JP2014054718A - 電子装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子装置100は、半導体素子が設けられた複数の半導体チップ10,20,30が積層された積層体2と、半導体チップ10,20,30を貫通し、複数の半導体チップ10,20,30の半導体素子間を電気的に接続する貫通電極4,6,8と、積層体2上に載置され、MEMS素子が設けられたMEMSチップ40と、を含み、MEMSチップ40には、貫通電極8に接続しているパッド42が設けられている。
【選択図】図1
Description
半導体素子が設けられた複数の半導体チップが積層された積層体と、
前記半導体チップを貫通し、複数の前記半導体チップの前記半導体素子間を電気的に接続する貫通電極と、
前記積層体上に載置され、MEMS素子が設けられたMEMSチップと、
を含み、
前記MEMSチップには、前記貫通電極に接続しているパッドが設けられている。
いため、MEMSチップを構成する基板の選択の自由度が高い。
前記積層体の前記MEMSチップに対向する面には、凹部が設けられていてもよい。
前記MEMSチップに対向する前記半導体チップの前記半導体素子は、前記MEMSチップ側の面に設けられていてもよい。
前記半導体チップを貫通し、前記半導体チップよりも高い熱伝導率を有する熱伝導部を含み、
前記熱伝導部は、前記半導体素子と電気的に分離されていてもよい。
前記貫通電極は、前記半導体チップの積層方向からみて、前記半導体チップの中央部に形成されていてもよい。
前記MEMSチップには、前記半導体素子に電源電圧を供給するためのキャパシターが設けられていてもよい。
前記MEMSチップの前記積層体とは反対側の面に形成された放熱部を含んでいてもよい。
1.1. 電子装置
まず、第1実施形態に係る電子装置について、図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る電子装置100を模式的に示す断面図である。図2は、本実施形態に係る電子装置100を模式的に示す平面図である。なお、図1は、図2のI−I線断面図である。また、図1および図2では、便宜上、半導体チップ10,20,30およびMEMSチップ40を簡略化して示している。
プ10の上面から下面まで、半導体チップ10,20,30の積層方向に延在している。貫通電極4は、素子形成領域14に形成された半導体素子と電気的に接続されている。また、貫通電極4は、貫通電極6に接続されている。図示の例では、第1半導体チップ10には、4つの貫通電極4が形成されているが、その数は特に限定されない。
EMSチップ40には、貫通電極(TSV)は形成されない。図示の例では、MEMSチップ40には、パッド42は4つ設けられているが、その数は限定されない。パッド42は、半導体チップ10,20,30の積層方向からみて、貫通電極8と重なるように配置される。
10,20,30に集積回路を形成することにより、例えばMEMSチップ40のプロセス技術世代を、半導体チップ10,20,30のプロセス技術世代よりも、古いものを用いることができる。これにより、低コスト化を図ることができる。
次に、第1実施形態に係る電子装置の変形例について説明する。以下、本実施形態の変形例に係る電子装置において、上述した電子装置100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
まず、第1変形例について、図面を参照しながら説明する。図4は、第1変形例に係る電子装置200を模式的に示す断面図である。なお、図4では、便宜上、半導体チップ10,20,30およびMEMSチップ40を簡略化して示している。
次に、第2変形例について、図面を参照しながら説明する。図5は、第2変形例に係る電子装置300を模式的に示す断面図である。図6は、第2変形例に係る電子装置300を模式的に示す平面図である。なお、図5は、図6のV−V線断面図である。また、図5および図6では、便宜上、半導体チップ10,20,30およびMEMSチップ40を簡略化して示している。
0の半導体素子と電気的に分離されている。すなわち、熱伝導部320は、半導体素子に電気的に接続されず、貫通電極として機能しない。
次に、第3変形例について、図面を参照しながら説明する。図7は、第3変形例に係る電子装置400を模式的に示す断面図である。図8は、第3変形例に係る電子装置400を模式的に示す平面図である。なお、図7は、図8のVII−VII線断面図である。また、図7および図8では、便宜上、半導体チップ10,20,30およびMEMSチップ40を簡略化して示している。
次に、第4変形例について、図面を参照しながら説明する。図9は、第4変形例に係る電子装置500を模式的に示す断面図である。なお、図9では、便宜上、半導体チップ10,20,30およびMEMSチップ40を簡略化して示している。
次に、第5変形例について、図面を参照しながら説明する。図10は、第5変形例に係る電子装置600を模式的に示す断面図である。図10では、便宜上、半導体チップ10,20,30およびMEMSチップ40を簡略化して示している。
次に、第2実施形態に係る電子装置について、図面を参照しながら説明する。図11は、第2実施形態に係る電子装置700を模式的に示す断面図である。なお、図11では、便宜上、半導体チップ10,20,30およびMEMSチップ40を簡略化して示している。
、パッケージ701を含む。パッケージ701は、半導体チップ10,20,30およびMEMSチップ40を収容することができる。
次に、第3実施形態として、本発明に係る電子装置が発振器である場合について、図面を参照しながら説明する。以下では、電子装置100が発振器である場合について説明する。図13は、第3実施形態に係る電子装置(発振器)100を示す回路図である。
20aと、第2電極424(図3参照)と電気的に接続された第2端子420bと、を有している。MEMS素子420の第1端子420aは、反転増幅回路110の出力端子110bと少なくとも交流的に接続する。MEMS素子420の第2端子420bは、反転増幅回路110の入力端子110aと少なくとも交流的に接続する。
により、電子装置100は、例えば、出力信号Voutの周波数よりも低い周波数の出力信
号を得ることができる。
a…貫通孔、458…第2被覆層、460…配線、462…ビア、464…配線、470…パッシベーション層、480…保護膜、500…電子装置、510…電源キャパシター、510a…第1電極、510b…第2電極、600…電子装置、610…放熱部、700…電子装置、701…パッケージ、710…パッケージベース、712…凹部、720…リッド、730…リードフレーム、732…裏面電極、734…ワイヤ、800…電子装置、810…樹脂、820…半田ボール、830…裏面電極
Claims (7)
- 半導体素子が設けられた複数の半導体チップが積層された積層体と、
前記半導体チップを貫通し、複数の前記半導体チップの前記半導体素子間を電気的に接続する貫通電極と、
前記積層体上に載置され、MEMS素子が設けられたMEMSチップと、
を含み、
前記MEMSチップには、前記貫通電極に接続しているパッドが設けられている、電子装置。 - 請求項1において、
前記積層体の前記MEMSチップに対向する面には、凹部が設けられている、電子装置。 - 請求項1または2において、
前記MEMSチップに対向する前記半導体チップの前記半導体素子は、前記MEMSチップ側の面に設けられている、電子装置。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、
前記半導体チップを貫通し、前記半導体チップよりも高い熱伝導率を有する熱伝導部を含み、
前記熱伝導部は、前記半導体素子と電気的に分離されている、電子装置。 - 請求項1ないし4のいずれか1項において、
前記貫通電極は、前記半導体チップの積層方向からみて、前記半導体チップの中央部に形成されている、電子装置。 - 請求項1ないし5のいずれか1項において、
前記MEMSチップには、前記半導体素子に電源電圧を供給するためのキャパシターが設けられている、電子装置。 - 請求項1ないし6のいずれか1項において、
