JP2014047208A - カルボジイミド化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のカルボジイミド化合物の製造方法は、特定構造のチオウレア化合物を、鉄化合物およびモリブデン化合物の少なくとも一方の存在下、特定構造のカルボジイミド化合物にすることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
従来、カルボジイミド化合物の製造方法としては、例えば、アミン化合物と二硫化炭素から容易に得られるチオウレア化合物を原料とし、これに、水銀化合物、鉛化合物、次亜塩素酸ナトリウム、ホスゲン、アゾジカルボン酸エステル−トリフェニルホスフィン、メタンスルホニルクロライド、トシルクロライドなどを作用させる方法が知られている(例えば、特許文献1、2および非特許文献1)。
で表されるチオウレア化合物を、鉄化合物およびモリブデン化合物の少なくとも一方の存在下、一般式(2)
で表されるカルボジイミド化合物にする点に要旨を有するものである。
で表される鉄錯体A、一般式(4)
で表される鉄錯体BおよびFe(CO)5からなる群より選ばれる1種であることが好ましい。
で表されるモリブデン錯体AおよびMo(CO)6からなる群より選ばれる少なくとも1種であることが、効率よくカルボジイミド化合物を生じさせるうえで好ましい。
CH2=CH−CH2−N=C=N−H
を有する新規なカルボジイミド化合物をも包含する。
本発明におけるチオウレア化合物は、一般式(1)
で示されるものである。
前記鉄錯体としては、例えば、下記一般式(3)
で表される鉄錯体A、一般式(4)
で表される鉄錯体BおよびFe(CO)5からなる群より選ばれる1種であることが好ましい。
前記酸化鉄としては、酸化鉄(III)(Fe2O3)、酸化鉄(II)(FeO)が挙げられ、中でも酸化鉄(III)が好ましい。
で表されるモリブデン錯体AおよびMo(CO)6からなる群より選ばれる少なくとも1種である。
前記鉄化合物のうち、例えば、前記鉄錯体Bに相当する[CpFe(CO)2] 2(Cp:シクロペンタジエニル基)や、鉄ハロゲン化物および酸化鉄は市販されている。また前記鉄錯体Aなどは、市販の[CpFe(CO)2] 2とNaKおよびRIとから容易に調製することができる。また、前記モリブデン化合物であるモリブデン錯体Aは、市販の[CpMo(CO)3] 2とNaKおよびRIとから容易に調製することができる。さらに上述した以外の鉄化合物やモリブデン化合物についても、例えば実施例で後述する方法など公知技術を用いるなどして調製することができる。
で表されるものである。ここで、R1およびR2は、原料として用いるチオウレア化合物の構造(具体的には、前記式(1)中のR1およびR2)に応じて決まる。よって、本発明の製造方法によれば、原料とするチオウレア化合物を適宜選択することにより、所望の構造のカルボジイミド化合物を得ることができる。
CH2=CH−CH2−N=C=N−H
の化合物が好ましい。かかる構造のカルボジイミド化合物は、シアナミド体と互変異性する性質を有し、溶液中では平衡状態にあるという特長を有している。
反応容器に、N,N’−ジイソプロピルチオウレア(東京化成工業社(TCI社)製「D0253」)0.3mmol、表1に示す特定金属化合物0.3mmol、およびテトラヒドロフラン3mLを加え、窒素雰囲気下、60℃で24時間反応させた。
反応終了後、得られた反応液をガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)(島津製作所社製「SHIMADZU GCMS−QP2010 Plus」:以下同様)で分析したところ、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミドが表1に示す収率で生成していることが分かった。
なお、得られた反応液は室温まで冷却し、水を添加した後に酢酸エチルで目的物(N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド)を抽出した。次いで、有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、その後ろ過、濃縮することにより粗品を得、さらに該粗品をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン(質量比)=1/1)で精製して、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミドを得た。
反応容器に、表2に示すチオウレア化合物0.3mmol、鉄化合物として実施例1−1と同じCpFe(CO)2Meを0.9mmol、およびテトラヒドロフラン9mLを加え、窒素雰囲気下、60℃で24時間反応させた。但し、実施例2−4のみ、各仕込み量を100/3倍して実施した。
反応終了後、得られた反応液をガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)で分析したところ、表2に示す生成物が表2に示す収率で生成していることが分かった。
なお、実施例2−1〜2−4で得られた反応液は室温まで冷却し、水を添加した後に酢酸エチルで生成物を抽出した。次いで、有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、その後ろ過、濃縮することにより粗品を得、さらに該粗品を、実施例2−1〜2−3ではシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン(混合比は適宜調整))で精製して、実施例2−4では蒸留により精製して、各生成物を得た。実施例2−3で得られた生成物の単離収率は35%であった。
反応容器に、表3に示すチオウレア化合物0.3mmol、鉄化合物として実施例1−2と同じ[CpFe(CO)2]2を0.9mmol、およびテトラヒドロフラン9mLを加え、窒素雰囲気下、60℃で24時間反応させた。但し、実施例3−9のみ、各仕込み量を100/3倍して実施した。
