JP2014029519A - マスクブランク収納ケース及びマスクブランク収納体 - Google Patents

Abstract

【課題】保管中の発塵によるマスクブランクへのパーティクル付着を抑制できるようにしたマスクブランク収納ケースを提供する。
【解決手段】上方が開口したケース本体と、該ケース本体に被せる蓋体とを備えて、ケース本体及び蓋体のそれぞれに嵌合部を有して嵌め合わされ、マスクブランクを縦方向に収納するケースである。収納されたマスクブランクの上方角部を保持する保持手段を蓋体の内側に設ける。該保持手段は、収納されたマスクブランク１の上方端面における側壁面と面取面の稜線にて当接する第１の当接部１２と、上方端面と隣接する側方端面における側壁面に当接する第２の当接部１３を備えている。
【選択図】図９

Description

本発明は、電子デバイスの製造に使用されるフォトマスクの製造に用いられるマスクブランクを収納する収納ケース及びマスクブランク収納体に関するものである。

近年の電子デバイス、特に半導体素子や液晶モニター用のカラーフィルター或いはＴＦＴ素子等は、ＩＴ技術の急速な発達に伴い、一層の微細化が要求されている。このような微細加工技術を支える技術の一つが、転写用マスクと呼ばれるフォトマスクを用いたリソグラフィー技術である。このリソグラフィー技術においては、露光用光源の電磁波を転写用マスクを通じてレジスト膜付きシリコンウエハーに露光することにより、シリコンウエハー上に微細なパターンを形成している。この転写用マスクは通常、透光性基板上に遮光性膜等を形成したマスクブランクにリソグラフィー技術を用いて転写パターン（マスクパターン）を形成して製造される。ところで、マスクブランクの表面にパーティクル等の異物があると、形成されるパターンの欠陥の原因となるので、マスクブランクの表面には異物等が付着しないように清浄に保管される必要がある。

このようなマスクブランクを収納保管し運搬するためのケースとしては、従来では例えば下記特許文献１に開示されているようなマスク運搬用ケースが知られている。すなわち、従来のマスクブランクを収納保管するケースは、キャリアなどと呼ばれている内ケースにマスクブランクを数枚乃至数十枚並べて保持させ、このマスクブランクを保持した内ケースを外箱（ケース本体）内に収容し、さらに外箱上に蓋を被せて、マスクブランクを収納する構造となっていた。

図１１乃至図１３は、特許文献１に開示されたものと同様の構造の収納ケースを示すもので、図１１は収納ケースの蓋を示す斜視図、図１２はマスクブランクを中ケースに収納する状態を示す斜視図、図１３は収納ケースのケース本体（外ケース）を示す斜視図である。
この収納ケースは、マスクブランク１を中ケース２に収納し、この中ケース２をケース本体３に収納し、このケース本体３の開口部側に蓋４を被せる構造である。

上記中ケース２は、開口部側（上方）から底面側（下方）に向けて複数の溝２１，２２を一方の互いに対向する内側面に所定間隔をおいて一対をなして形成し、その溝２１，２２の底面側の底部と中ケース底面にはそれぞれ開口窓（図示せず）と開口部２７が設けられ、さらに中ケース底面側には基板支持部２６が形成され、この基板支持部２６でマスクブランク１の下方端面を支持している（図１２）。そして、この中ケース２をケース本体３に収納して固定するための凹面部２８，２９がそれぞれ中ケースの他方の互いに対向する外側面に底面側から開口部側の途中まで形成されている。数枚のマスクブランク１を中ケース２の一対の溝２１，２２に沿って入れると、これらのマスクブランクは所定間隔をおいて互いに平行に並んで収納される。

上記ケース本体３は、上述した中ケース２の凹面部２８，２９と当接するに適合した突出部３１，３２を、互いに対向する内側面に形成し、その突出部３１，３２の底部はケース本体３の底面とも接合している（図１３）。また、一方の対向する外側面の開口部側には凸部３３，３４が形成されている。そして、ケース本体３の開口縁３５のやや下方の位置に続く外周面３６と上記凸部３３，３４の凸面とは略同一面に形成されている。

また上記蓋４は、その一方の対向する下方縁４７（ケース本体へ差し込む開口部側の縁であって、図１１では上方へ向いている）の中央から延びた係合片４１，４２に凹部４３，４４を形成している。これにより、蓋４をケース本体３に被せたときに、上記凹部４３，４４が前記ケース本体３の凸部３３，３４とそれぞれ嵌合することで、蓋４とケース本体３とが固定される構造となっている。また、中ケース２の開口部側上端面２５と当接して中ケース２を垂直方向において支持固定するストッパー４５，４６を一方の内側面に互いに対向させて形成している。

また、上記収納ケースは、収納されたマスクブランクの端面頂部を保持する樹脂材料で形成された保持部材５を前記蓋体６の内側に設けている。
上記保持部材５は、図１４に示すように、断面円形で直線状に延在した軸５１と、その軸５１の側面から断面において直交する方向に引き出した複数対の連結部５２，５３と、その連結部５２，５３の先端に断面略円形状に形成した複数対の当接部５４，５５とを備えている。複数対の連結部５２，５３と当接部５４，５５は、収納する複数枚のマスクブランクを適当な間隔で離間するように所定間隔で配列されている。そして、当接部５４，５５には、内側に凹状に窪ませた当接面５６，５７をそれぞれ互いに直交する方向に形成している。このような保持部材５を２本用意して、蓋体６の内側の一方の内側面に互いに対向させて取り付けられる。

そして、各保持部材５の当接部５４，５５の当接面５６，５７がマスクブランク１の上部角部において隣接する各端面にそれぞれ当接し、マスクブランク１を固定状態に保持する。このような保持部材５を蓋体６の内側に設けていることにより、例えば輸送、搬送中の振動を緩和でき、マスクブランクを安全に収納することができる。

特公平１−３９６５３号公報

近年の電子デバイスの高性能化に伴って、転写用マスクに形成されるパターンも一段と微細化が要求されており、このような微細パターンを形成するためにもマスクブランクの清浄度は極めて高いものでないと許容できなくなってきている。従って、マスクブランクに異物等が付着するのを出来るだけ抑制することにより、特にレジスト膜を有するマスクブランクの保管中は出来るだけ高い清浄度に維持する必要がある。

ところで、マスクブランクの主表面には遮光膜等の転写パターン形成用の薄膜が成膜されているが、通常は主表面と連続する面取面にも成膜時に薄膜が回り込むように形成される。また、スピンコーティングによってマスクブランクの表面にレジスト膜が形成される場合、通常は主表面と連続する面取面にもレジスト膜が形成される。

