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  1. タッチパネルで使用される透明体(10)を製造するプロセスであって、
    第1の透明層スタック(12)を基板(14)の上に堆積させるステップであり、前記第1の透明層スタック(12)が第1の誘電体膜(16)、第2の誘電体膜(18)、および第3の誘電体膜(20)を含み、前記第1および前記第3の誘電体膜が低い屈折率を有し、前記第2の誘電体膜が高い屈折率を有する、ステップと、
    前記第1の透明層スタック(12)および透明導電膜(22)が前記基板(14)の上にこの順序で配置されるように前記透明導電膜(22)を堆積させるステップと
    を含み、
    前記第1の誘電体膜(16)、前記第2の誘電体膜(18)、前記第3の誘電体膜(20)、または前記透明導電膜(22)のうちの少なくとも1つが回転ターゲット(122、124、126、128、322、324、326、328)のスパッタリングによって堆積される、プロセス。
  2. 前記透明導電膜(22)をパターニングするステップをさらに含む、請求項に記載のプロセス。
  3. 前記第1の誘電体膜(16)、前記第2の誘電体膜(18)、および前記第3の誘電体膜(20)が前記基板の上にこの順序で配置される、請求項1または2に記載のプロセス。
  4. 前記第1および前記第3の誘電体膜が1.5未満の屈折率を有し、前記第2の誘電体膜が少なくとも1.8の屈折率を有する、請求項1ないし3のいずれか一項に記載のプロセス。
  5. 前記第1の誘電体膜または前記第3の誘電体膜の少なくとも一方が酸化ケイ素またはフッ化マグネシウムを含む、請求項1ないし4のいずれか一項に記載のプロセス。
  6. 前記第の誘電体膜が金属酸化物、金属窒化物、または金属酸窒化物を含む、請求項1ないし5のいずれか一項に記載のプロセス。
  7. 前記第の誘電体膜が誘電体材料の直接スパッタリングによって堆積される、請求項1ないし6のいずれか一項に記載のプロセス。
  8. タッチパネルで使用される透明体(10)を製造するための堆積装置(100)であって、
    第1の透明層スタック(12)を基板(14)の上に堆積させるように構成された第1の堆積アセンブリ(102)であり、前記第1の透明層スタック(12)が第1の誘電体膜(16)、第2の誘電体膜(18)、および第3の誘電体膜(20)を含み、前記第1および前記第3の誘電体膜が低い屈折率を有し、前記第2の誘電体膜が高い屈折率を有する、第1の堆積アセンブリ(102)と、
    透明導電膜(22)を堆積させるように構成された第2の堆積アセンブリ(104)と
    を備え、
    前記第1の堆積アセンブリ(102)および前記第2の堆積アセンブリ(104)は、前記第1の透明層スタック(12)および前記透明導電膜(22)が前記基板(14)の上にこの順序で配置されるように配列され、
    前記第1の堆積アセンブリ(102)または前記第2の堆積アセンブリの少なくとも一方が回転ターゲット(122、124、126、128、322、324、326、328)に動作可能に結合されたスパッタリングシステム(120、123、125、127)を含み、前記スパッタリングシステムが前記第1の誘電体膜(16)、前記第2の誘電体膜(18)、前記第3の誘電体膜(20)、または前記透明導電膜(22)のうちの少なくとも1つを前記回転ターゲットのスパッタリングによって堆積させるように構成される、装置。
  9. 前記第1の堆積アセンブリ(102)が、前記第1の誘電体膜(16)、前記第2の誘電体膜(18)、および前記第3の誘電体膜(20)を前記基板の上にこの順序で堆積させるように構成される、請求項8に記載の装置。
  10. 前記第1の堆積アセンブリ(102)および前記第2の堆積アセンブリ(104)が前記第1の透明層スタック(12)および前記透明導電膜(22)をマグネトロンスパッタリングによって堆積させるように構成される、請求項8または9に記載の装置。
  11. 前記第1の透明層スタックの少なくとも1つの一部を形成する前記膜のうちの少なくとも1つまたは前記透明導電膜の光学的性質を堆積の間測定するように構成された測定システム(138)をさらに備える、請求項8ないし10のいずれか一項に記載の装置。
  12. 前記第1の堆積アセンブリ(102)が、前記第の誘電体膜(20)を誘電体材料の直接スパッタリングによって堆積させるように構成される、請求項8ないし11のいずれか一項に記載の装置。
  13. 前記第1の堆積アセンブリ(102)および前記第2の堆積アセンブリ(104)は、前記第1の誘電体膜(16)、前記第2の誘電体膜(18)、前記第3の誘電体膜(20)、および前記透明導電膜(22)が前記回転ターゲットのスパッタリングによって堆積され得るように構成された複数の回転ターゲット(122、124、126、128、322、324、326、328)を含む、請求項8ないし12のいずれか一項に記載の装置。
  14. 請求項1ないし7のいずれか一項に記載のプロセスによって製造される透明体(10)であって、
    基板(14)の上の第1の透明層スタック(12)であり、第1の誘電体膜(16)、第2の誘電体膜(18)、第3の誘電体膜(20)および透明導電膜(22)を含む、第1の透明層スタック(12)を含み、
    前記第1の透明層スタック(12)および前記透明導電膜(22)が前記基板(14)の上にこの順序で配置され、前記第1および前記第3の誘電体膜が低い屈折率を有し、前記第2の誘電体膜が高い屈折率を有する、透明体(10)。
  15. 請求項14に記載の透明体(10)を備えるタッチパネル。
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