にあることが望ましいと考えられる。
導体層100a、100bの密着性(又は接続信頼性)を低下させないためには、樹脂層1002及び1003の少なくとも一方(より好ましくは、両方)が、少なくとも表面(面F11又はF12)から3μmまでの深さに無機フィラーを含まないようにすることが好ましいと考えられる。この点、本実施形態では、樹脂層1002及び1003がそれぞれ、表面(面F11又はF12)から5μm(=部分R12の厚さ)までの深さに無機フィラーを含まないため、導体層100a及び100bの密着性(又は接続信頼性)が向上すると考えられる。
以下、本実施形態に係る配線板10(特に、そのコア部)の製造方法について説明する。
まず、図15に示すように、基板100を準備する。具体的には、例えばガラスクロス(無機繊維)に未硬化のエポキシ樹脂を含浸させた後、樹脂を乾燥して硬化させて、完全に硬化した状態(Cステージ)の絶縁層1001を形成する。続けて、絶縁層1001の面F1上に、例えばエポキシ樹脂を塗布することにより樹脂層1002を形成し、絶縁層1001の面F2上に、例えばエポキシ樹脂を塗布することにより樹脂層1003を形成する。絶縁層1001及び樹脂層1002、1003はそれぞれ、前述のような態様(図4A及び図4B参照)で無機フィラーを含む。
続けて、図16に示すように、樹脂層1002の上面(面F11)に、金属箔2001(例えば銅箔)を貼り付け、樹脂層1003の上面(面F12)に、金属箔2002(例えば銅箔)を貼り付ける。金属箔2001、2002は、樹脂層1002、1003を完全に硬化させてから貼り付けてもよいし、樹脂層1002、1003が半硬化の状態のときに貼り付けて密着性を高めてもよい。
上記のようにして、完全に硬化した状態(Cステージ)の基板100を準備する。また、必要に応じて、熱処理等を行って、絶縁層1001の無機フィラーを樹脂層1002又は1003側に移動(樹脂に混入)させることにより、絶縁層1001と樹脂層1002、1003との境界部(面F1近傍、面F2近傍)において、絶縁層1001から遠ざかるにつれて無機フィラーの含有量が減るようにする(図4B参照)。
続けて、図17に示すように、例えばCO2レーザを用いて、金属箔2001にレーザを照射することにより孔100fを形成し、金属箔2002にレーザを照射することにより孔100gを形成する。孔100fと孔100gとは、X−Y平面において略同じ位置に形成され、最終的にはつながって、金属箔2001、基板100、及び金属箔2002を貫通するスルーホール100cとなる。スルーホール100cの形状は、例えば砂時計状(鼓状)である。孔100fと孔100gとの境界は括れ部100e(図1)に相当する。孔100fを形成するためのレーザ照射と孔100gを形成するためのレーザ照射とは、同時に行っても、片面ずつ行ってもよい。また、レーザ光の吸収効率を高めるため、レーザ照射に先立って金属箔2001、2002の表面を黒化処理してもよい。なお、スルーホール100cの形成は、ドリル又はエッチングなど、レーザ以外の方法で行ってもよい。ただし、レーザ加工であれば、微細な加工をし易い。
また、スルーホール100cを形成した後、スルーホール100cについてデスミアを行う。デスミアにより、不要な導通(ショート)が抑制される。
続けて、図18に示すように、例えばパネルめっき法により、金属箔2001、2002上及びスルーホール100c内に、例えば銅の無電解めっき膜2003を形成する。めっき方法は、例えば化学めっき法であり、めっき液としては、例えば還元剤等が添加された硫酸銅溶液を用いることができる。
続けて、図19に示すように、基板100の両面(無電解めっき膜2003上)に、所定の位置に開口部を有するめっきレジスト2005、2006を形成する。めっきレジスト2005、2006の開口部はそれぞれ、導体層100a、100b(図3)に対応して配置されている。
続けて、図20に示すように、例えばパターンめっき法により、めっきレジスト2005、2006の開口部に、例えば銅の電解めっき2004を形成する。具体的には、無電解めっき膜2003をシード層として電解めっきを行って、無電解めっき膜2003の表面に銅を析出させる。これにより、スルーホール100c内に電解めっき2004が充填され、スルーホール導体100dが形成される。また、樹脂層1002上及び樹脂層1003上にはそれぞれ、金属箔、無電解めっき膜、及び電解めっきからなる導体層が形成される。めっき液としては、例えば硫酸銅溶液、ピロリン酸銅溶液、青(シアン)化銅溶液、又はホウフッ化銅溶液などを用いることができる。電解めっきのためのシード層は無電解めっき膜に限られず、無電解めっき膜に代えて、スパッタ膜等をシード層として用いてもよい。
続けて、例えば所定の剥離液により、めっきレジスト2005、2006を除去し、さらに続けて、不要な無電解めっき膜2003及び金属箔2001、2002を除去する。これにより、導体層100a及び100b(図3参照)が形成される。その結果、本実施形態に係る配線板10のコア部が完成する。
続けて、配線板10のコア部の両面に、ビルドアップ部を形成する。ビルドアップ部は、例えばめっき法及び樹脂付き銅箔を用いたビルドアップ方式のプロセスなど、積層配線基板の一般的な製造方法により製造することができる。各導体層は、例えばパネルめっき法、パターンめっき法、フルアディティブ法、セミアディティブ(SAP)法、サブトラクティブ法、転写法、及びテンティング法のいずれか1つ、又はこれらの2以上を任意に組み合わせた方法で、形成することができる。各絶縁層は、例えばプリプレグ、又はABF(Ajinomoto Build-up Film:味の素ファインテクノ株式会社製)を用いて形成することができる。ABFは、絶縁材料を2枚の保護シートで挟んだフィルムである。