上記従来の収納ケースの場合、上記各保持部材５の各当接面５６，５７は凹状に窪ませて形成してあるので、マスクブランク１の各端面の側壁面１ｂ及びこれに連続する面取面１ｃ（図３参照）と接触し保持する構造となっているため、上記保持部材５の各当接面５６，５７が、マスクブランク端面の特に面取面上の薄膜あるいはレジスト膜と接触することによるパーティクルが発生し、発生したパーティクルはマスクブランクの主表面に付着して異物欠陥となるおそれが極めて高かった。マスクブランク端面の面取面に形成された薄膜は、主表面に形成された薄膜と比べて基板への付着性が弱いため、パーティクルが発生しやすいという事情もある。また、保持部材がマスクブランク主表面と極めて近い領域に接触することによる主表面への影響（例えば主表面における膜欠陥など）も懸念される。

そこで、本発明は、上記従来の問題点を解消し、保管中の発塵によるマスクブランクへのパーティクル付着を抑制できるようにしたマスクブランクの収納ケース及びマスクブランク収納体を提供することを目的とする。

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、収納されたマスクブランクの上方角部を保持する保持手段の構造を改良することにより、該保持手段とマスクブランクの頂部端面との接触によるパーティクルの発生を抑制し、その結果マスクブランクの主表面へのパーティクル付着を効果的に抑制できることを見い出し、本発明を完成するに至ったものである。

すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。
（構成１）
上方が開口したケース本体と、該ケース本体に被せる蓋体とを備えて、前記ケース本体及び前記蓋体のそれぞれに嵌合部を有して嵌め合わされ、マスクブランクを縦方向に収納し、収納されたマスクブランクの上方角部を保持する保持手段を前記蓋体の内側に設けてなるマスクブランク収納ケースであって、前記マスクブランクは、対向する２つの主表面と、この２つの主表面間に介在する端面において、前記主表面と直交する方向の側壁面と、該側壁面と前記主表面との間に介在する面取面とを有しており、前記保持手段は、収納された前記マスクブランクの上方端面における前記側壁面と前記面取面の稜線にて当接する第１の当接部を備えていることを特徴とするマスクブランク収納ケースである。

構成１の発明によれば、収納されたマスクブランクの上方角部を保持する保持手段は、収納された前記マスクブランクの上方端面における側壁面と面取面の稜線にて当接する第１の当接部を備えており、マスクブランクの上方端面における側壁面と面取面の稜線にてマスクブランクの上方角部を保持する構造としているため、保持手段とマスクブランク端面との接触面積は極めて小さい。その結果、マスクブランクの主表面へのパーティクル付着を抑制することができる。さらに、上記保持手段がマスクブランクにとって重要な主表面と極めて近い領域に接触することはないため、主表面への影響（例えば主表面における膜欠陥など）の懸念もない。

（構成２）
前記保持手段は、さらに、前記マスクブランクの上方端面と隣接する側方端面における前記側壁面に当接する第２の当接部を備えていることを特徴とする構成１に記載のマスクブランク収納ケースである。
構成２にあるように、前記保持手段は、さらに、マスクブランクの上方端面と隣接する側方端面における側壁面に当接する第２の当接部を備えていることにより、前記第１の当接部によって保持されるマスクブランクの上方端面と隣接する側方端面における側壁面をも保持することができる。

（構成３）
前記第１の当接部及び前記第２の当接部はいずれも、直線状に延在した軸に沿って所定間隔で配列され、前記軸には前記第１の当接部及び第２の当接部に対応して複数の切欠きを設けていることを特徴とする構成２に記載のマスクブランク収納ケースである。
構成３にあるように、前記保持手段は、第１の当接部及び第２の当接部がいずれも直線状に延在した軸に沿って所定間隔で配列され、前記軸には前記第１の当接部及び前記第２の当接部に対応して複数の切欠きを設けていることにより、第１の当接部及び第２の当接部の各々の（一つ一つの）軸回りの動きの自由度を上げられるので、収納ケース内に収納された複数枚のマスクブランクのそれぞれをしっかりと保持することができる。

（構成４）
前記第１の当接部及び前記第２の当接部は、前記軸に対して断面視で互いが鋭角となる方向に配列されていることを特徴とする構成２又は３に記載のマスクブランク収納ケースである。
構成４にあるように、前記保持手段は、第１の当接部及び第２の当接部が、前記軸に対して断面視で互いが鋭角となる方向に配列されていることにより、ケース本体のマスクブランクを収納して、該ケース本体に蓋体を被せるときに、マスクブランクの上方端面を保持する第１の当接部は最初にその先端部がマスクブランクと接触し、続いてその他の部分がマスクブランクと接触するので、マスクブランクに対する保持力を向上でき、接触時の発塵も抑えられる。

（構成５）
前記保持手段は、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレンから選択される樹脂材料からなることを特徴とする構成１乃至４のいずれかに記載のマスクブランク収納ケースである。
構成５にあるように、前記保持手段は、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレンから選択される樹脂材料とすることが好ましい。上記構成１乃至４の何れかの構造を有する保持手段のうち、第１の当接部がマスクブランクの上方端面における側壁面と面取面の稜線で、さらには第２の当接部がマスクブランクの側壁面で接触し所定の圧力がかかった状態でマスクブランクを保持しても、上記に列記した樹脂材料は、所望の硬度と摺動性を兼ね備えているので、マスクブランクと保持手段との擦れによるパーティクルの発生を著しく抑制することができる。

（構成６）
前記保持手段は、ポリブチレンテレフタレートからなることを特徴とする構成５記載のマスクブランク収納ケースである。
構成６にあるように、上記保持手段は、ポリブチレンテレフタレートであるので、マスクブランクの上方端面及び側方端面への上記保持手段の摺動性が良好となるので、パーティクルの発生を著しく抑制することが可能であるとともに、化学成分ガスの放出が少なく、特に化学成分の影響を受けやすい化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクの保持手段として好適である。また、ポリブチレンテレフタレートは、成型しやすい樹脂材料であるので、上記構成１乃至４の何れかの構成を有する複雑な構造の保持手段を成型する場合に好適である。

（構成７）
表面に転写パターン形成用の薄膜を有するマスクブランクを収納することを特徴とする構成１乃至６のいずれかに記載のマスクブランク収納ケースである。
薄膜付きマスクブランクを収納する場合でも、本発明の収納ケースによれば、薄膜に上記保持手段が直接接触することがない。従って、収納ケースの上記保持手段とマスクブランク端面との接触によるパーティクルの発生を抑制することができ、その結果、マスクブランクの主表面へのパーティクル付着を抑制することができる。

