JP2002159905A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 長時間の塗布作業であっても薬剤を劣化させ
ることなく、優れた効率で塗布作業を行う。 【解決手段】 薬剤Ｒを保管する保管容器４及びこの保
管容器４に保管された薬剤Ｒを第１の温度に調節する第
１の温度調節手段５を有する薬剤保管ユニット１と、上
記薬剤保管ユニット１から供給された薬剤Ｒを移送する
ための流路１３及びこの流路１３の少なくとも一部に配
設され移送中の薬剤Ｒを第２の温度に調節する第２の温
度調節手段１４を有する移送ユニット３と、上記移送ユ
ニット３を介して上記薬剤保管ユニット１から供給され
た薬剤Ｒを塗布対象８に塗布する塗布ユニット２とを備
え、上記薬剤Ｒを上記第１の温度で保管するとともに、
上記薬剤Ｒを上記第２の温度で塗布することを特徴とす
るものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レジスト材料等の
薬剤を塗布対象に対して塗布する塗布装置及び塗布方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レジスト材料等の薬剤を塗布する
ための塗布装置としては、リップコータ、スピンコータ
及びグラビアコータ等が知られている。これら塗布装置
は、図３に示すように、薬剤を保管する薬剤保管部１０
０と、塗布対象に薬剤を塗布する塗布部１０１と、薬剤
を薬剤保管部１００から塗布部１０１に移送するための
配管部１０２とから構成されている。

【０００３】このように構成された塗布装置は、薬剤保
管部１００で保管されている薬剤を配管部１０２を介し
て塗布部１０１に供給し、塗布部１０１で塗布対象に対
して薬剤を塗布している。このとき、塗布装置では、薬
剤を塗布するに際して最適な温度に当該薬剤を維持する
ことが好ましい。例えば、レジスト材料の場合は、常温
にした状態で塗布することにより塗布精度が大幅に向上
する。

【０００４】したがって、例えば常温で薬剤を塗布する
場合には、薬剤保管部１００に保管されている薬剤を常
温に戻した後、塗布作業を開始することとなる。これに
より、塗布装置は、優れた塗布精度で薬剤を塗布するこ
とができる。

【０００５】一方、薬剤は、別途設けられた薬剤保存装
置内に、保存に適した温度に維持された状態で保存され
ている。そして、塗布作業を行うに際して、薬剤保存装
置から薬剤を取り出し、薬剤保管部に薬剤を移してい
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、薬剤の
種類によっては、塗布に最適な温度と保存に最適な温度
とが異なる場合がある。この場合、塗布に最適な温度に
維持された薬剤は、長期間の保存に耐えない。言い換え
ると、薬剤保管部１００において、塗布に最適な温度で
保管された薬剤は、経時的に劣化（例えば薬剤中に溶け
込んでいる溶剤等が揮発し、所定粘度等の経時変化を生
じる。）し、長時間の塗布作業における終盤には使用で
きない状態となってしまう。

【０００７】したがって、従来の塗布装置には、長時間
の塗布作業によって薬剤を劣化させてしまう結果、劣化
した薬剤を破棄せざるをえないといった不都合があっ
た。このため、従来の塗布装置を用いた場合には、薬剤
の使用量が増え、また、作業効率も悪いといった問題が
あった。

【０００８】そこで、本発明は、上述したような実状に
鑑みて案出されたものであり、長時間の塗布作業であっ
ても薬剤を劣化させることなく、優れた効率で塗布作業
を行うことができる塗布装置及び塗布方法を提供するこ
とを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成した
本発明に係る塗布装置は、薬剤を保管する保管容器及び
この保管容器に保管された薬剤を第１の温度に調節する
第１の温度調節手段を有する薬剤保管ユニットと、上記
薬剤保管ユニットから供給された薬剤を移送するための
流路及びこの流路の少なくとも一部に配設され移送中の
薬剤を第２の温度に調節する第２の温度調節手段有する
移送ユニットと、上記移送ユニットを介して上記薬剤保
管ユニットから供給された薬剤を塗布対象に塗布する塗
布ユニットとを備え、上記薬剤を上記第１の温度で保管
するとともに、上記薬剤を上記第２の温度で塗布するこ
とを特徴とするものである。