これにより、本実施形態に係る配線板10(図1)が完成する。本実施形態の製造方法は、配線板10の製造に適している。こうした製造方法であれば、低コストで、良好な配線板10が得られる。
本発明は、上記実施形態に限定されない。例えば以下のように変形して実施することもできる。
樹脂層1002又は1003が、無機フィラーを含んでいてもよい。例えば樹脂層1002又は1003が、その表層部に10wt%(重量比)以下の無機フィラーを含んでいてもよい。この場合にも、前述の脱粒(図8A及び図8B参照)は抑制され、導体層の密着性が向上すると考えられる。また、配線板の電気的信頼性が向上すると考えられる。さらにその結果、配線板の歩留まりが向上すると考えられる。
樹脂層1002、1003に含ませる無機フィラーとしては、例えばシリカ系フィラー(溶解石英、等方性シリカ、シリカ、タルク、雲母、カオリン、又はケイ酸カルシウム等)を用いることが好ましい。ただし、無機フィラーはシリカ系フィラーに限られず任意である。無機フィラーの含有量は、例えば樹脂層1002、1003の略全体(境界部を除く)にわたって略均一にすることが好ましい。
図21に示すように、樹脂層1002及び1003がそれぞれ、互いに無機フィラーの含有量が異なる複数の層から構成されてもよい。図21の例では、樹脂層1002が、樹脂層1002aと樹脂層1002bとから構成され、樹脂層1002aが、樹脂層1002bよりも多く、且つ、絶縁層1001よりも少ない含有量で無機フィラーを含む。また、樹脂層1003が、樹脂層1003aと樹脂層1003bとから構成され、樹脂層1003aが、樹脂層1003bよりも多く、且つ、絶縁層1001よりも少ない含有量で無機フィラーを含む。無機フィラーの含有量は、例えば樹脂層1002a、1002b、1003a、1003bの各々の略全体(境界部を除く)にわたって略均一である。また、樹脂層1002b及び1003bはそれぞれ、無機フィラーを含んでいなくてもよい。
配線板10の構成、特に、その構成要素の種類、性能、寸法、材質、形状、層数、又は配置等は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において任意に変更することができる。
樹脂層1002の厚さと樹脂層1003の厚さとは、互いに異なっていてもよい。また、絶縁層1001を構成する樹脂と、樹脂層1002を構成する樹脂と、樹脂層1003を構成する樹脂とは、異なる種類の樹脂であってもよい。
例えば上記実施形態において、ビルドアップ部の層数は任意に変更できる。また、基板100の面F11側と基板100の面F12側とで、ビルドアップ部の層数が異なっていてもよい。ただし、応力を緩和するためには、基板100の面F11側と基板100の面F12側とで、ビルドアップ部の層数を同じにして、表裏の対称性を高めることが好ましいと考えられる。また、絶縁層の片面のみに導体層及び層間絶縁層が積層される片面プリント配線板であってもよい。
配線板の製造方法は、上記実施形態に示した順序や内容に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において任意に順序や内容を変更することができる。また、用途等に応じて、必要ない工程を割愛してもよい。
上記実施形態及び変形例(各要素について列記した材質等)は、任意に組み合わせることができる。用途等に応じて適切な組み合わせを選ぶことが好ましいと考えられる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、設計上の都合やその他の要因によって必要となる様々な修正や組み合わせは、「請求項」に記載されている発明や「発明を実施するための形態」に記載されている具体例に対応する発明の範囲に含まれると理解されるべきである。
10 配線板
11、12 ソルダーレジスト層
11a、12a 開口部
100 基板
100a、100b 導体層
100c スルーホール
100d スルーホール導体
100e 括れ部
100f、100g 孔
101、102、103、104 絶縁層
101b、102b、103b、104b ビア導体
110、120、130、140 導体層
1001 絶縁層
1002、1003 樹脂層
1002a、1003a 樹脂層
2001、2002 金属箔
2003 無電解めっき膜
2004 電解めっき
2005、2006 めっきレジスト
F 無機フィラー
F1、F2 面
F11、F12 面
P1、P2 パッド
P11 ランド
P12、P13 配線
P20 導体
P21 ランド
P22 配線
P101 先端部
R11 境界部
R12 部分
R102 塊
11、12 ソルダーレジスト層
11a、12a 開口部
100 基板
100a、100b 導体層
100c スルーホール
100d スルーホール導体
100e 括れ部
100f、100g 孔
101、102、103、104 絶縁層
101b、102b、103b、104b ビア導体
110、120、130、140 導体層
1001 絶縁層
1002、1003 樹脂層
1002a、1003a 樹脂層
2001、2002 金属箔
2003 無電解めっき膜
2004 電解めっき
2005、2006 めっきレジスト
F 無機フィラー
F1、F2 面
F11、F12 面
P1、P2 パッド
P11 ランド
P12、P13 配線
P20 導体
P21 ランド
P22 配線
P101 先端部
R11 境界部
R12 部分
R102 塊
Claims (16)
- 第1面と該第1面の反対面の第2面とを有し、貫通孔を備えるコア基板と、
前記第1面上に形成されている第1導体パターンと、