（構成８）
転写パターン形成用薄膜の表面にレジスト膜を有するマスクブランクを収納することを特徴とする構成７に記載のマスクブランク収納ケースである。
構成８のようなレジスト膜を有するマスクブランクは、保管中のパーティクル付着を抑制し、できるだけ高い清浄度に維持する必要があるため、本発明の収納ケースは好適である。

（構成９）
構成１乃至８のいずれかに記載のマスクブランク収納ケースにマスクブランクが収納されたことを特徴とするマスクブランク収納体である。
構成９にあるように、上記マスクブランク収納ケースにマスクブランクが収納されたマスクブランク収納体によれば、収納時及び収納保管中における収納ケースの上記保持手段とマスクブランク端面との接触によるパーティクルの発生を著しく抑制することができ、その結果マスクブランクの主表面へのパーティクル付着を抑制することができる。
（構成１０）
前記マスクブランクは、前記基板における前記側壁面と前記面取面の稜線の曲率半径が５０μｍ以上であることを特徴とする構成９記載のマスクブランク収納体である。
構成１０にあるように、上記マスクブランクは、上記基板における上記側壁面と上記面取面の稜線の曲率半径が５０μｍ以上としているので、マスクブランクの稜線による上記保持手段の上記第１の当接部、第２の当接部へのダメージを抑えることができるので、上記保持手段欠落によるパーティクル発生を抑制することができる。

本発明のマスクブランク収納ケースによれば、収納されたマスクブランクの上方角部を保持する保持手段とマスクブランク端面との接触によるパーティクルの発生を著しく抑制することができ、その結果マスクブランクの主表面へのパーティクル付着を抑制することができる。さらに、上記保持手段がマスクブランクにとって重要な主表面と極めて近い領域に接触することはないため、主表面への影響（例えば主表面における膜欠陥など）の懸念もない。

また、本発明のマスクブランク収納ケースにマスクブランクが収納されたマスクブランク収納体によれば、収納時及び収納保管中における収納ケースの上記保持手段とマスクブランク端面との接触によるパーティクルの発生を著しく抑制することができ、マスクブランクの主表面へのパーティクル付着を抑制することができる。

本発明に係る収納ケースのケース本体と蓋体の正面図である。 本発明に係る収納ケースの蓋体をケース本体に被せた状態の（ａ）正面図と（ｂ）側面図である。 マスクブランクの断面図である。 本発明に係る収納ケースに用いる保持部材の一方向から見た正面図である。 本発明に係る収納ケースに用いる保持部材の他方向から見た正面図である。 保持部材における第１の当接部の拡大断面図である。 保持部材の側面断面図である。 第１の当接部とマスクブランク端面とが接触した状態を示す図である。 保持部材とマスクブランク端面とが接触した状態を示す図である。 保持部材における第２の当接部を示す正面図である。 従来構造の収納ケースの蓋を示す斜視図である。 マスクブランクを中ケースに収納する状態を示す斜視図である。 従来構造の収納ケースのケース本体（外ケース）を示す斜視図である。 従来構造の保持部材の斜視図である。

以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態について説明する。
図１および図２は、本発明に係る収納ケースの一実施の形態を示すものであり、図１は、本発明に係る収納ケースのケース本体と蓋体の正面図であり、図２の（ａ）は、本発明に係る収納ケースの蓋体をケース本体に被せた状態の正面図、同図（ｂ）はその側面図である。

本実施の形態に係るマスクブランク収納ケースは、上方が開口したケース本体７と、該ケース本体７に被せる蓋体６とを備えて、内部にマスクブランクを収納するマスクブランクの収納ケースである。上記ケース本体７及び蓋体６は、その全体的な形状は、従来構造の収納ケースが前記蓋４の凹部４３，４４と前記ケース本体３の凸部３３，３４を備えている点を除いては、図１１に示す蓋４及び図１３に示すケース本体３と同様の形状を有している。また、図１および図２には示していないが、前述の従来構造の収納ケースのようにマスクブランクを複数枚保持するための中ケース２（図１２参照）を用いる構成とすることができる。上記中ケースを使用せずに、マスクブランクをケース本体７に直接溝等を設けて収納する形態とすることもできるが、中ケースを使用すると、数枚乃至数十枚のマスクブランクをまとめて中ケースに入れた状態で取り扱えるので便利である。

本実施の形態の収納ケースは、主表面が四角形状（例えば正方形）のガラス基板の一主表面上にクロム膜等の遮光性薄膜を成膜し、例えばさらにその上にレジスト膜を形成したマスクブランクをたとえば従来構造と同様の中ケースに収納し、この中ケースをケース本体７に収納し、このケース本体７の開口部側に蓋体６を被せる構造である（図２（ａ）、（ｂ）参照）。ケース本体７の上から蓋体６を被せると、蓋体６の下方縁に続くやや外方に拡開した側壁部６１とケース本体７の開口縁部７１とが前後に重なり合うと同時に、蓋体６の下方縁の側壁部６１とケース本体７の開口縁部７１の下方に形成されたやや外方に拡開した側壁部７２とが同一面上に重なり合って蓋体６とケース本体７とが接合される。

本実施の形態の収納ケースは、蓋体６を閉じる際、上記本体ケース７の開口縁部７１と蓋体６の側壁部６１とが嵌め合わされるが、蓋体６を閉じた収納ケースの密閉性を高めるために、ケース本体７の開口縁部７１に沿って適当な大きさの環状の弾性部材（図示せず）を嵌め込むようにしてもよい。この弾性部材としては、雰囲気の温度、気圧等の変動があっても化学成分ガスの放出が少ない材料が好ましく、例えば、ポリオレフィンエラストマー、ポリエステルエラストマー及びシリコーンエラストマーが挙げられる。蓋体６をケース本体７に被せる際、ケース本体７との嵌合部に介在する弾性部材を押し付けて、ケース内を密閉性の高い状態とすることができる。

本実施の形態による収納ケースは、上述のように内部にマスクブランクを収納して、ケース本体７に蓋体６を被せた状態でケース本体７と蓋体６とを固定するため、ケース本体７，蓋体６とは別体の断面コの字状の固定部材８を使用する。蓋体６の側壁部６１上端の一部分には内方へ窪ませ乃至は切欠いた係合凹部６１ａを有しており、ケース本体７の側壁部７２下端における上記蓋体６の係合凹部６１ａと対応する位置にも同様に内方へ窪ませ乃至は切欠いた係合凹部７２ａを有している（図１を参照）。そして、蓋体６をケース本体７に被せた状態で、上記固定部材８を、蓋体６の係合凹部６１ａ及びケース本体７の係合凹部７２ａと係合させて嵌め込む（図２を参照）。
なお、ケース本体７に蓋体６を被せた状態でケース本体７と蓋体６とを固定する方法としては、以上説明した方法に限定される必要はない。

