JP2013541646A - 暗色クロム系電着物 - Google Patents
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Abstract
Description
b)前記電解質を用いてクロムを前記基板上に電着させ、前記暗い色相のコーティングが前記基板上に製造される工程と、
を含む方法に関する。
a)三価クロムイオンと、三価クロムイオンを溶液状態に維持するための錯化剤とを含む三価クロム電解質を提供し、前記電解質が、所望の暗い色相を有するコーティングを基板上に製造することができる添加剤を更に含む工程と、
b)前記電解質を用いてクロムを前記基板上に電着させ、暗い色相のコーティングが前記下地基板上に製造される工程と、
を含む。
温度:30℃
pH:2.8
時間:5分
電流:5アンペア
標準的なクロム電気めっき浴(MacDermid, Inc.から入手可能なMacrome(R)CL3)を使用してパネルをめっきした。析出物の明度を測定し、78.12のL*値を有することが分かった。
標準的なクロム電気めっき浴(MacDermid, Inc.から入手可能なMacrome(R)CL3)を使用し、0.5g/Lのチオシアン酸ナトリウムを添加してパネルをめっきした。析出物の明度を測定し、67.94のL*値を有することが分かり、チオシアン酸イオンの添加が析出物を暗くすることができることを示した。
標準的なクロム電気めっき浴(MacDermid, Inc.から入手可能なMacrome(R)CL3)を使用し、3g/Lのチオシアン酸ナトリウムを添加してパネルをめっきした。析出物の明度を測定し、62.4のL*値を有することが分かった。これは、チオシアン酸塩を添加することによって得ることができる最も暗い実用上の限界を表す。高濃度チオシアン酸塩においては、被膜特性が悪影響を受け、析出工程中の硫化水素の発生が問題となる。
標準的なクロム電気めっき浴(MacDermid, Inc.から入手可能なMacrome(R)CL3)を使用し、20mL/LのLudox(R) TM40(平均粒径27nmのコロイダルシリカの40%懸濁液)を添加してパネルをめっきした。析出物の明度を測定し、64のL*値を有することが分かった。これは、比較例1と比較して18%の析出物の明度の低下に該当する。
標準的なクロム電気めっき浴(MacDermid, Inc.から入手可能なMacrome(R)CL3)を使用し、0.5g/Lのチオシアン酸ナトリウムと20mL/LのLudox(R) TM40(平均粒径27nmのコロイダルシリカの40%懸濁液)とを添加してパネルをめっきした。析出物の明度を測定し、57.44のL*値を有することが分かった。これは、比較例2と比較して15%の析出物の明度の低下に該当する。
標準的なクロム電気めっき浴(MacDermid, Inc.から入手可能なMacrome(R)CL3)を使用し、3g/Lのチオシアン酸ナトリウムと20 mL/LのLudox(R) TM40(平均粒径27nmのコロイダルシリカの40%懸濁液)とを添加してパネルをめっきした。析出物の明度を測定し、53.79のL*値を有することが分かった。これは、比較例3と比較して14%の析出物の明度の低下に該当する。
Claims (22)
- 基板上に暗い色相のクロムコーティングを製造する方法であって、
a)三価クロムイオンと、前記三価クロムイオンを溶液状態に維持するための錯化剤とを含む三価クロム電解質を提供し、前記電解質がコロイダルシリカの分散体を更に含む工程と、
b)前記三価クロム電解質を用いてクロムを前記基板上に電着させる工程と、
を含み、
暗い色相のコーティングが前記基板上に製造される方法。 - シリカ分散体が、約1nm〜約100nmの平均粒径を有する請求項1に記載の方法。
- シリカ分散体が、約10nm〜約40nmの平均粒径を有する請求項1に記載の方法。
- 電解質中のコロイダルシリカの濃度が、約0.5g/L〜約150g/Lである請求項1に記載の方法。
- 電解質中のコロイダルシリカの濃度が、約1g/L〜約20g/Lである請求項1に記載の方法。
- 三価クロム電解質が、チオシアン酸イオン、鉄イオン、又はチオシアン酸イオンと鉄イオンとの組合せを更に含む請求項1に記載の方法。
- 三価クロム電解質が、チオシアン酸イオンを含む請求項6に記載の方法。
- 三価クロム電解質中のチオシアン酸イオンの濃度が、約0.2g/L〜約5g/Lである請求項7に記載の方法。
- 三価クロム電解質中のチオシアン酸イオンの濃度が、約0.5g/L〜約3g/Lである請求項8に記載の方法。
- 基板上に製造されたクロムコーティングが、L*a*b*表色系に従って測定された65未満のL*値を有する請求項1に記載の方法。
- クロムコーティングが、60未満のL*値を有する請求項10に記載の方法。
- クロムコーティングが、54未満のL*値を有する請求項11に記載の方法。
- 基板が下地基板上にニッケル析出物を含み、クロムが前記ニッケル析出物上にめっきされる請求項1に記載の方法。
- 三価クロム電解質のpHが、約1〜約4である請求項1に記載の方法。
- 三価クロムイオンと前記三価クロムイオンを溶液状態に維持するための錯化剤とを含む水性酸性三価クロム電解質であって、コロイダルシリカの分散体を更に含む水性酸性三価クロム電解質。
- コロイダルシリカが、約1nm〜約100nmの平均粒径を有するシリカ分散体である請求項15に記載の電解質。
- シリカ分散体が、約10nm〜約40nmの平均粒径を有する請求項16に記載の電解質。
- 電解質中のコロイダルシリカの濃度が、約0.5g/L〜約150g/Lである請求項15に記載の電解質。
- 電解質中のコロイダルシリカの濃度が、約1g/L〜約20g/Lである請求項18に記載の電解質。
- 電解質のpHが、約1〜約4である請求項15に記載の電解質。
- 電解質が、チオシアン酸イオンを更に含む請求項15に記載の電解質。
- 電解質が、チオシアン酸イオン、鉄イオン、又はチオシアン酸イオンと鉄イオンとの組合せを更に含む請求項15に記載の電解質。
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