前記MEMSチップの前記積層体とは反対側の面には、放熱部が設けられている、電子装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6041953B1 (ja) * | 2015-07-21 | 2016-12-14 | オキンス エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 接触性が改善されたバンプを含むテストソケット用memsフィルム |
KR20170072216A (ko) * | 2014-10-23 | 2017-06-26 | 로베르트 보쉬 게엠베하 | 다수의 기판을 포함하는 마이크로 전자 부품 조립체, 및 상응하는 제조 방법 |
JP7497604B2 (ja) | 2020-04-10 | 2024-06-11 | セイコーエプソン株式会社 | 振動デバイス、電子機器および移動体 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102534734B1 (ko) * | 2018-09-03 | 2023-05-19 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 패키지 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005153067A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Kyocera Corp | 電子部品封止用基板およびそれを用いた電子装置の製造方法 |
JP2005335022A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Sony Corp | 微小デバイス及び電子機器 |
JP2006245311A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2008053708A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Dongbu Hitek Co Ltd | 半導体素子及びその製造方法 |
US20080083975A1 (en) * | 2006-10-09 | 2008-04-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Stacked structures and methods of fabricating stacked structures |
JP2008229833A (ja) * | 2007-02-22 | 2008-10-02 | Denso Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US20090194829A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Shine Chung | MEMS Packaging Including Integrated Circuit Dies |
WO2010047228A1 (ja) * | 2008-10-21 | 2010-04-29 | 日本電気株式会社 | 配線基板およびその製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7297574B2 (en) * | 2005-06-17 | 2007-11-20 | Infineon Technologies Ag | Multi-chip device and method for producing a multi-chip device |
US8022554B2 (en) | 2006-06-15 | 2011-09-20 | Sitime Corporation | Stacked die package for MEMS resonator system |
JP5276289B2 (ja) | 2006-08-25 | 2013-08-28 | アイメック | 高アスペクト比ビアエッチング |
US7807583B2 (en) | 2006-08-25 | 2010-10-05 | Imec | High aspect ratio via etch |
KR100834826B1 (ko) | 2007-01-25 | 2008-06-03 | 삼성전자주식회사 | 취급손상을 줄인 집적회로 모듈의 구조 및 모듈의 종단저항 배치방법 |
JP2008288384A (ja) | 2007-05-17 | 2008-11-27 | Sony Corp | 3次元積層デバイスとその製造方法、及び3次元積層デバイスの接合方法 |
KR100891805B1 (ko) | 2007-05-25 | 2009-04-07 | 주식회사 네패스 | 웨이퍼 레벨 시스템 인 패키지 및 그 제조 방법 |
JP4825778B2 (ja) | 2007-11-16 | 2011-11-30 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2010112763A (ja) | 2008-11-04 | 2010-05-20 | Toshiba Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
-
2012
- 2012-09-14 JP JP2012202374A patent/JP2014054718A/ja not_active Withdrawn
-
2013
- 2013-09-04 CN CN201310397636.XA patent/CN103663348A/zh active Pending
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005153067A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Kyocera Corp | 電子部品封止用基板およびそれを用いた電子装置の製造方法 |
JP2005335022A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Sony Corp | 微小デバイス及び電子機器 |
JP2006245311A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2008053708A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Dongbu Hitek Co Ltd | 半導体素子及びその製造方法 |
US20080083975A1 (en) * | 2006-10-09 | 2008-04-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Stacked structures and methods of fabricating stacked structures |
JP2008229833A (ja) * | 2007-02-22 | 2008-10-02 | Denso Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US20090194829A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Shine Chung | MEMS Packaging Including Integrated Circuit Dies |
WO2010047228A1 (ja) * | 2008-10-21 | 2010-04-29 | 日本電気株式会社 | 配線基板およびその製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170072216A (ko) * | 2014-10-23 | 2017-06-26 | 로베르트 보쉬 게엠베하 | 다수의 기판을 포함하는 마이크로 전자 부품 조립체, 및 상응하는 제조 방법 |
KR102405373B1 (ko) * | 2014-10-23 | 2022-06-07 | 로베르트 보쉬 게엠베하 | 다수의 기판을 포함하는 마이크로 전자 부품 조립체, 및 상응하는 제조 방법 |
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