また、上述のケース本体７及び蓋体６の材質は、樹脂材料で形成されるが、例えばポリプロピレン、アクリル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリエチルサルファイト、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン（ＡＢＳ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等の樹脂から適宜選択されることが好ましい。これらの中でも、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレートが好ましい。なお、マスクブランクの保管中にチャージが溜まると、マスク製造過程において放電破壊を起こし、パターン欠陥となる場合があるので、たとえばケース本体５の構成樹脂にカーボン等を混ぜ込んで導電性を付与するようにしてもよい。

また、本発明のマスクブランク収納ケースは、蓋体及びケース本体の構造に関しては、上記図１及び図２に示すものには限定されない。たとえば、前述の図１１及び図１３に示すような従来構造の収納ケースにおける蓋体及びケース本体の構造を適用してもよい。また、中ケースに関しても、図１２に示すような従来構造のものを適用することができる。

本実施の形態の収納ケースは、収納されたマスクブランクの上方角部を保持する保持手段を前記蓋体６の内側に設けている。かかる保持手段として、本実施の形態では、マスクブランクの上方の角部端面を保持する樹脂材料で形成された複数の保持部材１０を蓋体６の内側に設けている。
具体的には、このような保持部材１０を２本用意して、蓋体６の内側の一方の内側面に互いに対向させて取り付けられる。

以下、本発明の収納ケースに用いられる上記保持部材１０について説明する。
図４は、本発明に係る収納ケースに用いる保持部材の一方向から見た正面図であり、図５は、上記保持部材の他方向から見た正面図である。また、図６は、上記保持部材における第１の当接部の拡大図であり、図６（ａ）は基板と当接する面側から見た正面図、図６（ｂ）は図６（ａ）におけるＢ−Ｂ線断面図でアタッチメント１２１の断面図である。図７は、上記保持部材の側面断面図（図４におけるＡ−Ａ線断面図）である。また、図８は、第１の当接部とマスクブランク端面とが接触した状態を示す図、図９は、上記保持部材とマスクブランク端面とが接触した状態を示す図である。さらに、図１０は、上記保持部材の第２の当接部を示す正面図である。

図４及び図５に示すように、本実施の形態の上記保持部材１０は、収納された前記マスクブランク１の上方端面における側壁面１ｂと面取面１ｃ（図３参照）の稜線にて当接する第１の当接部１２と、該第１の当接部１２が当接するマスクブランク１の上方端面と隣接する側方端面における側壁面１ｂに当接する第２の当接部１３とを備えている。本実施の形態では、複数枚のマスクブランクの収納に対応できるように、複数の上記第１の当接部１２及び上記第２の当接部１３を備えている。

上記複数の第１の当接部１２及び第２の当接部１３はいずれも、直線状に延在した軸１１に沿って所定間隔で配列されている。この場合の所定間隔は、例えば中ケース内に収納される複数枚のマスクブランクの間隔に応じて適宜設定される。
そして、上記第１の当接部１２及び上記第２の当接部１３はそれぞれ同じ方向に向けて配列されており、また各第１の当接部１２のアタッチメント１２１と各第２の当接部１３のアタッチメント１３１は、基板１と当接する当接面側が互いに向い合う位置に配列されている。そして、互いに向かい合った１組の第１の当接部１２と第２の当接部１３が、基板１のコーナー部分を保持する。

軸１１は、厚さｈの長尺のプレート形状である。軸１１の第１の当接部１２側は、斜面１９が形成されている。第１の当接部１２は、この斜面１９から延出している。
軸１１は、上記第１の当接部１２のそれぞれの両側に切欠き１４を、上記第２の当接部１３の両側に切欠き１５をそれぞれ設けている。これらの切欠きの大きさは適宜設定することができる。上記第１の当接部１２及び上記第２の当接部１３に対応した複数の切欠き１４，１５を設けているので、後述する第１の当接部１２及び第２の当接部１３の各々の（一つ一つの）軸回りの動きの自由度が向上する。ゆえに、収納ケース内に収納された複数枚のマスクブランクの１枚１枚をしっかりと保持することができる。

また、収納ケース内に、上記保持部材１０の上記第１の当接部１２，第２の当接部１３に対応した枚数のマスクブランク１を収納しない場合においても、上記複数の切欠き１４，１５により、収納ケース内に収納されたマスクブランクの１枚１枚を個々独立した状態で保持することができる。したがって、マスクブランクの輸送、搬送中の振動によるパーティクルの発生を抑制することができる。
さらに、切欠き１４，１５が形成されていると、第１の当接部１２，第２の当接部１３は、弾性変形しやすくなる。このため、マスクブランクを保持部材１０に保持させるときに保持部材１０に強く圧力をかけなくても、保持することができる。これにより、収納時のマスクブランク１と保持部材１０の摺動接触によるパーティクルの発生も抑制することができる。

また、軸１１は、所定箇所に開口１６，１７を、さらに保持部材１０の両端部に開口１８をそれぞれ有している。これら開口１６，１７，１８は、本実施形態の保持部材１０を上記蓋体６の内側に取り付ける際の係合孔として用いることができる。勿論、保持部材１０の取り付け構造によっては、開口１６，１７，１８を設ける必要はない。

次に、第１の当接部１２について図５〜図８を参照して説明する。
図５に示すように、第１の当接部１２は、上記軸１１の側面から伸びるアーム１２２と、アーム１２２の先端にアタッチメント１２１を備えている。

まず、アーム１２２について説明する。
図５，図７等に示すように、アーム１２２は矩形型のプレートである。アーム１２２の厚みｋは、軸１１の厚みｈよりも薄く、マスクブランク１を保持する方向に向かって緩やかに傾斜するように延出している。これにより、保持部材１０がマスクブランク１を保持するとき、アーム１２２はわずかに弾性変形し、その弾性変形に伴う慣性力によりマスクブランク１を保持・固定することができる。なお、アーム１２２は、軸１１の傾斜面１９から延出しており、マスクブランク１を保持したときに接続部分に負荷がかりにくい。

アタッチメント１２１は、図６（ａ）の平面図に示すように、アーム１２２からの延伸方向が短く直交方向が長い丸みを帯びた八角形の平面視形状である。アタッチメント１２１は、図６（ｂ）及び図８に示すように基板１との当接面側が凹に湾曲した立体形状である。背面（当接面の裏面）の母線は、アーム１２２の傾斜角とほぼ等しい角度で傾斜している。

