JP2013532223A - オンデマンド型硬化性ポリシロキサンコーティング組成物 - Google Patents
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Abstract
(a)少なくとも2つのヒドロキシシリル部分を含む反応性シラン官能基を含む、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン又はこれらの組み合わせと、
(b)少なくとも2つのヒドロシリル部分を含む反応性シラン官能基を含む、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン又はこれらの組み合わせと、
(c)放射線に曝露すると、アミジン、グアニジン、ホスファゼン、プロアザホスファトラン、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの塩基を生じる、光活性化可能な少なくとも1つの組成物と、
を含み、成分(a)及び(b)のうちの少なくとも一方は少なくとも3つの平均反応性シラン官能基を有する。
【選択図】なし
Description
本出願は、米国仮出願特許第61/360,068号(2010年6月30日出願)及び同第61/360,007号(2010年6月30日出願)に対する優先権を請求し、これらの内容は参照により本明細書に組み込まれる。
本発明は、反応性シラン官能基を含む硬化性コーティング組成物に関し、他の態様では組成物をコーティングするためのプロセス及びそれにより調製される物品に関する。
(a)少なくとも2つのヒドロキシシリル部分(すなわち、ケイ素原子に直接結合したヒドロキシル部分を含む一価の部分)を含む反応性シラン官能基を含む、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン又はこれらの組み合わせと、
(b)少なくとも2つのヒドロシリル部分(すなわち、ケイ素原子に直接結合した水素原子を含む一価の部分)を含む反応性シラン官能基を含む、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン又はこれらの組み合わせと、
(c)放射線に曝露すると、アミジン、グアニジン、ホスファゼン、プロアザホスファトラン、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの塩基を生じる、光活性化可能な少なくとも1つの組成物と、
を含み、成分(a)及び(b)のうちの少なくとも一方は、少なくとも3つの平均反応性シラン官能基を有する(すなわち、成分(a)が(平均で)少なくとも3つのヒドロキシシリル部分を有するか、成分(b)が(平均で)少なくとも3つのヒドロシリル部分を有するか、又はその両方である)。成分(a)及び(b)は、好ましくは、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン(より好ましくは少なくとも1つのポリジアルキルシロキサン、最も好ましくは少なくとも1つのポリジメチルシロキサン)を含む。好ましくは、成分(a)は、(平均で)2つの末端ヒドロキシシリル部分を含むように、ヒドロキシル末端封鎖される。
(a)本発明の上記硬化性ポリシロキサン組成物を準備する工程と、
(b)少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を準備する工程と、
(c)基材の少なくとも1つの主表面の少なくとも一部分に硬化性ポリシロキサン組成物を適用する工程と、
(d)少なくとも一部の硬化性ポリシロキサン組成物を放射線に曝露することにより、硬化性ポリシロキサン組成物の硬化を誘導して、コーティングを形成する工程と、を含む、コーティング方法を提供する。
用語「好ましい」及び「好ましくは」は、特定の状況下で、特定の利点をもたらし得る本発明の実施形態を指す。しかしながら、同一又は異なる条件下において、他の実施形態が好ましい場合もある。更に、1以上の好ましい実施形態の引用は、他の実施形態が有用ではないことを示唆するものではなく、他の実施形態を本発明の範囲から除外することを目的とするものではない。
「含む(comprises)」という用語及びその変化形は、それらの用語が説明及び請求項に出現する箇所において、限定的な意味を有するものではない。
本明細書で使用するところの「a」、「an」、「the」、「少なくとも1つの」及び「1以上の」は、互換可能に使用される。
上記「課題を解決するための手段」の節は、すべての実施形態又は本発明のすべての実施を説明しようとするものではない。以下の「発明を実施するための形態」が実施形態をより具体的に例示する。「発明を実施するための形態」にわたり、複数の実施例の一覧を通してガイダンスが提供されており、それら実施例は様々な組み合わせで用いられ得る。いずれの場合にも、記載した一覧は、代表的な群としてのみ役立つものであり、排他的な一覧として解釈されるべきではない。
本特許出願で使用されるとき、
「連結型ヘテロ原子(catenatedheteroatom)」とは、(例えば、炭素−ヘテロ原子−炭素鎖又は炭素−ヘテロ原子−ヘテロ原子−炭素鎖を形成するために)炭素鎖中で1個以上の炭素原子と置き換わる炭素以外の原子(例えば、酸素、窒素、又は硫黄)を意味する。
「硬化」とは、(例えば、触媒を通した)架橋ポリマーネットワークへの変換を意味する。
「フルオロ−」(例えば、「フルオロアルキレン」若しくは「フルオロアルキル」、又は「フルオロカーボン」の場合のような基若しくは部分に関して)又は「フッ素化された」とは、炭素に結合した水素原子が少なくとも1つはあるように、部分フッ素化されていることを意味し、
「フルオロケミカル」とはフッ素化又はペルフルオロ化を意味し、
「ヘテロ有機」とは、少なくとも1個のヘテロ原子(好ましくは、少なくとも1個のカテネイトヘテロ原子)を含有する有機基又は部分(例えば、アルキル又はアルキレン基)を意味する。
「ヒドロシリル」は、水素原子に直接結合したケイ素原子を含む一価部分又は基を指す(例えば、ヒドロシリル部分は、式−Si(R)3−p(H)pを有することができ、式中、pは1、2又は3の整数であり、Rは加水分解性又は非加水分解性基である(好ましくはアルキル又はアリールなどの非加水分解性である))。
「ヒドロキシシリル」は、ヒドロキシル基に直接結合したケイ素原子を含む一価部分又は基を指す(例えば、ヒドロキシシリル部分は、式−Si(R)3−p(OH)pを有することができ、式中、pは1、2又は3の整数であり、Rは加水分解性又は非加水分解性基である(好ましくはアルキル又はアリールなどの非加水分解性である))。
「イソシアナト」とは、式−NCOの一価の基又は部分を意味する。
「メルカプト」とは、式−SHの一価の基又は部分を意味する。
「オリゴマー」とは、少なくとも2個の繰り返し単位を含み、かつ分子鎖同士で絡まるような分子量未満の分子量を有する分子を意味し、このような分子は、ポリマーとは異なり、1個の繰り返し単位を除去又は付加しただけでも特性が著しく変化する。
「オキシ」とは、式−O−の二価の基又は部分を意味する。並びに、
「ペルフルオロ」(例えば、「ペルフルオロアルキレン」又は「ペルフルオロアルキル」又は「ペルフルオロカーボン」の場合のような、基又は部分に関して)若しくは「ペルフルオロ化」とは、完全にフッ素化されたことを意味し、その結果、特記しない限り、フッ素と置換できる炭素に結合した水素原子がないことを意味する。
本発明の硬化性ポリシロキサン組成物の成分(a)としての使用に好適なポリシロキサンとしては、少なくとも2つのヒドロキシシリル部分(すなわち、ケイ素原子に直接結合したヒドロキシル基を含む一価の部分)を含む反応性シラン官能基を含む、ポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン及びこれらの組み合わせ(好ましくはポリジオルガノシロキサン)が挙げられる。これらのポリシロキサンは、オリゴマー、ポリマー又はこれらの組み合わせであることができる。好ましくは、これらのポリシロキサンはポリマーであり、直鎖、分枝鎖又は環状であり得る。有用なポリマーとしては、ランダム、交互、ブロック又はグラフト構造又はこれらの組み合わせを有するものが挙げられる。
(OH)p−Si(R’)3−p−[G−Si(R’)2]t−O−[(R’)2SiO]q[Si(R’)2−G]t−Si(R’)3−p−(OH)p (I)