前記第2面上に形成されている第2導体パターンと、
前記貫通孔内部に充填されためっきにより形成され、前記第1導体パターンと前記第2導体パターンとを接続するスルーホール導体と、
を備えるプリント配線板であって、
前記コア基板は、無機繊維と樹脂とを含む絶縁層と、前記絶縁層の表面上に設けられ前記第1面を有する第1樹脂層と、前記絶縁層の裏面上に設けられ前記第2面を有する第2樹脂層と、からなり、
前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層は、無機繊維を含有せず、
前記第1樹脂層の厚みと前記第2樹脂層の厚みとの和は、前記コア基板の厚みの20%以下である、
ことを特徴とするプリント配線板。 - 前記第1樹脂層の厚みと前記第2樹脂層の厚みの和は、前記コア基板の厚みの2〜15%の範囲にある、
ことを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板。 - 前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層は、無機フィラーを含有する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のプリント配線板。 - 前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層は、無機フィラーを含有しない、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のプリント配線板。 - 前記第1樹脂層における前記無機フィラーの含有量は、前記絶縁層から前記第1面に向かうにつれて少なくなる、
ことを特徴とする請求項3に記載のプリント配線板。 - 前記第2樹脂層における前記無機フィラーの含有量は、前記絶縁層から前記第2面に向かうにつれて少なくなる、
ことを特徴とする請求項3又は5に記載のプリント配線板。 - 前記コア基板の第1面及び第2面には前記無機フィラーは露出しない、
ことを特徴とする請求項3、5、6のいずれか一項に記載のプリント配線板。 - 前記絶縁層は、前記無機繊維に、40〜70wt%の割合で無機フィラーを含む前記樹脂を含浸させてなる、
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載のプリント配線板。 - 前記第1樹脂層の厚さと前記第2樹脂層の厚さとは、ほぼ同じである、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載のプリント配線板。 - 前記第1樹脂層の厚さと前記第2樹脂層の厚さはそれぞれ、3〜7μmの範囲にある、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載のプリント配線板。 - 前記第1樹脂層の前記無機フィラーの含有量は、10wt%以下である、
ことを特徴とする請求項3、5、6、7のいずれか一項に記載のプリント配線板。 - 前記第2樹脂層の前記無機フィラーの含有量は、10wt%以下である、
ことを特徴とする請求項3、5、6、7、11のいずれか一項に記載のプリント配線板。 - 前記絶縁層を構成する前記樹脂と、前記第1樹脂層を構成する樹脂と、前記第2樹脂層を構成する樹脂は、同一の樹脂である、
ことを特徴とする請求項1乃至12のいずれか一項に記載のプリント配線板。 - 前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層の少なくとも一方は、少なくとも表面から3μmまでの深さに無機フィラーを含まない、
ことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか一項に記載のプリント配線板。 - 第1面と該第1面の反対面の第2面とを有し、貫通孔を備え、無機繊維と樹脂とを含む絶縁層と、前記絶縁層の表面上に設けられ前記第1面を有する第1樹脂層と、前記絶縁層の裏面上に設けられ前記第2面を有する第2樹脂層と、からなるコア基板を準備することと、
前記コア基板の前記第1面上に、第1導体パターンを形成することと、
前記コア基板の前記第2面上に、第2導体パターンを形成することと、
前記貫通孔内に、めっきを充填することにより、前記第1導体パターンと前記第2導体パターンとを接続するスルーホール導体を形成することと、
を含むプリント配線板の製造方法であって、
前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層は、無機繊維を含有せず、
前記第1樹脂層の厚みと前記第2樹脂層の厚みとの和は、前記コア基板の厚みの20%以下である、
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 前記コア基板を準備することは、さらに、
前記無機繊維に樹脂を含浸させることにより、前記絶縁層を形成することと、
前記絶縁層を乾燥することと、
前記絶縁層上に樹脂を塗布することにより、前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層を形成することと、
を含む、
ことを特徴とする請求項15に記載のプリント配線板の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012216531A JP2014072324A (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | プリント配線板及びその製造方法 |