アタッチメント１２１を図６（ａ）に示す５つの領域１２１ａ，１２１ｂ，１２１ｃ，１２１ｄ，１２１ｅに分けて詳しく説明する。

最初に、突起１２３を有する領域１２１ｃについて説明する。
領域１２１ｃは、隣接する領域１２１ｂ，１２１ｄよりも当接面の曲率が小さい曲面で構成されている。領域１２１ｃの中央部には、アーム１２２からの延伸方向に沿って、条状の突起１２３が形成されている。保持部材１０がマスクブランク１を保持するときには、突起１２３の頂部先端（Ｐ２）が図３におけるマスクブランク１のＰ２に当接する。
なお、このとき、アーム１２２及びアタッチメント１２１がわずかに弾性変形し、その慣性力がマスクブランク１に当接している箇所に集中する。アーム１２２とアタッチメント１２１が傾斜しているため、当接時に第１の当接部１２がマスクブランク１に加える力は、第２の当接部１３のアタッチメント１３１の方に向くように作用する。したがって、突起１２３と後述する第２の当接部１３の突起１３３がマスクブランク１のコーナー部を挟持するように保持することができる。結果、ケースに収納したマスクブランクは、上下方向の振動と側壁面１ｂの長手方向に平行な方向の振動が抑制される。これにより、突起１２３と側壁面１ｂとの擦れも抑制されるので、発塵のリスクも軽減される。

次に、領域１２１ｂ，１２１ｄについて説明する。
領域１２１ｂ，１２１ｄは、マスクブランク１を保持するときに当接面が面取面１ｃの稜線Ｐ１，Ｐ３と接触する領域であり、当接面の曲率が最も大きい。マスクブランク１を保持・固定するとき、面取面１ｃの稜線は領域１２１ｂ，１２１ｄに摺動するが、領域１２１ｂ，１２１ｄの曲率を最適化することで、摺動時に生じる摩擦を最小限にすることができる。
アタッチメント１２１は、前述の突起１２３と領域１２１ｂ、１２１ｄの３個所でマスクブランク１を固定する。結果、保持部材１０は、マスクブランク１が主表面１ａに垂直な方向で振動する動きを抑制する。

次に、領域１２１ａ、１２１ｅについて説明する。領域１２１ａ、１２１ｅはアタッチメント１２１の両サイドに形成された領域である。領域１２１ａ、１２１ｅは、ほぼ平面である。保持部材１０がマスクブランク１を保持しているときは、領域１２１ｂ、１２１ｄと面取面１ｃの稜線Ｐ１，Ｐ３が当接する点を支点として内側に僅かに弾性変形し、板ばねのような機能を発揮する。これにより、アタッチメント１２１は、マスクブランク１の表裏を挟みこんで固定し、保持する。

次に、第２の当接部１３について、主として図７，図９，及び、図１０を参照して説明する。第２の当接部１３は図７に示すように、全体が断面略Ｌ字状に形成されており、上記軸１１の側面から引き出したアーム１３２の先端に、該アーム１３２とは略垂直な方向にアタッチメント１３１を備えてなり、さらに該アタッチメント１３１の当接面側の略中央に突起１３３を備えている。アーム１３２とアタッチメント１３１は、当接面の裏面側が略垂直になるように形成されている。

アーム１３２は、軸１１と明らかな境目や段差等が形成されない状態で滑らかに延出している。このため、保持部材１０がマスクブランク１を保持したときも軸１１と第２の当接部１３の境目で変形せず、マスクブランク１を安定して保持することができる。また、軸１１に開口１７が形成されている箇所は、軸１１が変形しやすい領域であるが、アーム１３２が軸１１から滑らかに延出し、軸１１を補強するので、軸１１の変形が抑制される。

アタッチメント１３１は、前述したように、アーム１３２から略垂直に延出した形状で形成されている。図７の断面図及び図９に示すように、アーム１３２からアタッチメント１３１と接続する稜線は当接面側と当接面の裏面側の両面とも丸みを帯びており、両者の接続部分がやや肉厚になるように成形されている。アーム１３２とアタッチメント１３１の接続部分がこのような形状であるので、接続部分に装着時にかかる弾性力が集中しても肉厚であるため、第２の当接部１３の変形が生じ難い。このため、アタッチメント１３１は、アタッチメント１３１の当接面と向き合うマスクブランク１の側壁面１ｄに強く接触することができる。
また、アタッチメント１３１の断面は、先端に向けて徐々に薄くなるテーパー形状であり、マスクブランク１を保持したときにアタッチメント１３１の当接面とマスクブランク１の側端面の間に形成される隙間が徐々に幅広になるように形成されている。これによって、マスクブランク１を保持するとき、アタッチメント１３１は、後述する突起１３３以外の領域がマスクブランク１の側壁面１ｄに接触しない。
なお、前述のアタッチメント１２１の当接面側の突起１２３がマスクブランクと接触する面を「側壁面１ｂ」とし、上記アタッチメント１３１の当接面側の突起１３３がマスクブランクと接触する面を「側壁面１ｄ」とした。

アタッチメント１３１は、当接面側に突起１３３を有している。突起１３３は、アーム１３２との接続部分から当接面の先の方に向けて凸条に形成されている。突起１３３の高さは、アタッチメント１３１の背面を下にした場合、軸１１側が低く他の端部に向けて徐々に高く、そして前記の端部は角が丸くなるように形成されている。したがって、突起１３３は、先端部の丸められた角（図９，図１０におけるＰ４）がマスクブランク１の側壁面１ｄに当接する。なお、上記突起１３３を設けない構成とすることも可能であるが、その場合はアタッチメント１３１の当接面側がマスクブランク端面の側壁面１ｄと接触する面積が広くなる。このため、マスクブランク端面との接触領域を出来るだけ少なくして発塵を抑制する観点からは、上記のとおり突起１３３をアタッチメント１３１の当接面側に設ける構成が有利である。

また、上記第１の当接部１２が傾斜しているので、上記第２の当接部１３のアタッチメント１３１の背面と第１の当接部１２のアーム１２２の延長線が形成する角度は、上記軸１１に対して断面視で鋭角となる方向に互いが配列されている。本実施の形態では、具体的には、上記第１の当接部１２のアタッチメント１２１と上記第２の当接部１３の当接面１３１とが、上記軸１１に対して断面視で互いが鋭角となる方向に配列されている（図７を参照。図７中のαが鋭角となる。）。例えば５０度以上９０度未満の範囲内で設定するのが好適である。