式中、各pは独立して1、2又は3(好ましくは1)の整数であり、各Gは独立して二価結合基であり、各R’は独立して、アルキル、アルケニル、フルオロアルキル、アリール、フルオロアリール、シクロアルキル、フルオロシクロアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロフルオロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロフルオロアリール、ヘテロシクロアルキル、ヘテロフルオロシクロアルキル及びこれらの組み合わせから選択され、qは0〜約15,000(好ましくは約20〜約15,000)の整数であり、各tは独立して0又は1(好ましくは0)の整数である。好ましくは、各R’は独立して、アルキル(好ましくは1〜約8個の炭素原子を有する)、フルオロアルキル(好ましくは3〜約8個の炭素原子を有し、より好ましくはRfC2H4−(式中、Rfは、1〜約6個の炭素原子(好ましくは1〜約6個の炭素原子)を有するフッ素化又は過フッ素化アルキル基である))、アリール及びこれらの組み合わせから選択される。より好ましくは、各R’は独立して、メチル、C4F9C2H4−、C6F13C2H4−、CF3C2H4−、C6H5C2H4−、フェニル及びこれらの組み合わせ(更により好ましくはメチル、CF3C2H4−、フェニル、C4F9C2H4−及びこれらの組み合わせ、最も好ましくはメチル)から選択される。各二価結合基Gは、好ましくは独立して、オキシ、アルキレン、アリーレン、ヘテロアルキレン、ヘテロアリーレン、シクロアルキレン、ヘテロシクロアルキレン及びこれらの組み合わせから選択される(より好ましくは、オキシ、アルキレン、アリーレン及びこれらの組み合わせから選択される)。(G及び/又はR’中の)ヘテロ原子としては、酸素、イオウ、窒素、リン及びこれらの組み合わせ(好ましくは酸素、イオウ及びこれらの組み合わせ、より好ましくは酸素)を挙げることができる。Gは、少なくとも2個の炭素原子によりケイ素から分離されるのであれば、フッ素を含有することができる。
本発明の硬化性組成物の架橋剤成分(b)としての使用に好適なポリシロキサンとしては、少なくとも2つのヒドロシリル部分(すなわち、ケイ素原子に直接結合した水素原子を含む一価の部分)を含む反応性シラン官能基を含む、ポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらのポリシロキサンは、小分子、オリゴマー、ポリマー又はこれらの組み合わせであり得る。好ましくはこれらのポリシロキサンはポリマーである。これらのポリシロキサンは、直鎖、分枝鎖又は環状であることができる。有用なポリマーとしては、ランダム、交互、ブロック又はグラフト構造又はこれらの組み合わせを有するものが挙げられる。
R’2R”SiO(R’2SiO)r(HR’SiO)sSiR”R’2 (II)
式中、R’は式(I)について上記で定義した通りであり、各R”は独立して水素又はR’であり、rは0〜約150(好ましくは0〜約100、より好ましくは0〜約20)の整数であり、sは2〜約150(好ましくは約5〜約100、より好ましくは約20〜約80)の整数である。最も好ましくはR”及びR’はどちらもメチルであり、rは0であり、並びに/又は、sは約40である。
本発明の硬化性組成物の成分(c)としての使用に好適な光活性化可能な組成物としては、放射線(好ましくは、紫外線、可視放射線又はこれらの組み合わせ)に曝露すると、アミジン、グアニジン(ビグアニドなどの置換グアニジンを含む)、ホスファゼン、プロアザホスファトラン(Verkade塩基としても既知)及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの塩基を生じる組成物(既知の又は今後開発される化合物又は混合物)が挙げられる。自己プロトン化可能な形態の塩基(例えば、アルギニンなどのアミノ酸)を生じる光活性化可能な組成物は、通常、自己中和されている塩基の形態ほど好適ではなく、したがって除外される。好ましい光活性化可能な組成物としては、放射線に曝露すると、アミジン、グアニジン及びこれらの組み合わせ(より好ましくはアミジン及びこれらの組み合わせ、最も好ましくは環式アミジン及びこれらの組み合わせ)から選択される少なくとも1つの塩基を生じるものが挙げられる。
式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立して、水素、一価の有機基、一価のヘテロ有機基(例えば、炭素原子を通して結合され、カルボキシル又はスルホンなどの酸官能基を含有しない基又は部分の形態で、窒素、酸素、リン又はイオウを含む)及びこれらの組み合わせから選択され、R1、R2、R3及びR4のうちの任意の2つ以上は、一緒に結合して、環構造(好ましくは五員環、六員環又は七員環、より好ましくは六員環又は七員環)を形成することができる。有機基及びヘテロ有機基は、好ましくは1〜20個の炭素原子(より好ましくは1〜約10個の炭素原子、最も好ましくは1〜約6個の炭素原子)を有する。好ましくはR4は水素ではない。
式中、R1、R2、R3、R4及びR5はそれぞれ独立して、水素、一価の有機基、一価のヘテロ有機基(例えば、炭素原子を通して結合され、カルボキシル又はスルホンなどの酸官能基を含有しない基又は部分の形態で、窒素、酸素、リン又はイオウを含む)及びこれらの組み合わせから選択され、R1、R2、R3、R4及びR5のうちの任意の2つ以上は、一緒に結合して、環構造(好ましくは五員環、六員環又は七員環、より好ましくは五員環又は六員環、最も好ましくは六員環)を形成することができる。有機基及びヘテロ有機基は、好ましくは1〜20個の炭素原子(より好ましくは1〜約10個の炭素原子、最も好ましくは1〜約6個の炭素原子)を有する。好ましくはR5は水素ではない。
式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7はそれぞれ独立して、水素、一価の有機基、一価のヘテロ有機基(例えば、炭素原子を通して結合され、カルボキシル又はスルホンなどの酸官能基を含有しない基又は部分の形態で、窒素、酸素、リン又はイオウを含む)及びこれらの組み合わせから選択され、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7のうちの任意の2つ以上は、一緒に結合して、環構造(好ましくは五員環、六員環又は七員環、より好ましくは五員環又は六員環、最も好ましくは六員環)を形成することができる。有機基及びヘテロ有機基は、好ましくは1〜20個の炭素原子(より好ましくは1〜約10個の炭素原子、最も好ましくは1〜約6個の炭素原子)を有する。好ましくはR7は水素ではない。
及びこれらに類するもの、並びにこれらの組み合わせ。好ましい光活性化可能な組成物としては、2−tert−ブチルイミノ−2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチルペルヒドロ−1,3,2−ジアザホスホリン、ホスファゼン塩基P1−t−Bu−トリス(テトラメチレン)、ホスファゼン塩基P4−t−Bu及びこれらの組み合わせなどのホスファゼンを生じることができるものが挙げられる。
式中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立して、水素、一価の有機基、一価のヘテロ有機基(例えば、炭素原子を通して結合され、カルボキシル又はスルホンなどの酸官能基を含有しない基又は部分の形態で、窒素、酸素、リン又はイオウを含む)及びこれらの組み合わせから選択される(水素はあまり好ましくない)。有機基及びヘテロ有機基は、好ましくは1〜20個の炭素原子(より好ましくは1〜約10個の炭素原子、最も好ましくは1〜約6個の炭素原子)を有する。
及びこれらに類するもの、並びにこれらの組み合わせ。好ましい光活性化可能な組成物としては、2,8,9−トリイソプロピル−2,5,8,9−テトラアザ−1−ホスファビシクロ[3.3.3]ウンデカンを生じることができるものが挙げられる。
N(R7)(R6)−CH(R5)−N(R4)−C(R1)(R2)(R3) (VII)