US14/041,858 US9078366B2 (en) | 2012-09-28 | 2013-09-30 | Printed wiring board and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012216531A JP2014072324A (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | プリント配線板及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014072324A true JP2014072324A (ja) | 2014-04-21 |
Family
ID=50384147
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012216531A Pending JP2014072324A (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | プリント配線板及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9078366B2 (ja) |
JP (1) | JP2014072324A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017026497A (ja) * | 2015-07-23 | 2017-02-02 | 住友ベークライト株式会社 | フィラーの含浸率の評価方法、フィラーの含浸率の評価装置、およびコンピュータプログラム |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI490115B (zh) | 2014-03-07 | 2015-07-01 | Azotek Co Ltd | 金屬基板及其製作方法 |
DE102014103954A1 (de) * | 2014-03-21 | 2015-09-24 | At & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft | Verstärkungsstrukturen mit wärmeleitfähigkeitserhöhender Beschichtung in Harzmatrix und von Beschichtung getrennte elektrische Leiterstruktur |
US9398703B2 (en) * | 2014-05-19 | 2016-07-19 | Sierra Circuits, Inc. | Via in a printed circuit board |
KR102404721B1 (ko) * | 2015-04-16 | 2022-06-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 가요성 인쇄회로기판 |
KR102412612B1 (ko) * | 2015-08-28 | 2022-06-23 | 삼성전자주식회사 | 패키지 기판 및 프리프레그 |
WO2019049519A1 (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-14 | 日本ピラー工業株式会社 | 回路基板及びその製造方法 |
TWI705536B (zh) * | 2018-11-16 | 2020-09-21 | 欣興電子股份有限公司 | 載板結構及其製作方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003110246A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-11 | Kyocera Corp | 絶縁シートおよびその製法並びに多層配線基板およびその製法 |
JP2004179526A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Kyocera Corp | 配線基板およびその製造方法 |
JP2006045388A (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Kaneka Corp | 絶縁性接着シートおよびその利用 |
JP2007305963A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 応力緩和層付半導体素子搭載用基板並びにその製造方法 |
JP2011205069A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Ibiden Co Ltd | プリント配線板及びプリント配線板の製造方法 |
WO2012114680A1 (ja) * | 2011-02-21 | 2012-08-30 | パナソニック株式会社 | 金属張積層板、及びプリント配線板 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3822549B2 (ja) * | 2002-09-26 | 2006-09-20 | 富士通株式会社 | 配線基板 |
JP2011210795A (ja) | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層板、積層板の製造方法、プリント配線基板および半導体装置 |
JP2011228676A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-11-10 | Kyocera Corp | 配線基板およびその実装構造体 |