なお、以上説明した軸１１と、第１の当接部１２及び第２の当接部１３から構成される保持部材１０は、例えば樹脂材料で一体に形成されている。
上記保持部材１０を構成する樹脂材料としては、特に限定はされないが、雰囲気の温度、気圧等の変動があっても化学成分ガスの放出が少ない材料が特に好ましく、例えば、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン、ポリオレフィンエラストマー、ポリエステルエラストマー、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、フッ素系樹脂から選択される１以上の樹脂が好ましく挙げられる。
上記保持部材１０は、特に、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレンから選択される樹脂材料とすることが好ましい。上記保持部材１０のうち、上記第１の当接部１２がマスクブランクの上方端面における側壁面１ｂと面取面１ｃの稜線Ｐ１，Ｐ３で、さらには上記第２の当接部１３がマスクブランクの側壁面１ｂのＰ２で接触し、所定の圧力がかかった状態でマスクブランクを保持しても、これらの樹脂材料は、所望の硬度と摺動性を兼ね備えているので、マスクブランクと保持部材１０との擦れによるパーティクルの発生を著しく抑制することができる。
中でも特に、ポリブチレンテレフタレートは、上述の硬度と摺動性に加え、化学成分ガスの放出が少なく、特に化学成分の影響を受けやすい化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクの保持部材１０として好適である。また、ポリブチレンテレフタレートは、成型しやすく、上記説明した複雑な構造の保持部材１０を成型する場合に好適である。

以上説明したように、収納ケースに収納された状態のマスクブランクの上方角部を保持する保持手段として用いる保持部材１０は、収納されたマスクブランク１の上方端面における側壁面１ｂと面取面１ｃの稜線にて当接する第１の当接部１２を備えている。このようにマスクブランク１の上方端面における側壁面１ｂと面取面１ｃの稜線にてマスクブランク１の上方角部を保持する構造としているため、保持部材１０とマスクブランク端面との接触面積は極めて小さく、しかもマスクブランク端面の面取面１ｃに転写パターン形成用の薄膜やレジスト膜が形成されたとしても、上記保持部材１０の第１の当接部１２が直接接触することがない。本実施の形態では、上記第１の当接部１２は、マスクブランク１の上方端面における側壁面１ｂとその両側の面取面１ｃの稜線上の２箇所と、アタッチメント１２１の突起１２３と接触する側壁面１ｂ上の１箇所の全部で３箇所（具体的には図３中に丸印を付したＰ１，Ｐ２，Ｐ３の３箇所）でマスクブランク端面と線接触する。従って、上記保持部材１０とマスクブランク端面との接触によるパーティクルの発生を著しく抑制することができ、その結果、例えば輸送・保管中の振動等があっても発塵等によるマスクブランクの主表面へのパーティクル付着を抑制することができる。さらに、上記保持部材１０はマスクブランクにとって重要な主表面と極めて近い領域に接触することはないため、主表面への影響（例えば主表面における膜欠陥など）の懸念もない。

なお、上記マスクブランク１は、上記基板における上記側壁面１ｂと上記面取面１ｃとの稜線Ｐ１，Ｐ３の曲率半径が５０μｍ以上である端部形状を有していることが好ましい。マスクブランク１の稜線Ｐ１，Ｐ３による保持部材１０の第１の当接部１２，第２の当接部１３へのダメージを抑えることができるので、保持部材１０の欠落によるパーティクル発生を抑制することができる。上記稜線Ｐ１，Ｐ３の曲率半径は、好ましくは５０μｍ以上１０００μｍ以下、さらに好ましくは、１００μｍ以上８５０μｍ以下、さらに好ましくは、３５０μｍ以上７５０μｍ以下が望ましい。

また、本実施形態の上記保持部材１０は、さらに、上記第１の当接部１２が当接するマスクブランク１の上方端面と隣接する側方端面における側壁面１ｂに当接する第２の当接部１３を備えているため、上記第１の当接部１２によって保持されるマスクブランク１の上方端面と隣接する側方端面における側壁面をも保持することができる（図９を参照）。その結果、収納されたマスクブランク１の上方角部をしっかりと固定して保持することができる。

また、上記のとおり、上記第１の当接部１２及び上記第２の当接部１３が、上記軸１１に対して断面視で互いが鋭角となる方向に配列されていることにより、ケース本体にマスクブランクを収納して、該ケース本体に上記保持部材１０を取り付けた蓋体を被せるときに、マスクブランクの上方端面を保持する第１の当接部１２は最初にその先端部がマスクブランクと接触し、続いてその他の部分がマスクブランクと接触するので、マスクブランクに対する保持力を向上でき、接触時の発塵も抑えられる。
このような保持部材１０（保持手段）を蓋体６の内側に設けていることにより、例えば輸送、搬送中の振動を緩和でき、マスクブランクをしっかりと固定して発塵を防ぐことができる。

本発明に係る収納ケースに収納されるマスクブランクの一構成例は、基板の主表面上に転写パターンとなる薄膜を形成してなるもの、あるいはさらに該薄膜の表面にレジスト膜を形成してなるものである。
上記基板としては、マスクブランクがバイナリマスクブランクや位相シフト型マスクブランク等の透過型マスクブランクの場合、露光光に対して透光性を有する基板材料を使用し、例えば合成石英ガラス基板が使用される。また、マスクブランクがＥＵＶ露光用等の反射型マスクブランクの場合、低熱膨張の特性を有する基板材料を使用し、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２系ガラス（２元系（ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２）及び３元系（ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２−ＳｎＯ_２等））や、例えばＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３−Ｌｉ_２Ｏ系の結晶化ガラスの基板が使用される。また、マスクブランクがナノインプリントプレート用マスクブランクの場合、例えば合成石英ガラス基板が使用される。また、基板及びマスクブランク１の形状は、矩形状、円形状何でもよい。

上記透過型マスクブランクは、上記基板の主表面上に、転写パターン形成用の薄膜として遮光膜を形成することによりバイナリマスクブランクが得られる。また、上記基板の主表面上に、転写パターン形成用の薄膜として位相シフト膜、あるいは位相シフト膜及び遮光膜を形成することにより、位相シフト型マスクブランクが得られる。また、基板彫り込み型のレベンソン位相シフト型マスクブランクにおいては、基板の主表面上に、転写パターン形成用の薄膜として遮光膜を形成することにより得られる。また、クロムレスタイプの位相シフト型マスクブランクや、ナノインプリントプレート用マスクブランクにおいては、基板の主表面上に、転写パターン形成用の薄膜としてエッチングマスク膜を形成することにより得られる。
上記遮光膜は、単層でも複数層（例えば遮光層と反射防止層との積層構造）としてもよい。また、遮光膜を遮光層と反射防止層との積層構造とする場合、この遮光層を複数層からなる構造としてもよい。また、上記位相シフト膜、エッチングマスク膜、吸収体膜についても、単層でも複数層としてもよい。