式中、R1は、200nm〜650nmの波長範囲の光を吸収し、未置換であるか、又は、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18アルキニル、C1〜C18ハロアルキル、−NO2、−NR10R11、−CN、−OR12、−SR12、−C(O)R13、−C(O)OR14、ハロゲン、式N(R7)(R6)−CH(R5)−N(R4)−C(R2)(R3)−(式中、R2〜R7は式VIIについて定義された通りである)の基及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの一価の基により1回以上置換され、上記吸収時に光脱離を引き起こしてアミジン又はグアニジンを生じる、芳香族ラジカル、ヘテロ芳香族ラジカル及びこれらの組み合わせから選択され、R2及びR3はそれぞれ独立して、水素、C1〜C18アルキル、フェニル、置換フェニル(すなわち、C1〜C18アルキル、−CN、−OR12、−SR12、ハロゲン、C1〜C18ハロアルキル及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの一価の基により1回以上置換される)及びこれらの組み合わせから選択され、R5は、C1〜C18アルキル、−NR8R9及びこれらの組み合わせから選択され、R4、R6、R7、R8、R9、R10及びR11はそれぞれ独立して、水素、C1〜C18アルキル及びこれらの組み合わせから選択され、あるいは、R4とR6は一緒に、未置換であるか又はC1〜C4アルキルラジカル及びこれらの組み合わせから選択される1つ以上の一価の基により置換されたC2〜C12アルキレン架橋を形成し、あるいは、R5とR7は一緒に、R4とR6とは独立して、未置換であるか又はC1〜C4アルキルラジカル及びこれらの組み合わせから選択される1つ以上の一価の基により置換されたC2〜C12アルキレン架橋を形成し、あるいは、R5が−NR8R9である場合には、R7とR9は一緒に、未置換であるか又はC1〜C4アルキルラジカル及びこれらの組み合わせから選択される1つ以上の一価の基により置換されたC2〜C12アルキレン架橋を形成し、R12とR13はそれぞれ独立して、水素、C1〜C19アルキル及びこれらの組み合わせであり、R14は、C1〜C19アルキル及びこれらの組み合わせから選択される。
本発明の硬化性組成物は、(好ましくは撹拌又はかき混ぜながら)本質的に任意の順序で成分(a)、(b)及び(c)を組み合わせることにより調製することができる。好ましくは、成分(a)と(b)をまず組み合わせ、次いで成分(c)を添加する。この組成物は、活性化波長の放射線を実質的に遮断した状態で比較的貯蔵安定的な一部系(三成分すべてを含む)として維持することができる。この組成物は、(任意選択である)溶媒を含む又は含まないこの組成物のコーティング又は他の適用に先立って、例えば、数日又は数週間(比較的長い貯蔵寿命)までの期間にわたって、このような条件下で安定であることができる。
本発明の硬化性組成物は、様々な異なる用途に使用することができる。例えば、組成物(1つ又は複数)は、封止材、剥離コーティング、表面処理、ハードコート及びこれらに類するものとして使用することができる。フッ素化表面処理として使用するとき、ある程度の疎水性及び/又は疎油性を(例えば、表面を保護するため、又は洗浄容易性を高めるために)様々な基材に付与することができる。
特に記載のない限り、実施例及び本明細書の残りの部分におけるすべての部、百分率、及び比率などは、重量による。特に記載のない限り、すべての化学物質は、Aldrich Chemical Company(Milwaukee,WI)などの化学物質供給業者から入手されており、あるいは、入手可能である。
キシレン中の反応性ヒドロキシシリル官能性シロキサンポリマー(1つ又は複数)(ヒドロキシル末端ポリジメチルシロキサンを含むと言われる)とヒドロシリル官能性ポリシロキサン架橋剤(ポリ(メチル)(水素)シロキサンを含むと言われる)のブレンド(商品名Syl−Off(商標)292でDow Corning Corporation(Midland,MI)から入手されたプレミアム剥離コーティング組成物)の30重量パーセント固形分分散体のサンプルをヘプタンで10重量パーセント固形分に希釈した。塩基1〜10及び比較塩基C−1〜C−12の各々のために、0.02gの塩基(下記の表1に列挙、すべての塩基はAldrich Chemical Company(Milwaukee,WI)から入手した)を5gのSyl−Off(商標)292溶液(ヘプタン中10重量パーセント)に添加し、その後、混合した。得られた混合物を、4番ロッドを用いて、厚さ50マイクロメートルのポリエステルテレフタレート(PET)フィルム(Mitsubishi Polyester Film(Greer,SC)から商品名Hostaphan(商標)3SABで入手、以降3SAB PETフィルムと呼ぶ。シリコーンコーティングの接着を改善するために一方の面が化学的に処理されているか又は下塗りされている)の下塗り面上にコーティングした。得られたコーティングを終えた3SAB PETサンプルを室温(約23℃)にて取っておき、これらの硬化状態(粘着度)をモニターした。コーティングされたサンプルは、コーティングが5分以内に固化した場合に、硬化したとみなした。コーティングされたサンプルは、コーティングが固化せずに室温にて少なくとも24時間にわたって粘着性を維持した場合に、硬化しなかったとみなした。塩基スクリーニングの結果を以下の表1に示す。
これらの試験は、一定の温度及び相対湿度にてある時間にわたって経時処理された剥離ライナーの有効性を測定した。経時処理された剥離値は、特定の取り外しの角度及び速度で剥離ライナーから可撓性接着テープを取り外すのに必要とされる力の定量的尺度である。この力は、デシメートル当たりのニュートン(N/dm)で表される。特に記載のない限り、以下の4つの接着テープのうちの1つを用いて、経時処理剥離値と、基材に対する後続の接着(場合により再接着と呼ぶ)と、を測定した。
34.0g(0.2mol)の1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセンと200mLのトルエンの混合物を34.2g(0.2mol)のベンジルブロミドと混合した。不溶性油が生じ、その後、10分かけて温度を57℃に上げると白色固体に変化した。4時間後、この固体を濾過し、乾燥させたところ、62.5gの8−ベンジル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカン(DBUの8−ベンジル塩、水に可溶)を得た。NaBH4溶液(1.58g、5.1mmol、4.4MのNaBH4の14M NaOH溶液、Alfa Aesar(Ward Hill,MA)から入手)を10mLの水で希釈した。次に、この希釈溶液に15mLのt−ブチルメチルエーテル(t−BuOMe)を添加し、得られた混合物を磁気撹拌し、3℃に冷却した。冷却された混合物に、上記のように調製したDBUの8−ベンジル塩3.23gを添加した。2時間後、得られた低温混合物を相分離し、得られた水層をt−BuOMeで抽出し、得られたt−BuOMe溶液を組み合わせ、乾燥させ、剥離したところ、0.86gの生成物(光潜在性触媒混合物)を生じた。この生成物のガス−液体クロマトグラフィー(GLC)分析は、この生成物が、39パーセントの8−ベンジル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカン(熱伝導度検出器によるGLC面積レスポンス、ガスクロマトグラフィー/質量分析装置(GC/MS)分析により同定)と、13パーセントのN−3−ベンジルアミノプロピルアゼピン(GC/MS及び核磁気共鳴(NMR)分析により同定)と、48パーセントのN−(3−ベンジルアミノプロピル)アゼピン−2−オンと考えられるもの(262のGC/MS質量)と、を含有したことを示した。
Claims (30)
- (a)少なくとも2つのヒドロキシシリル部分を含む反応性シラン官能基を含む、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン又はこれらの組み合わせと、
(b)少なくとも2つのヒドロシリル部分を含む反応性シラン官能基を含む、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン又はこれらの組み合わせと、
(c)放射線に曝露すると、アミジン、グアニジン、ホスファゼン、プロアザホスファトラン及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの塩基を生じる少なくとも1つの光活性化可能組成物と、
を含む、硬化性組成物であって、前記成分(a)及び(b)のうちの少なくとも一方が少なくとも3つの平均反応性シラン官能基を有する、組成物。 - 前記成分(a)及び(b)がそれぞれ少なくとも1つのポリジオルガノシロキサンを含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記ポリジオルガノシロキサンがポリジメチルシロキサンを含む、請求項1又は2に記載の組成物。