反応終了後、得られた反応液をガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)で分析したところ、表3に示す生成物が表3に示す収率で生成していることが分かった。
なお、実施例3−1〜3−9で得られた反応液は室温まで冷却し、水を添加した後に酢酸エチルで生成物を抽出した。次いで、有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、その後ろ過、濃縮することにより粗品を得、さらに該粗品を、実施例3−1〜3−8ではシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン(混合比は適宜調整))で精製して、実施例3−9では蒸留により精製して、各生成物を得た。
反応容器に、N,N’−ジイソプロピルチオウレア(TCI社製「D0253」)0.3mmol、表4に示す特定金属化合物(それぞれ表1に示したものと同じ)0.3mmol、トリエトキシシラン0.3mmol、およびテトラヒドロフラン3mLを加え、窒素雰囲気下、60℃で24時間反応させた。
反応終了後、得られた反応液をガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)で分析したところ、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミドが表4に示す収率で生成していることが分かった。
なお、得られた反応液は室温まで冷却し、水を添加した後に酢酸エチルで目的物(N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド)を抽出した。次いで、有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、その後ろ過、濃縮することにより粗品を得、さらに該粗品をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン(質量比)=1/1)で精製して、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミドを得た。
反応容器に、表5に示すチオウレア化合物0.3mmol、鉄化合物として実施例1−1と同じCpFe(CO)2Meを0.6mmol、シラン化合物としてトリエトキシシランを0.3mmol、およびテトラヒドロフラン6mLを加え、窒素雰囲気下、60℃で24時間反応させた。但し、実施例5−6のみ、各仕込み量を100/3倍して実施した。
反応終了後、得られた反応液をガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)で分析したところ、表5に示す生成物が表5に示す収率で生成していることが分かった。
なお、実施例5−1〜5−6で得られた反応液は室温まで冷却し、水を添加した後に酢酸エチルで生成物を抽出した。次いで、有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、その後ろ過、濃縮することにより粗品を得、さらに該粗品を、実施例5−1〜5−5ではシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン(混合比は適宜調整))で精製して、実施例5−6では蒸留により精製して、各生成物を得た。実施例5−6で得られた生成物の単離収率は46%であった。
反応容器に、N,N’−ジイソプロピルチオウレア(TCI社製「D0253」)0.3mmol、鉄化合物として実施例1−1と同じCpFe(CO)2Meを0.3mmol、硫酸マグネシウム0.3mmol、およびテトラヒドロフラン3mLを加え、窒素雰囲気下、60℃で24時間反応させた。
反応終了後、得られた反応液をガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)で分析したところ、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミドの収率は62%であった。
Claims (9)
- 一般式(1)
(式(1)中、R1およびR2は各々独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基からなる群より選ばれる1種であり、R1とR2は互いに結合して環を形成していてもよい。)
で表されるチオウレア化合物を、鉄化合物およびモリブデン化合物の少なくとも一方の存在下、一般式(2)
で表されるカルボジイミド化合物にすることを特徴とするカルボジイミド化合物の製造方法。 - 前記鉄化合物およびモリブデン化合物の少なくとも一方と共に、シラン化合物を共存させる請求項1に記載のカルボジイミド化合物の製造方法。
- 前記鉄化合物およびモリブデン化合物の少なくとも一方と共に、硫酸マグネシウムおよび硫酸ナトリウムの少なくとも一方を共存させる請求項1または2に記載のカルボジイミド化合物の製造方法。
- 前記鉄化合物が、2電子供与配位子を有する鉄錯体、鉄ハロゲン化物および酸化鉄からなる群より選ばれる1種である請求項1〜3のいずれかに記載のカルボジイミド化合物の製造方法。
- 前記鉄錯体が、一般式(3)
で表される鉄錯体A、一般式(4)
で表される鉄錯体BおよびFe(CO)5からなる群より選ばれる1種である請求項4に記載のカルボジイミド化合物の製造方法。 - 前記モリブデン化合物が、一般式(5)
で表されるモリブデン錯体AおよびMo(CO)6からなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項1〜5のいずれかに記載のカルボジイミド化合物の製造方法。 - 前記シラン化合物がトリアルコキシシランである請求項2〜6のいずれかに記載のカルボジイミド化合物の製造方法。
- 前記トリアルコキシシランがトリメトキシシランまたはトリエトキシシランである請求項7に記載のカルボジイミド化合物の製造方法。
- 下記構造
CH2=CH−CH2−N=C=N−H
を有するカルボジイミド化合物。
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