透過型マスクブランクとしては、例えば、クロム（Ｃｒ）を含有する材料により形成されている遮光膜を備えるバイナリマスクブランク、遷移金属とケイ素（Ｓｉ）を含有する材料により形成されている遮光膜を備えるバイナリマスクブランク、タンタル（Ｔａ）を含有する材料により形成されている遮光膜を備えるバイナリマスクブランク、ケイ素（Ｓｉ）を含有する材料、あるいは遷移金属とケイ素（Ｓｉ）を含有する材料により形成されている位相シフト膜を備える位相シフト型マスクブランクなどが挙げられる。上記遷移金属とケイ素（Ｓｉ）を含有する材料としては、遷移金属とケイ素を含有する材料のほかに、遷移金属及びケイ素に、さらに窒素、酸素及び炭素のうち少なくとも１つの元素を含む材料が挙げられる。具体的には、遷移金属シリサイド、または遷移金属シリサイドの窒化物、酸化物、炭化物、酸窒化物、炭酸化物、あるいは炭酸窒化物を含む材料が好適である。遷移金属には、モリブデン、タンタル、タングステン、チタン、クロム、ハフニウム、ニッケル、バナジウム、ジルコニウム、ルテニウム、ロジウム、ニオブ等が適用可能である。この中でも特にモリブデンが好適である。

さらに上記バイナリマスクブランクや位相シフト型マスクブランクにおいて、遮光膜上に、エッチングマスク膜を備えても構わない。エッチングマスク膜の材料は、遮光膜をパターニングする際に使用するエッチャントに対して耐性を有する材料から選択される。遮光膜の材料がクロム（Ｃｒ）を含有する材料の場合、エッチングマスク膜の材料としては、例えば上記ケイ素（Ｓｉ）を含有する材料が選択される。また、遮光膜の材料がケイ素（Ｓｉ）を含有する材料や、遷移金属とケイ素（Ｓｉ）を含有する材料の場合、エッチングマスク膜の材料としては、例えば上記クロム（Ｃｒ）を含有する材料が選択される。

また、反射型マスクブランクとしては、基板上に、ＥＵＶ光に対して反射する多層反射膜、さらに、転写用マスクの製造工程におけるドライエッチングやウェット洗浄から多層反射膜を保護するため、保護膜が形成された多層反射膜付き基板として、上記多層反射膜や保護膜上に転写パターン形成用の薄膜として吸収体膜を備える反射型マスクブランクが挙げられる。

ＥＵＶ光の領域で使用される多層反射膜としては、Ｍｏ／Ｓｉ周期多層膜のほかに、Ｒｕ／Ｓｉ周期多層膜、Ｍｏ／Ｂｅ周期多層膜、Ｍｏ化合物／Ｓｉ化合物周期多層膜、Ｓｉ／Ｎｂ周期多層膜、Ｓｉ／Ｍｏ／Ｒｕ周期多層膜、Ｓｉ／Ｍｏ／Ｒｕ／Ｍｏ周期多層膜、Ｓｉ／Ｒｕ／Ｍｏ／Ｒｕ周期多層反射膜が挙げられる。
また、上記保護膜の材料としては、例えば、Ｒｕ、Ｒｕ−（Ｎｂ、Ｚｒ、Ｙ、Ｂ、Ｔｉ、Ｌａ、Ｍｏ）、Ｓｉ−（Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ｂ）、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｌａ、Ｂ等の材料から選択される。これらのうち、Ｒｕを含む材料を適用すると、多層反射膜の反射率特性がより良好となる。

また、上記吸収体膜の材料としては、例えば、Ｔａ単体、Ｔａを主成分とする材料が用いられる。Ｔａを主成分とする材料は、通常、Ｔａの合金である。このような吸収体膜の結晶状態は、平滑性、平坦性の点から、アモルファス状又は微結晶の構造を有しているものが好ましい。Ｔａを主成分とする材料としては、例えば、ＴａとＢを含む材料、ＴａとＮを含む材料、ＴａとＢを含み、更にＯとＮの少なくともいずれかを含む材料、ＴａとＳｉを含む材料、ＴａとＳｉとＮを含む材料、ＴａとＧｅを含む材料、ＴａとＧｅとＮを含む材料などを用いることができる。また例えば、ＴａにＢ、Ｓｉ、Ｇｅ等を加えることにより、アモルファス構造が容易に得られ、平滑性を向上させることができる。さらに、ＴａにＮ、Ｏを加えれば、酸化に対する耐性が向上するため、経時的な安定性を向上させることができる。

なお、以上は、基板上に転写パターン形成用の薄膜を有するマスクブランク、あるいは前記薄膜上にさらにレジスト膜を有するマスクブランクを収納する収納ケースについて説明したが、本発明に係る収納ケースは、マスクブランク用基板や、上記マスクブランクを用いて製造された転写用マスクの収納ケースとしても好ましく用いることができる。

以下、具体的な実施例により本発明を説明する。
（実施例１）
合成石英ガラス基板（６インチ×６インチの大きさ）上にスパッタ法で、表層に反射防止機能を有するクロム膜（遮光膜）を形成し、その上にスピンコート法でポジ型の化学増幅型レジストである電子線描画用レジスト膜を形成してレジスト膜付きマスクブランクを製造した。なお、合成石英ガラス基板の側壁面及び面取面は、酸化セリウムの研磨剤を使用したブラシ研磨により所望の平滑性が得られるように精密研磨され、側壁面と面取面との間の稜線の曲率半径は、３５０μｍ以上７５０μｍ以下の範囲の合成石英ガラス基板を使用した。なお、稜線の曲率半径は、ミツトヨ社製 輪郭形状測定機ＣＶ−３１００により測定した。

このようにして製造した２０枚のマスクブランクを、１ケースに５枚収納し、計４ケースを用意した。なお、収納ケースの保持部材１０に設けられた第１の当接部１２，第２の当接部１３は、５つ設けられているものを使用した。収納ケースとして、前述の図１乃至図１０を用いて説明した実施の形態に係る収納ケースを用いた。なお、蓋体の材質は、ポリカーボネート、ケース本体の材質はポリカーボネート、中ケースの材質はポリプロピレンを用いた。また、蓋体に取り付けた保持部材１０の材質はポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）を用いた。収納作業はクリーンルーム内で行った。