【００１０】また、塗布装置は、上記薬剤がレジスト材
料であってもよい。

【００１１】さらに、塗布装置は、上記第１の温度が常
温以下であり、上記第２の温度が上記第１の温度を越え
る温度に設定されたものであってもよい。

【００１２】さらにまた、本発明に係る塗布方法は、第
１の温度調節手段により第１の温度に調節した薬剤を保
管容器に保管し、上記保管容器に保管された薬剤を、第
２の温度調節手段により第２の温度に調節した状態で流
路内に移送させ、上記第２の温度に調節された薬剤を、
塗布装置により塗布対象に塗布することを特徴とするも
のである。

【００１３】さらにまた、塗布方法は、上記第１の温度
を常温以下とし、上記第２の温度を上記第１の温度を越
える温度とするものであってもよい。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る塗布装置及び
塗布方法を図面を参照して詳細に説明する。

【００１５】本発明を適用した塗布装置としては、薬剤
としてポリイミド等のレジスト材料を、塗布対象の半導
体基板等に塗布するものである。塗布装置は、図１に示
すように、所定の温度に維持した状態でレジスト材料Ｒ
を保管するレジスト保管部１と、レジスト材料Ｒを塗布
する塗布部２と、レジスト保管部１と塗布部２との間を
連結する移送部３とを備えている。

【００１６】レジスト保管部１は、レジスト材料Ｒを充
填する保管容器４と、保管容器４内のレジスト材料Ｒを
所定の温度に調節する第１の温度調節装置５とを備えて
いる。ここで、レジスト材料Ｒは、図示しない保存装置
内に低温（例えば５℃以上１５℃以下）で保存されてお
り、この保存装置から取り出されて保管容器４内に充填
される。第1の温度調節装置５は、例えば、保管容器４
全体を囲むチャンバ６及び温調機７を有する冷却装置で
あり、保管容器４内のレジスト材料を保存装置にて保存
している温度に維持することができる。

【００１７】塗布部２は、図２に示すように、塗布対象
の基板８を載置する回転台９と、回転台９に載置された
基板８と対向する位置に配設された塗布液供給口１０
と、回転台９を所定の回転速度で回転させる回転駆動装
置１１とを備えるスピンコータ１２を備える。また、塗
布部２は、図示しないが、塗布対象の基板８を回転台９
に載置するとともに、スピンコータ１２でレジスト材料
を塗布した基板８を回転台９から除去する基板送り装置
を備える。また、塗布部２は、図示しないが、基板８に
おけるレジスト材料Ｒを塗布する面を洗浄する洗浄装置
を備えていても良い。

【００１８】移送部３は、図１に示すようにレジスト保
管部１から排出したレジスト材料Ｒの流路管１３と、流
路管１３内を流れるレジスト材料Ｒの温度を調節する第
２の温度調節装置１４とを備えている。第２の温度調節
装置１４は、流路管１３を覆うように配設された外周管
１５と、流路管１３及び外周管１５により構成される空
間部１６に所定の温度の液体を循環させる液体循環装置
１７とを備えている。

【００１９】以上のように構成された塗布装置は、レジ
スト保管部１において、レジスト材料Ｒを保存に適した
温度で保管することができる。具体的には、レジスト材
料Ｒは、通常室温（例えば、２３℃）以下で保存するこ
とが好ましく、保管容器４内で室温以下の温度に維持さ
れる。

【００２０】この塗布装置では、上述したように保管容
器４内に充填されたレジスト材料Ｒを、流路管１３に排
出する。レジスト材料Ｒは、流路管１３に排出される
と、第２の温度調節装置１４により塗布に適した温度に
調節される。レジスト材料における、塗布に適した温度
は常温（例えば、２３℃）程度である。具体的には、第
２の温度調節装置１４は、常温よりもやや高い温度に設
定された液体を空間部１６に循環させることによって、
流路管１３内を流れるレジスト材料Ｒを常温程度にする
ことができる。