- 前記成分(a)がヒドロキシル末端封鎖されている、請求項1〜3のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記成分(a)が、以下の一般式:
(OH)p−Si(R’)3−p−[G−Si(R’)2]t−O−[(R’)2SiO]q[Si(R’)2−G]t−Si(R’)3−p−(OH)p (I)
により表されるポリシロキサンから選択され、式中、各pは独立して1、2又は3の整数であり、各Gは独立して二価結合基であり、各R’は独立して、アルキル、アルケニル、フルオロアルキル、アリール、フルオロアリール、シクロアルキル、フルオロシクロアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロフルオロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロフルオロアリール、ヘテロシクロアルキル、ヘテロフルオロシクロアルキル及びこれらの組み合わせから選択され、qは0〜約15,000の整数であり、各tは独立して0又は1の整数である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物。 - 各前記Gは独立して、オキシ、アルキレン、アリーレン、ヘテロアルキレン、ヘテロアリーレン、シクロアルキレン、ヘテロシクロアルキレン及びこれらの組み合わせから選択され各前記R’は独立してアルキル、フルオロアルキル、アリール及びこれらの組み合わせから選択され、前記qは20〜15,000の整数であり、並びに/あるいは、前記tは0の整数である、請求項5に記載の組成物。
- 各前記R’が独立して、メチル、C4F9C2H4−、C6F13C2H4−、フェニル、CF3C2H4−、C6H5C2H4−及びこれらの組み合わせから選択される、請求項6に記載の組成物。
- 前記成分(a)が、(1)300,000〜1,000,000の範囲の重量平均分子量を有する、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン又はこれらの組み合わせと、(2)約150〜約150,000の範囲の重量平均分子量を有する、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン又はこれらの組み合わせと、の混合物を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記成分(b)が少なくとも3つの平均反応性シラン官能基を有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記成分(b)が、以下の一般式:
R’2R”SiO(R’2SiO)r(HR’SiO)sSiR”R’2 (II)
により表されるポリシロキサンから選択され、式中、各R’は独立して、アルキル、アルケニル、フルオロアルキル、アリール、フルオロアリール、シクロアルキル、フルオロシクロアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロフルオロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロフルオロアリール、ヘテロシクロアルキル、ヘテロフルオロシクロアルキル及びこれらの組み合わせから選択され、各R”は独立して水素又はR’であり、rは0〜150の整数であり、sは2〜150の整数である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の組成物。 - 各前記R’が独立してアルキル、フルオロアルキル、アリール及びこれらの組み合わせから選択される、請求項10に記載の組成物。
- 各前記R’が独立して、メチル、C4F9C2H4−、C6F13C2H4−、フェニル、CF3C2H4−、C6H5C2H4−及びこれらの組み合わせから選択される、請求項11に記載の組成物。
- 前記R’及び前記R”がメチルであり、前記rが0の整数であり、並びに/又は、前記sが40の整数である、請求項10に記載の組成物。
- 前記光活性化可能な組成物が、少なくとも1つの窒素原子上で少なくとも1つのアラルキルラジカルにより置換される少なくとも1つの1,3−ジアミン化合物を含む、請求項1〜13のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記アラルキルラジカルが、200nm〜650nmの波長範囲の光を吸収し、アミジン又はグアニジンを生じる光脱離を引き起こす少なくとも1つの芳香族又はヘテロ芳香族ラジカルを含む、請求項14に記載の組成物。
- 前記1,3−ジアミン化合物が、式
N(R7)(R6)−CH(R5)−N(R4)−C(R1)(R2)(R3) (VII)
により表されるものから選択され、式中、R1は、200nm〜650nmの波長範囲の光を吸収し、未置換であるか、又は、C1〜C18アルキル、C2〜C18アルケニル、C2〜C18アルキニル、C1〜C18ハロアルキル、−NO2、−NR10R11、−CN、−OR12、−SR12、−C(O)R13、−C(O)OR14、ハロゲン、式N(R7)(R6)−CH(R5)−N(R4)−C(R2)(R3)−(式中、R2〜R7は式VIIについて定義された通りである)の基及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの一価の基により1回以上置換され、前記吸収時に光脱離を引き起こしてアミジン又はグアニジンを生じる、芳香族ラジカル、ヘテロ芳香族ラジカル及びこれらの組み合わせから選択され、R2及びR3はそれぞれ独立して、水素、C1〜C18アルキル、フェニル、置換フェニル(すなわち、C1〜C18アルキル、−CN、−OR12、−SR12、ハロゲン、C1〜C18ハロアルキル及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの一価の基により1回以上置換される)及びこれらの組み合わせから選択され、R5は、C1〜C18アルキル、−NR8R9及びこれらの組み合わせから選択され、R4、R6、R7、R8、R9、R10及びR11はそれぞれ独立して、水素、C1〜C18アルキル及びこれらの組み合わせから選択され、あるいは、R4とR6は一緒に、未置換であるか又はC1〜C4アルキルラジカル及びこれらの組み合わせから選択される1つ以上の一価の基により置換されたC2〜C12アルキレン架橋を形成し、あるいは、R5とR7は一緒に、R4とR6とは独立して、未置換であるか又はC1〜C4アルキルラジカル及びこれらの組み合わせから選択される1つ以上の一価の基により置換された、C2〜C12アルキレン架橋を形成し、あるいは、R5が−NR8R9である場合には、R7とR9は一緒に、未置換であるか又はC1〜C4アルキルラジカル及びこれらの組み合わせから選択される1つ以上の一価の基により置換された、C2〜C12アルキレン架橋を形成し、R12とR13はそれぞれ独立して、水素、C1〜C19アルキル及びこれらの組み合わせであり、R14は、C1〜C19アルキル及びこれらの組み合わせから選択される、請求項14又は15に記載の組成物。 - 前記R1が、置換及び未置換の、フェニル、ナフチル、アンスリル、アントラキノン−2−イル、ビフェニリル、ピレニル、チオキサンチル、チアントレニル、フェノチアジル及びこれらの組み合わせから選択され、前記R2及びR3はそれぞれ独立して、水素、C1〜C6アルキル及びこれらの組み合わせから選択され、前記R4とR6は一緒に、未置換であるか又はC1〜C4アルキルラジカル及びこれらの組み合わせから選択される1つ以上の基により置換された、C2〜C6アルキレン架橋を形成し、並びに/あるいは、前記R5とR7は一緒に、未置換であるか又はC1〜C4アルキルラジカル及びこれらの組み合わせから選択される1つ以上の基により置換された、C2〜C6アルキレン架橋を形成し、あるいは、R5が−NR8R9である場合には、R9とR7は一緒に、未置換であるか又はC1〜C4アルキルラジカル及びこれらの組み合わせから選択される1つ以上の基により置換された、C2〜C6アルキレン架橋を形成する、請求項16に記載の組成物。
- 前記R2及びR3が水素であり、前記R4とR6は一緒にC3アルキレン架橋を形成し、並びに/あるいは、前記R5とR7は一緒にC3又はC5アルキレン架橋を形成する、請求項17に記載の組成物。