そして、このマスクブランクを収納した収納ケース（４ケース）を更にカートン（エアーパッキン入り）に収納して、振動試験を実施した。振動試験は、電磁式振動試験機（Ｆ−１０００ＢＤ−Ａ−Ｅ７８（エミック社製））を使用し、以下の条件で実施した。
振動強度：２０ｍ／ｓ^２（ｒｍｓ）
加振時間：３時間
周波数：５〜５００Ｈｚ（ランダム試験）
振動方向：１方向（Ｚ方向）
振動試験後、クリーンルーム内で収納ケースからマスクブランクを取り出し、欠陥検査装置（レーザーテック社製：Ｍ２３５０）を用いて、マスクブランク主表面上の付着異物による欠陥（９０μｍ以上の大きさの欠陥）個数を測定した。なお、評価は、収納ケースに収納する前の欠陥個数を予め上記と同様に測定しておき、これに対する上記振動試験後の欠陥個数の増加個数で行った。その結果、本実施例では、増加欠陥個数は、０個であり、輸送、保管中の発塵によるマスクブランクへのパーティクル付着を効果的に抑制することが可能であることを確認できた。

（比較例１）
実施例１と同様に製造したマスクブランクを収納するケースとして、前述の図１４に示す従来構造の保持部材を用いたこと以外は実施例１と同様の収納ケースにマスクブランクの収納を行った。なお、従来構造の保持部材の材質は、実施例１と同様のポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）を用いた。

そして、実施例１と同様の振動試験を実施した後、収納ケースからマスクブランクを取り出し、欠陥検査装置（レーザーテック社製：Ｍ２３５０）を用いて、マスクブランク主表面上の付着異物による欠陥（９０μｍ以上の大きさの欠陥）個数を測定した。その結果、上記振動試験後の増加欠陥個数は、平均して２．３個と多く、輸送、保管中の発塵によるマスクブランクへのパーティクル付着を抑制することができない。これは、従来構造の収納ケースの場合、蓋体の内側に取り付けた保持部材とマスクブランク端面との接触、擦れに伴う発塵の多いことが要因であると考えられる。

（実施例２）
実施例１において、収納ケースに収納するマスクブランクを１ケースに３枚にした以外は実施例１と同様にして、収納ケースにマスクブランクを収納した。実施例１と同様の振動試験を実施した後、収納ケースからマスクブランクを取り出し、欠陥検査装置（レーザーテック社製：Ｍ２３５０）を用いて、マスクブランク主表面上の付着異物による欠陥（９０μｍ以上の大きさの欠陥）個数を測定した。その結果、増加欠陥個数は、０個であった。収納ケース内に収納するマスクブランクの枚数が変わっても、本発明の保持部材１０により、マスクブランクの１枚１枚をしっかり保持することができ、輸送、保管中の発塵によるマスクブランクへのパーティクル付着を効果的に抑制することが可能であることを確認できた。

（比較例２）
実施例２において、マスクブランクを収納するケースとして、前述の図１４に示す従来構造の保持部材を用いたこと以外は実施例２と同様の収納ケースにマスクブランクの収納を行った。
そして、実施例１と同様の振動試験を実施した後、収納ケースからマスクブランクを取り出し、欠陥検査装置（レーザーテック社製：Ｍ２３５０）を用いて、マスクブランク主表面上の付着異物による欠陥（９０μｍ以上の大きさの欠陥）個数を測定した。その結果、上記振動試験後の増加欠陥個数は、平均して１．８個と多く、輸送、保管中の発塵によるマスクブランクへのパーティクル付着を抑制することができない。これは、従来構造の収納ケースの場合、蓋体の内側に取り付けた保持部材とマスクブランク端面との接触、擦れに伴う発塵の多いこと、マスクブランクの１枚１枚をしっかり保持することができていないことが要因であると考えられる。

（実施例３）
実施例１において、使用する合成石英ガラス基板の側壁面及び面取面のブラシ研磨の研磨時間を短くして、側壁面と面取面との間の稜線の曲率半径を、１００μｍ以上３００μｍ以下の範囲の合成石英ガラス基板を使用した以外は、実施例１と同様にして収納ケースにマスクブランクを収納した。実施例１と同様の振動試験を実施した後、収納ケースからマスクブランクを取り出し、欠陥検査装置（レーザーテック社製：Ｍ２３５０）を用いて、マスクブランク主表面上の付着異物による欠陥（９０μｍ以上の大きさの欠陥）個数を測定した。その結果、増加欠陥個数は、平均して０．２個であり、輸送、保管中の発塵によるマスクブランクへのパーティクル付着を効果的に抑制することが可能であることが確認できた。

１ マスクブランク
２ 中ケース
３ ケース本体
４ 蓋
５ 保持部材
６ 蓋体
７ ケース本体
８ 固定部材
１０ 保持部材
１１ 軸
１２ 第１の当接部
１３ 第２の当接部
１４，１５ 切欠き

Claims (10)

1. 上方が開口したケース本体と、該ケース本体に被せる蓋体とを備えて、前記ケース本体及び前記蓋体のそれぞれに嵌合部を有して嵌め合わされ、マスクブランクを縦方向に収納し、収納されたマスクブランクの上方角部を保持する保持手段を前記蓋体の内側に設けてなるマスクブランク収納ケースであって、
   前記マスクブランクは、対向する２つの主表面と、この２つの主表面の間に介在する端面において、前記主表面と直交する方向の側壁面と、該側壁面と前記主表面との間に介在する面取面とを有しており、
   前記保持手段は、収納された前記マスクブランクの上方端面における前記側壁面と前記面取面の稜線にて当接する第１の当接部を備えていることを特徴とするマスクブランク収納ケース。
2. 前記保持手段は、さらに、前記マスクブランクの上方端面と隣接する側方端面における前記側壁面に当接する第２の当接部を備えていることを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク収納ケース。
3. 前記第１の当接部及び前記第２の当接部はいずれも、直線状に延在した軸に沿って所定間隔で配列され、前記軸には前記第１の当接部及び第２の当接部に対応して複数の切欠きを設けていることを特徴とする請求項２に記載のマスクブランク収納ケース。
4. 前記第１の当接部及び前記第２の当接部は、前記軸に対して断面視で互いが鋭角となる方向に配列されていることを特徴とする請求項２又は３に記載のマスクブランク収納ケース。
5. 前記保持手段は、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレンから選択される樹脂材料からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のマスクブランク収納ケース。
6. 前記保持手段は、ポリブチレンテレフタレートからなることを特徴とする請求項５記載のマスクブランク収納ケース。
7. 表面に転写パターン形成用の薄膜を有するマスクブランクを収納することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のマスクブランク収納ケース。
8. 転写パターン形成用の薄膜の表面にレジスト膜を有するマスクブランクを収納することを特徴とする請求項７に記載のマスクブランク収納ケース。
9. 請求項１乃至８のいずれかに記載のマスクブランク収納ケースにマスクブランクが収納されたことを特徴とするマスクブランク収納体。
10. 前記マスクブランクは、前記基板における前記側壁面と前記面取面の稜線の曲率半径が５０μｍ以上であることを特徴とする請求項９記載のマスクブランク収納体。
    
    

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