【００２１】これにより、塗布装置では、常温程度に維
持されたレジスト材料Ｒを塗布部２に供給することがで
きる。スピンコータ１２では、基板８を載置した回転台
９を図２中矢印Ａで示す方向に回転させた状態で、塗布
液供給口１０からレジスト材料Ｒを基板８の略中心部に
滴下する。滴下されたレジスト材料Ｒは、基板８の回転
に起因する遠心力により基板８の外周方向に広がり、基
板８をコーティングする。このとき、レジスト材料Ｒ
は、常温程度を維持している。

【００２２】このように、塗布装置によれば、レジスト
材料Ｒを保管する際の温度を制御することができ、ま
た、レジスト材料Ｒを塗布する際の温度も制御すること
ができる。このため、長時間に亘って塗布作業を行う場
合であっても、レジスト材料Ｒの品質を維持することが
できる。同時に、この塗布装置は、所望の温度のレジス
ト材料Ｒを塗布することができるため、優れた塗布精度
を達成することができる。

【００２３】なお、上述した例では、薬剤としてレジス
ト材料Ｒを用いて当該レジスト材料Ｒを室温以下にして
保管し、当該レジスト材料を室温程度にして塗布するよ
うな塗布装置を説明した。しかしながら、本発明は、こ
のような例に限定されず、保存に適した温度が室温以上
であるような薬剤を使用する場合にも適用することがで
きる。この場合、第１の温度調節装置５において、保管
容器４内を所定の温度に加熱するように温調機７を設定
とする。また、第２の温度調節装置１４は、冷却用の液
体を空間部１６内に循環させ、薬剤を塗布に適した温度
にまで冷却する。

【００２４】このように、本発明に係る塗布装置は、薬
剤の種類に限定されず、保存に適した温度で保管すると
ともに塗布に適した温度で塗布することができる。これ
により、本発明に係る塗布装置は、保管した薬剤の劣化
を防止し、長期間に亘って塗布作業を行うことができる
ため、作業効率に優れたものとなる。

【００２５】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係る塗布装置及び塗布方法は、長期間に亘る塗布作業に
おいても薬剤の劣化を防止することができ、優れた作業
効率で塗布を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る塗布装置の概略構成図である。

【図２】塗布装置に用いられる塗布部の一例として示す
スピンコータの要部斜視図である。

【図３】従来の塗布装置の概略構成図である。

【符号の説明】

１ レジスト保管部 ２ 塗布部 ３ 移送部 ４ 保管容器 ５ 第１の温度調節装置 ８ 基板 １２ スピンコータ １３ 流路管 １４ 第２の温度調節装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 EA04 4D075 AC64 AC84 AC96 BB22X BB93X CA47 DA08 DC22 EA07 EA45 EB39 4F042 AA03 AA07 CA08 CB19 CB26 5F046 JA01 JA24

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 薬剤を保管する保管容器と、この保管容
   器に保管された薬剤を第１の温度に調節する第１の温度
   調節手段とを有する薬剤保管ユニットと、 上記薬剤保管ユニットから供給された薬剤を移送するた
   めの流路と、この流路の少なくとも一部に配設され、移
   送中の薬剤を第２の温度に調節する第２の温度調節手段
   と有する移送ユニットと、 上記移送ユニットを介して上記薬剤保管ユニットから供
   給された薬剤を、塗布対象に塗布する塗布ユニットとを
   備え、 上記薬剤を上記第１の温度で保管するとともに、上記薬
   剤を上記第２の温度で塗布することを特徴とする塗布装
   置。
2. 【請求項２】 上記薬剤がレジスト材料であることを特
   徴とする請求項１記載の塗布装置。
3. 【請求項３】 上記第１の温度が常温以下であり、上記
   第２の温度が上記第１の温度を越える温度に設定された
   ことを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
4. 【請求項４】 第１の温度調節手段により第１の温度に
   調節した薬剤を保管容器に保管し、 上記保管容器に保管された薬剤を、第２の温度調節手段
   により第２の温度に調節した状態で流路内に移送させ、 上記第２の温度に調節された薬剤を、塗布装置により塗
   布対象に塗布することを特徴とする塗布方法。
5. 【請求項５】 上記第１の温度を常温以下とし、上記第
   ２の温度を上記第１の温度を越える温度とすることを特
   徴とする請求項４記載の塗布方法。