-
2012
- 2012-09-28 JP JP2012216531A patent/JP2014072324A/ja active Pending
-
2013
- 2013-09-30 US US14/041,858 patent/US9078366B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003110246A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-11 | Kyocera Corp | 絶縁シートおよびその製法並びに多層配線基板およびその製法 |
JP2004179526A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Kyocera Corp | 配線基板およびその製造方法 |
JP2006045388A (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Kaneka Corp | 絶縁性接着シートおよびその利用 |
JP2007305963A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 応力緩和層付半導体素子搭載用基板並びにその製造方法 |
JP2011205069A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Ibiden Co Ltd | プリント配線板及びプリント配線板の製造方法 |
WO2012114680A1 (ja) * | 2011-02-21 | 2012-08-30 | パナソニック株式会社 | 金属張積層板、及びプリント配線板 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017026497A (ja) * | 2015-07-23 | 2017-02-02 | 住友ベークライト株式会社 | フィラーの含浸率の評価方法、フィラーの含浸率の評価装置、およびコンピュータプログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140090878A1 (en) | 2014-04-03 |
US9078366B2 (en) | 2015-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2014072324A (ja) | プリント配線板及びその製造方法 | |
JP2014127701A (ja) | 配線板及びその製造方法 | |
US9538642B2 (en) | Wiring board and method for manufacturing the same | |
US8735739B2 (en) | Wiring board and method for manufacturing the same | |
JP5600803B2 (ja) | 配線板及びその製造方法 | |
JP5272090B2 (ja) | 配線板とその製造方法 | |
WO2012133099A1 (ja) | 配線板及びその製造方法 | |
WO2011152312A1 (ja) | 配線板の製造方法 | |
US20150271923A1 (en) | Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board | |
JP2015122545A (ja) | 多層配線基板及びその製造方法 | |
JP2015220281A (ja) | プリント配線板 | |
JP2013161939A (ja) | シート材、シート材の製造方法、インダクタ部品、配線板及び磁性材料 | |
US20130192879A1 (en) | Multilayer printed wiring board | |
JP2015220282A (ja) | プリント配線板 | |
JP4693861B2 (ja) | 放熱印刷回路基板及びその製造方法 | |
KR101049678B1 (ko) | 방열 인쇄회로기판 및 이를 제조하는 방법 | |
JP2017073531A (ja) | プリント回路基板及びその製造方法 | |
JP2014049578A (ja) | 配線板、及び、配線板の製造方法 | |
KR102268388B1 (ko) | 인쇄회로기판 및 그 제조방법 | |
JP5165723B2 (ja) | 回路基板およびその製造方法 | |
JP2013115136A (ja) | 電子部品内蔵基板及びその製造方法 | |
JP2015060981A (ja) | プリント配線板 | |
JP2013219204A (ja) | 配線基板製造用コア基板、配線基板 | |
US9253873B2 (en) | Printed circuit board and method of manufacturing the same | |
JP2014127587A (ja) | 配線板及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150827 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160624 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160705 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170110 |