- 前記光活性化可能な組成物が、5−ベンジル−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−(アントラセン−9−イル−メチル)−1,5−ジアザ[4.3.0]ノナン、5−(2’−ニトロベンジル)−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−(4’−シアノベンジル)−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−(3’−シアノベンジル)−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−(アントラキノン−2−イル−メチル)−1,5−ジアザ[4.3.0]ノナン、5−(2’−クロロベンジル)−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−(4’−メチルベンジル)−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−(2’,4’,6’−トリメチルベンジル)−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−(4’−エテニルベンジル)−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−(3’−トリメチルベンジル)−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−(2’,3’−ジクロロベンジル)−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−(ナフタ−2−イル−メチル−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、1,4−ビス(1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナニルメチル)ベンゼン、8−ベンジル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカン、8−ベンジル−6−メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカン、9−ベンジル−1,9−ジアザビシクロ[6.4.0]ドデカン、10−ベンジル−8−メチル−1,10−ジアザビシクロ[7.4.0]トリデカン、11−ベンジル−1,11−ジアザビシクロ[8.4.0]テトラデカン、8−(2’−クロロベンジル)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカン、8−(2’,6’−ジクロロベンジル)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカン、4−(ジアザビシクロ[4.3.0]ノナニルメチル)−1,1’−ビフェニル、4,4’−ビス(ジアザビシクロ[4.3.0]ノナニルメチル)−11’−ビフェニル、5−ベンジル−2−メチル−1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン、5−ベンジル−7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカン及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの化合物を含む、請求項1又は14に記載の組成物。
- 前記光活性化可能な組成物が、8−ベンジル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカン、8−ベンジル−6−メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカン及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの化合物を含む、請求項1〜19のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記光活性化可能な組成物が少なくとも1つの光増感剤を更に含む、請求項1〜20のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記光増感剤が芳香族ケトン、染料及びこれらの組み合わせから選択される、請求項21に記載の組成物。
- 前記組成物が、有機金属触媒を含まない組成物である、請求項1〜22のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記組成物が無溶媒である、請求項1〜23のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記組成物が硬化した、請求項1〜24のいずれか一項に記載の組成物。
- (a)ヒドロキシル末端封鎖されている、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン又はこれらの組み合わせと、
(b)少なくとも3つのヒドロシリル部分を含む、少なくとも1つのポリジオルガノシロキサン、フッ素化ポリジオルガノシロキサン又はこれらの組み合わせと、
(c)放射線に曝露すると、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン(DBN)及びこれらの組み合わせを生じる、少なくとも1つの光活性化可能な組成物と、を含む、硬化性組成物。 - (a)請求項1〜26のいずれか一項に記載の硬化性ポリシロキサン組成物を準備する工程と、
(b)少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を準備する工程と、
(c)前記基材の少なくとも1つの前記主表面の少なくとも一部分に前記硬化性ポリシロキサン組成物を適用する工程と、
(d)少なくとも一部の前記硬化性ポリシロキサン組成物を放射線に曝露することにより、前記硬化性ポリシロキサン組成物を誘導して硬化させて、コーティングを形成する工程と、を含む、コーティング方法。 - 前記放射線が、紫外線、可視光線又はこれらの組み合わせを含む、請求項27に記載の方法。
- 少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を含む物品であって、前記基材が少なくとも1つの前記主表面の少なくとも一部分上に請求項27に記載のコーティング方法により調製されたコーティングを支持する、物品。
- 光重合可能な組成物を前記コーティングに適用し、その後、前記光重合可能な組成物に光照射して光重合させることにより調製される感圧接着剤の層を更に含む、請求項29に記載の物品。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US36000710P | 2010-06-30 | 2010-06-30 | |
US36006810P | 2010-06-30 | 2010-06-30 | |
US61/360,007 | 2010-06-30 | ||
US61/360,068 | 2010-06-30 | ||
PCT/US2011/042006 WO2012003153A1 (en) | 2010-06-30 | 2011-06-27 | Curable-on-demand polysiloxane coating composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013532223A true JP2013532223A (ja) | 2013-08-15 |
JP2013532223A5 JP2013532223A5 (ja) | 2014-08-07 |
Family
ID=44484074
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013518530A Pending JP2013532223A (ja) | 2010-06-30 | 2011-06-27 | オンデマンド型硬化性ポリシロキサンコーティング組成物 |
JP2013518528A Expired - Fee Related JP5925201B2 (ja) | 2010-06-30 | 2011-06-27 | 二重反応性シラン官能基を含むオンデマンド型硬化性組成物 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013518528A Expired - Fee Related JP5925201B2 (ja) | 2010-06-30 | 2011-06-27 | 二重反応性シラン官能基を含むオンデマンド型硬化性組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8968869B2 (ja) |
