JP2014063807A - レジスト液供給装置、レジスト塗布装置、レジスト液の温度管理方法、レジスト液保管装置、及び、マスクブランクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レジスト液供給装置1は、レジスト液を一定量貯留するレジストボトル11と、レジストボトル11内のレジスト液をレジスト塗布装置2である滴下ノズル20に供給する供給手段30と、充満される温調液14でレジストボトル11を浸漬させる液槽12と、温調液14を液槽12内に流入させる流入口41及び温調液14を液槽12から流出させる流出口42を有する温調液循環手段40と、流入口41から液槽12へ流入させる温調液14の温度を制御する温度制御手段50とを備える。温度制御手段50で室温又は冷温に温度制御した温調液14を連続的に液槽12に流入させることにより、レジストボトル11内のレジスト液の温度を温調液14の温度に変更及び/又は維持する。
【選択図】図1
Description
(特徴1)温調液は水(純水)である。
(特徴2)レジストボトル11は任意の水平断面において円筒状をなす容器である。
このような形状であれば、温調水はレジストボトルを周回しやすくなる。
(特徴3)液槽の側壁には液槽内にあるレジストボトルの様子を確認できる窓部が形成されている。これにより、レジスト液の残量などを視認することができる。
(特徴4)外部環境の熱的影響を抑制するために、液槽には断熱材が備えられている。断熱材が備えられていることにより、液槽の壁面を介した熱移動が生じにくくなる。
(特徴5)液槽にレジストボトルのネック部分を嵌合可能な上蓋が備えられている。液槽外への温調水の飛散を防止することができる。また、上蓋が備えられることにより、
上蓋にレジストボトルが固定可能ならばより好ましい。レジストボトルが蓋部で固定されることにより、レジスト液と温調水の密度差、又は、レジスト液の消費によるボトル内空間の増加によりレジストボトルに浮力が加わっても、レジストボトルの安定性は維持される。
以下、図面に従って、本発明に係るレジスト液供給装置及びレジスト塗布装置の実施形態を説明する。図1は、本発明の一つの実施形態による、レジスト液供給装置1及びレジスト塗布装置2の構成を示す概略図である。なお、図1において、レジスト液供給装置1の本体がその一部を破断した部分断面図により示され、流体制御系の構成が流体回路図により示される。また、レジスト塗布装置2は、スピンコータ3上に設置される例えばフォトマスクブランク等の対象基板Sの表面にレジスト液を滴下させる滴下ノズル20を備える。
上述した構成のレジスト液供給装置1によるレジスト液の保管及び温度の管理は、例えば次のようにして行われる。
第一の過程Iは、レジスト液の塗布に先立ち、レジスト液の塗布に適した第一の温度(例えば23℃の室温)にレジスト液の温度を昇温させるまでの過程である。図5に示される第一の過程Iでは、温度制御手段50が前記第一の温度に温調液14の温度を制御し、その第一の温度の温調液14を液槽12に連続的に供給して循環させることで、レジストボトル11内のレジスト液をレジスト液の保管に適した第二の温度(例えば10℃の冷温)から前記第一の温度に昇温させる。
第二の過程IIは、レジスト液をレジスト塗布装置2へ供給する稼動期間において、レジスト液の塗布に適した前記第一の温度(室温)にレジスト液の温度を維持する過程である。図5に示される第二の過程IIでは、温度制御手段50が前記第一の温度に温調液14の温度を制御しながら液槽12に温調液14を連続的に継続して循環させることで、レジストボトル11内のレジスト液の温度を前記第一の温度に維持する。この第二の過程IIの期間は、レジスト液供給装置1及びレジスト塗布装置2の稼動期間に概ね一致し、その間、塗布のバッチ処理が複数回、断続的に行われることが想定される。
第三の過程IIIは、最後の塗布のバッチ処理が終了した後に、レジスト液の保管に適した前記第二の温度(冷温)にレジスト液の温度を冷却する過程である。この第三の過程IIIでは、温度制御手段50が前記第二の温度に温調液14の温度を制御し、その第二の温度の温調液14を液槽12に連続的に供給して循環させることで、レジストボトル11内のレジスト液を前記第一の温度から前記第二の温度に冷却させる。
第四の過程IVは、塗布が行われない休止期間において、レジスト液の保管に適した前記第二の温度(冷温)にレジスト液の温度を維持する過程である。この第四の過程IVでは、温度制御手段50が前記第二の温度に温調液14の温度を制御しながら液槽12に温調液14を連続的に継続して循環させることで、レジストボトル11内のレジスト液の温度を前記第二の温度に維持する。これにより、レジスト液の感度劣化を抑制した長期の保管を許容する。
