JP2014022463A - 固体撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】入射光を信号電荷に変換するフォトダイオードPD1−1と、フォトダイオードPD1−1により変換された前記信号電荷を転送するトランスファトランジスタTG1−1と、トランスファトランジスタTG1−1により転送された前記信号電荷を蓄積するフローティングディフュージョンFD1−1と、フローティングディフュージョンFD1−1に蓄積された前記信号電荷をリセットするリセットトランジスタRST1と、フローティングディフュージョンFD1−1に蓄積された信号電荷を増幅するアンプトランジスタAMP1とを有する。リセットトランジスタRST1のソース領域S1、ドレイン領域D1、及びソース領域S1とドレイン領域D1間のチャネル領域は、半導体基板にL字型にレイアウトされている。
【選択図】図1
Description
第1実施形態の固体撮像装置について説明する。
前述した第1実施形態ではリセットトランジスタのソース領域、チャネル領域、及びドレイン領域をL字型に形成したが、第2実施形態では、リセットトランジスタのソース領域、チャネル領域、及びドレイン領域をT字型に形成する例を説明する。
前述した第2実施形態ではリセットトランジスタのアクティブ領域をT字型に形成したが、第3実施形態では、リセットトランジスタのアクティブ領域を十字型に形成する例を説明する。
Claims (5)
- 半導体基板に形成され、入射光を信号電荷に変換する第1の光電変換部と、
前記半導体基板に形成され、前記第1の光電変換部により変換された前記信号電荷を転送する転送トランジスタと、
前記半導体基板に形成され、前記転送トランジスタにより転送された前記信号電荷を蓄積する第1の浮遊拡散層と、
前記半導体基板に形成され、前記第1の浮遊拡散層に蓄積された前記信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、
前記半導体基板に形成され、前記第1の浮遊拡散層に蓄積された前記信号電荷を増幅する増幅トランジスタとを具備し、
前記リセットトランジスタのソース領域、ドレイン領域、及び前記ソース領域と前記ドレイン領域間のチャネル領域は、前記半導体基板にL字型にレイアウトされていることを特徴とする固体撮像装置。 - 前記リセットトランジスタの前記ソース領域と前記第1の浮遊拡散層は共通の拡散領域から形成されていることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。
- 入射光を信号電荷に変換する第2の光電変換部をさらに有し、前記第1の光電変換部と前記第2の光電変換部は前記第1の浮遊拡散層を挟持していることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像装置。
- 入射光を信号電荷に変換する第3,第4の光電変換部と、
前記第3の光電変換部と前記第4の光電変換部に挟持された第2の浮遊拡散層をさらに有し、
前記第2の浮遊拡散層は前記第1の浮遊拡散層に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の固体撮像装置。 - 半導体基板に形成され、入射光を信号電荷に変換する第1,第2の光電変換部と、
前記半導体基板に形成され、前記第1,第2の光電変換部により変換された前記信号電荷をそれぞれ転送する第1,第2の転送トランジスタと、
前記半導体基板に形成され、前記第1,第2の転送トランジスタにより転送された前記信号電荷をそれぞれ蓄積する第1,第2の浮遊拡散層と、
前記半導体基板に形成され、前記第1,第2の浮遊拡散層に蓄積された前記信号電荷をリセットするリセットトランジスタと、
前記半導体基板に形成され、前記第1,第2の浮遊拡散層に蓄積された前記信号電荷を増幅する増幅トランジスタとを具備し、
前記リセットトランジスタの第1,第2のソース領域、ドレイン領域、及び前記第1,第2のソース領域と前記ドレイン領域間のチャネル領域は、前記半導体基板にT字型にレイアウトされていることを特徴とする固体撮像装置。
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