EP (2) | EP2588536A1 (ja) |
JP (2) | JP2013532223A (ja) |
CN (2) | CN102971380B (ja) |
WO (2) | WO2012003153A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013532222A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-08-15 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 硬化性ポリシロキサンコーティング組成物 |
WO2015052859A1 (ja) * | 2013-10-10 | 2015-04-16 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性樹脂組成物 |
WO2016006252A1 (ja) * | 2014-07-10 | 2016-01-14 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 剥離コントロール剤、それを含むシリコーン剥離剤組成物、剥離シート、及び積層体 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102985503A (zh) | 2010-06-30 | 2013-03-20 | 3M创新有限公司 | 包含双重反应性硅烷官能团的可固化组合物 |
US8968869B2 (en) | 2010-06-30 | 2015-03-03 | 3M Innovative Properties Company | Curable-on-demand polysiloxane coating composition |
US9035008B2 (en) | 2011-12-29 | 2015-05-19 | 3M Innovative Properties Company | Curable-on-demand polysiloxane coating composition |
EP2838935A1 (en) | 2011-12-29 | 2015-02-25 | 3M Innovative Properties Company | Curable polysiloxane coating composition |
JP2015504945A (ja) | 2011-12-29 | 2015-02-16 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 硬化性ポリシロキサン組成物 |
US10364382B2 (en) | 2011-12-29 | 2019-07-30 | 3M Innovative Properties Company | Curable polysiloxane compositions and pressure sensitive adhesives made therefrom |
US9250171B2 (en) | 2012-05-09 | 2016-02-02 | H.B. Fuller Company | Kit for performing adhesive audits and a method for doing the same |
JP6323225B2 (ja) * | 2013-11-01 | 2018-05-16 | セントラル硝子株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、それを用いた膜の製造方法および電子部品 |
EP3090008A4 (en) * | 2013-12-31 | 2017-10-18 | 3M Innovative Properties Company | Curable organosiloxane oligomer compositions |
CN105623506B (zh) * | 2015-12-31 | 2018-09-28 | 砺剑防务技术集团有限公司 | 陶瓷基复合涂层及其制备方法 |
MX2018009954A (es) | 2016-02-18 | 2018-11-29 | Ecolab Usa Inc | Aplicacion de solventes en lavado de botella mediante el uso de formulas a base de amidina. |
US11124609B2 (en) | 2016-08-05 | 2021-09-21 | Seabourne Solutions, Llc | Polymeric coatings for metal surfaces |
JP6668288B2 (ja) * | 2017-04-04 | 2020-03-18 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH | 膜形成組成物 |
TW201905139A (zh) * | 2017-06-23 | 2019-02-01 | 日商道康寧東麗股份有限公司 | 矽黏著劑用剝離劑組成物以及剝離薄膜 |
WO2019079366A1 (en) | 2017-10-19 | 2019-04-25 | Dow Silicones Corporation | PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION AND METHODS OF PREPARATION AND USE IN FLEXIBLE ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DIODE APPLICATIONS |
EP3524582A1 (en) * | 2018-02-08 | 2019-08-14 | Surfix B.V. | Process for modification of a solid surface |
EP3578612A1 (en) * | 2018-06-08 | 2019-12-11 | 3M Innovative Properties Company | Polysiloxane-based protective coating composition for hard surfaces |
JP2022535084A (ja) | 2019-06-04 | 2022-08-04 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | Si-Hとエポキシドとの反応のための熱誘発としての架橋型フラストレイテッドルイスペア |
EP3994225B1 (en) * | 2019-07-03 | 2024-03-06 | Dow Silicones Corporation | Silicone pressure sensitive adhesive composition containing a fluorosilicone additive and methods for the preparation and use thereof |
CN111193068B (zh) * | 2020-02-16 | 2021-02-05 | 徐州宝盈新能源科技有限公司 | 一种锂电池电解液用聚磷腈复合阻燃添加剂及制备方法 |
CN111518395B (zh) * | 2020-06-01 | 2022-02-22 | 福州力天纺织有限公司 | 一种改性硅橡胶、硅橡胶纺织品及其应用 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5062437A (ja) * | 1973-10-01 | 1975-05-28 | ||
JPH03207762A (ja) * | 1989-11-03 | 1991-09-11 | Dow Corning Corp | 硬化性有機ケイ素組成物及びその使用方法 |
JPH03250050A (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-07 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | オルガノポリシロキサン系エラストマー粉体およびその製造方法 |