上述した構成のレジスト液供給装置1は、レジスト液を保管するレジスト液保管装置としても機能する。この場合において、レジスト液保管装置は、レジスト液を一定量貯留するレジストボトル11と、充満される温調液14でレジストボトル11を浸漬させる液槽12と、温調液14を液槽12内に流入させる流入口41及び温調液14を液槽12から流出させる流出口42を有する温調液循環手段40と、流入口41から液槽12へ流入させる温調液14の温度を制御する温度制御手段50とを備える。図1に示したレジスト液供給装置1と同様に、液槽12の内壁が任意の水平断面において円をなすことが好ましく、略円筒状のレジストボトル11が液槽12内において縦に設置されることで、液槽12の内壁とレジストボトル11との間に温調液14が浸入するための所定幅の間隙が形成される。
図6は、他の実施形態によるレジスト液供給装置又はレジスト液保管装置であり、液槽12の部分を破断して装置内部の構成を表した側面図である。図6に示される実施形態では、レジストボトル11の首部11bにフランジ11cが設けられる。液槽12の上蓋18には開口部18aが形成され、開口部18aの縁部とフランジ11cの外周部分を嵌合等により着脱可能に固定することで、レジストボトル11が液槽12内に吊り下げられた形態で支持される。これにより、温調液14とレジスト液との密度差やレジスト液消費によるボトル内空間の増加によりレジストボトル11に浮力が一定程度発生する場合でも、液槽12内にレジストボトル11を安定して支持することができる。また、図1に示した架台13を設けなくても、レジストボトル11の底部と液槽12との間には、温調液14が流出入可能な間隙が形成される。
LSIやフラットパネルディスプレイ(FPD:Flat Panel Display)などに代表される半導体デバイスの製造、並びに、磁気ディスク、光ディスク及びマイクロマシンなどの微細構造物の形成や加工等においてはフォトリソグラフィ技術が採用されている。そのようなフォトリソグラフィのパターンエッチングに用いられるフォトマスクは、遮光膜が成膜されたフォトマスクブランク(本明細書では単に「マスクブランク」という)に所定のマスクパターンを短波長のレーザ等により描画することにより製造される。
2 レジスト塗布装置
3 スピンコータ
11 レジストボトル
12 液槽
13 架台
14 温調液
15 断熱材
16 給水ライン
17 排水ライン
18 上蓋
20 滴下ノズル
30 レジスト液供給手段
31 ポンプ
32 排出管
33 供給管
34 フィルタ
35 三方弁
36 戻り管
40 温調液循環手段
41 流入口
42 流出口
43 方向切換弁
45 可変流量ポンプ
48 温度センサ
50 温度制御手段
60 周回手段
70 レジスト液循環手段
Claims (24)
- フォトリソグラフィに用いるレジスト液を貯留するためのレジストボトルと、
充満される温調液で前記レジストボトルを浸漬させるための液槽と、
前記液槽に設置され前記温調液を前記液槽に流入させる流入口、及び、前記温調液を前記液槽から流出させる流出口を有する温調液循環手段と、
前記温調液循環手段により前記流入口から前記液槽へ流入させる前記温調液の温度を制御する温度制御手段と、
前記レジストボトル内のレジスト液をレジスト塗布装置に供給するための供給手段と、を備えるレジスト液供給装置。 - 前記温調液循環手段が前記温調液の流れを前記レジストボトルの外周に沿って周回させるように構成された周回手段を含む、請求項1に記載のレジスト液供給装置。
- 前記液槽の内壁が任意の水平断面において円をなしていることを特徴とする、請求項1又は2に記載のレジスト液供給装置。
- 前記流入口が前記レジストボトルの外周における一つの接線方向に向けて設けられ、かつ、前記流出口が前記一つの接線方向に対し前記温調液が周回する流線上において相対向する他の接線方向に向けて設けられる、請求項1〜3の何れかに記載のレジスト液供給装置。
- 前記流入口が前記レジストボトルの上部側に設けられ、前記流出口が前記レジストボトルの下部側に設けられる、請求項1〜4の何れかに記載のレジスト液供給装置。
- 前記流入口が前記レジストボトルの下部側に設けられ、前記流出口が前記レジストボトルの上部側に設けられる、請求項1〜5の何れかに記載のレジスト液供給装置。
- 前記温度制御手段で温度が制御された前記温調液を連続的に前記流入口から前記液槽に流入させることにより、前記レジストボトルに貯留されたレジスト液の温度を前記温調液の温度に変更及び/又は維持する、請求項1〜6の何れかに記載のレジスト液供給装置。
- 前記温度制御手段により制御される前記温調液の温度範囲が、少なくとも、レジスト液の塗布に適合する第一の温度及びレジスト液の保管に適合する第二の温度を含む、請求項1〜7の何れかに記載のレジスト液供給装置。
- 前記レジストボトルの底部と前記液槽との間に前記温調液が流出入可能な間隙が設けられる、請求項1〜8の何れかに記載のレジスト液供給装置。
- レジスト液を前記レジストボトル内で循環させるためのレジスト液循環手段を更に備える、請求項1〜9の何れかに記載のレジスト液供給装置。
- 前記供給手段の供給用のポンプが前記レジスト液循環手段の循環用のポンプを兼ねる、請求項10に記載のレジスト液供給装置。
- 請求項1〜10の何れかに記載のレジスト液供給装置により供給されるレジスト液を基板表面に滴下させる滴下ノズルを備えるレジスト塗布装置。
- フォトリソグラフィに用いるレジスト液を貯留するためのレジストボトルと、
充満される温調液で前記レジストボトルを浸漬させるための液槽と、
前記液槽に設置され前記温調液を前記液槽に流入させる流入口、及び、前記温調液を前記液槽から流出させる流出口を有する温調液循環手段と、
前記温調液循環手段により前記流入口から前記液槽へ流入させる前記温調液の温度を制御する温度制御手段と、を備えるレジスト液保管装置。 - 前記温調液循環手段が、前記温調液の流れを前記レジストボトルの外周に沿って周回させるように構成された周回手段を含む、請求項13に記載のレジスト液保管装置。
- 前記液槽の内壁が任意の水平断面において円をなし、前記レジストボトルが前記液槽内において縦に設置されることを特徴とする請求項13又は14に記載のレジスト液保管装置。
- 前記流入口が前記液槽の内周における一つの接線方向に向けて設けられ、かつ、前記流出口が前記一つの接線方向に対し前記温調液が周回する流線上において相対向する他の接線方向に向けて設けられる、請求項13〜15の何れかに記載のレジスト液保管装置。
- 前記流入口が前記液槽内の上部側に設けられ、前記流出口が前記液槽内の下部側に設けられる、請求項13〜16の何れかに記載のレジスト液保管装置。
- 前記流入口が前記液槽内の下部側に設けられ、前記流出口が前記液槽内の上部側に設けられる、請求項13〜17の何れかに記載のレジスト液保管装置。
- 前記温度制御手段で温度が制御された前記温調液を連続的に前記流入口から前記液槽に流入させることにより、前記レジストボトルに貯留されたレジスト液の温度を前記温調液の温度に変更及び/又は維持する、請求項13〜18の何れかに記載のレジスト液保管装置。
- 前記温度制御手段により制御される前記温調液の温度範囲が、少なくとも、レジスト液の塗布に適合する第一の温度及びレジスト液の保管に適合する第二の温度を含む、請求項13〜19の何れかに記載のレジスト液保管装置。
- 前記レジストボトルの底部と前記液槽との間に前記温調液が流出入可能な間隙が設けられる、請求項13〜20の何れかに記載のレジスト液保管装置。
- レジスト液を前記レジストボトル内で循環させるためのレジスト液循環手段を更に備える、請求項13〜21の何れかに記載のレジスト液保管装置。
- フォトリソグラフィに用いるレジスト液を貯留するレジストボトルと、
充満される温調液で前記レジストボトルを浸漬させる液槽と、
前記液槽に設置され前記温調液を前記液槽に流入させる流入口、及び、前記温調液を前記液槽から流出させる流出口を有する温調液循環手段と、
前記温調液循環手段により前記流入口から前記液槽へ流入させる前記温調液の温度を制御する温度制御手段と、
前記レジストボトル内のレジスト液をレジスト塗布装置に供給する供給手段と、を備えるレジスト液供給装置における、レジスト液の温度管理方法であって、
前記供給手段によるレジスト液の供給に先立ち、前記温調液をレジスト液の塗布に適合する第一の温度に制御しながら前記液槽に流入させることで、前記レジストボトル内のレジスト液の温度を前記第一の温度に変更するステップと、
前記供給手段によりレジスト液を供給する間に、前記第一の温度の温調液の流入を継続して、前記レジストボトル内のレジスト液の温度を前記第一の温度に維持するステップと、
前記供給手段によるレジスト液の供給を終了した後に、前記温調液を前記第一の温度からレジスト液の保管に適合する第二の温度に制御しながら前記液槽に流入させることで、前記レジストボトル内のレジスト液の温度を前記第一の温度から前記第二の温度に変更するステップと、
前記第二の温度の温調液の流入を継続して、前記レジストボトル内のレジスト液を前記第二の温度で保管するステップと、
を含む、レジスト液の温度管理方法。 - ガラス基板の一面に遮光膜を成膜する工程と、前記遮光膜を所定のマスクパターンにエッチングするためのレジスト液を前記遮光膜の表面に塗布して定着させる工程と、を含む、マスクブランクの製造方法であって、
レジスト塗布装置を用いてレジスト液を前記遮光膜の表面に塗布する工程に先立ち、
レジスト液が貯留されるレジストボトルを温調液が充満される液槽内に浸漬させ、前記温調液が前記レジストボトルの外周に沿って周回するように前記液槽内で循環させるステップと、
前記液槽に流入させる前記温調液の温度をレジスト液の塗布に適合する温度に制御するステップと、
前記温調液を連続的に前記液槽に流入させることにより、前記レジストボトルに貯留されたレジスト液の温度を前記塗布に適合する温度に変更及び/又は維持するステップと、
前記塗布に適合する温度に変更及び/又は維持されたレジスト液を前記レジスト塗布装置に供給するステップと、を含む、マスクブランクの製造方法。
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