JPH07109414A (ja) * | 1993-10-13 | 1995-04-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 発泡性アルキレンオキシド重合体組成物 |
JPH1067935A (ja) * | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
JP2000119642A (ja) * | 1998-10-12 | 2000-04-25 | Dow Corning Asia Ltd | 撥水性被膜形成用組成物 |
US6124371A (en) * | 1996-02-22 | 2000-09-26 | Dsm N.V. | Anionic photocatalyst |
JP2001512421A (ja) * | 1997-01-22 | 2001-08-21 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | α−アミノケトンに基づく光活性化可能な窒素含有塩基 |
JP2001513765A (ja) * | 1997-02-26 | 2001-09-04 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | α−アンモニウムケトン、イミニウムケトンまたはアミジニウムケトンおよびアリールボラートに基づく、光による活性化が可能な窒素含有塩基 |
JP2005511536A (ja) * | 2001-10-17 | 2005-04-28 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 光活性化窒素塩基 |
US7482391B1 (en) * | 2005-05-09 | 2009-01-27 | Henkel Corporation | Foaming RTV silicone compositions |
JP2012530177A (ja) * | 2009-06-19 | 2012-11-29 | ブルースター・シリコーンズ・フランス | 非金属触媒の存在下において脱水素縮合によって架橋可能なシリコーン組成物 |
JP2012530176A (ja) * | 2009-06-19 | 2012-11-29 | ブルースター・シリコーンズ・フランス | 非金属触媒の存在下での脱水素縮合による架橋に適したシリコーン組成物 |
JP2013529724A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-07-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 二重反応性シラン官能基を含むオンデマンド型硬化性組成物 |
JP2013531113A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-08-01 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 二重反応性シラン官能基を含む硬化性組成物 |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2708289A (en) | 1951-10-03 | 1955-05-17 | Dow Corning | Method of preparing pressure sensitive organosiloxane sheet material |
NL126303C (ja) | 1965-01-08 | 1900-01-01 | ||
NL129544C (ja) | 1965-08-04 | |||
US3628996A (en) | 1969-06-27 | 1971-12-21 | Dow Corning | Polydimethylsiloxane release agent |
US4181752A (en) | 1974-09-03 | 1980-01-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Acrylic-type pressure sensitive adhesives by means of ultraviolet radiation curing |
US4269963A (en) | 1979-12-03 | 1981-05-26 | Dow Corning Corporation | Mercaptoorganopolysiloxanes and curable compositions including same |
US4489199A (en) * | 1983-08-08 | 1984-12-18 | General Electric Company | Room temperature vulcanizable organopolysiloxane compositions |
JPS6122094A (ja) | 1984-07-10 | 1986-01-30 | Toray Silicone Co Ltd | 有機けい素化合物の製造方法 |
US4761443A (en) | 1987-06-04 | 1988-08-02 | Dow Corning Corporaton | Multiple release mold coating for high water, high resiliency polyurethane foam |
EP0448154A1 (en) | 1990-03-20 | 1991-09-25 | Akzo Nobel N.V. | Coating composition including a blocked basic catalyst |
US5286815A (en) | 1992-02-07 | 1994-02-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Moisture curable polysiloxane release coating compositions |
US5371162A (en) | 1992-07-09 | 1994-12-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Storage-stable silicone composition |
US5403909A (en) | 1993-07-15 | 1995-04-04 | General Electric Company | Catalysts for polycondensation and redistribution of organosiloxane polymers |
JP3499032B2 (ja) * | 1995-02-02 | 2004-02-23 | ダウ コーニング アジア株式会社 | 放射線硬化性組成物、その硬化方法及びパターン形成方法 |
US6136996A (en) | 1995-12-13 | 2000-10-24 | General Electric Company | Catalysts for polycondensation and redistribution of organosiloxane polymers |
JP3628098B2 (ja) * | 1996-03-29 | 2005-03-09 | ダウ コーニング アジア株式会社 | 放射線硬化性組成物およびこれを用いた硬化物パターンの製造方法 |
JPH09268228A (ja) * | 1996-04-01 | 1997-10-14 | Dow Corning Asia Ltd | 紫外線硬化性組成物およびこれを用いた硬化物パターンの形成方法 |
US5688888A (en) | 1996-04-08 | 1997-11-18 | General Electric Company | Peralkylated phosphazene base-catalyzed silanol condensation method |
US6441118B2 (en) | 1996-04-25 | 2002-08-27 | 3M Innovative Properties Company | Polydiorganosiloxane oligourea segmented copolymers and a process for making same |
US6551761B1 (en) | 1997-02-26 | 2003-04-22 | Ciba Specialty Chemical Corporation | Photoactivatable nitrogen-containing bases based on α-ammonium ketones, iminium ketones or amidinium ketones and aryl borates |
WO1998040439A1 (en) | 1997-03-14 | 1998-09-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Cure-on-demand, moisture-curable compositions having reactive silane functionality |
US5866222A (en) | 1997-07-18 | 1999-02-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Silicone copolymer modified release tapes |
DE19752935A1 (de) | 1997-11-28 | 1999-06-02 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von bicyclischen Amidinen, Diazacycloalkene und ein Verfahren zu deren Herstellung |
US6235832B1 (en) | 1998-12-21 | 2001-05-22 | Dow Corning Corporation | RTV silicone compositions with rapid development of green strength |
US6780484B2 (en) | 2001-02-02 | 2004-08-24 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive article and method of preparing |
US6805933B2 (en) | 2001-07-31 | 2004-10-19 | 3M Innovative Properties Company | Articles comprising a release liner having a high coefficient of friction and good roll stability |
US7674838B2 (en) | 2002-04-05 | 2010-03-09 | Henkel Corporation | Curable foam elastomeric compositions |
DE10237271A1 (de) | 2002-08-14 | 2004-03-04 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH | Polymermassen auf Basis alkoxysilanterminierter Polymere mit regulierbarer Härtungsgeschwindigkeit |
US7064173B2 (en) | 2002-12-30 | 2006-06-20 | General Electric Company | Silicone condensation reaction |
US6777512B1 (en) * | 2003-02-28 | 2004-08-17 | Dow Global Technologies Inc. | Amine organoborane complex initiated polymerizable compositions containing siloxane polymerizable components |
DE602005002571T2 (de) * | 2004-02-16 | 2008-01-31 | Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. | Photobasengenerator und härtbare Zusammensetzung |
US7148370B1 (en) | 2005-07-20 | 2006-12-12 | General Electric Company | Process for synthesis of diorganosilanes by disproportionation of hydridosiloxanes |
JP5378684B2 (ja) | 2005-09-30 | 2013-12-25 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
JP5226315B2 (ja) | 2005-09-30 | 2013-07-03 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
KR101395711B1 (ko) | 2006-06-20 | 2014-05-16 | 다우 코닝 코포레이션 | 경화성 유기규소 조성물 |
JP5258575B2 (ja) | 2006-11-22 | 2013-08-07 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物および触媒組成物 |
FR2929286A1 (fr) | 2008-03-28 | 2009-10-02 | Bluestar Silicones France Soc | Composes a structure guanidine et leurs utilisations comme catalyseurs de polycondensation d'organopolysiloxanes |
JP5801052B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2015-10-28 | サンアプロ株式会社 | 光塩基発生剤 |
EP2588550A1 (en) | 2010-06-30 | 2013-05-08 | 3M Innovative Properties Company | Curable polysiloxane coating composition |
-
2011
- 2011-06-27 US US13/807,344 patent/US8968869B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-06-27 CN CN201180032966.8A patent/CN102971380B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-06-27 CN CN2011800330114A patent/CN102971381A/zh active Pending
- 2011-06-27 JP JP2013518530A patent/JP2013532223A/ja active Pending
- 2011-06-27 WO PCT/US2011/042006 patent/WO2012003153A1/en active Application Filing
- 2011-06-27 EP EP11730158.0A patent/EP2588536A1/en not_active Withdrawn
- 2011-06-27 EP EP11733942.4A patent/EP2588537A1/en not_active Withdrawn
- 2011-06-27 WO PCT/US2011/041993 patent/WO2012003152A1/en active Application Filing
- 2011-06-27 US US13/807,336 patent/US8968868B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-06-27 JP JP2013518528A patent/JP5925201B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5062437A (ja) * | 1973-10-01 | 1975-05-28 | ||
JPH03207762A (ja) * | 1989-11-03 | 1991-09-11 | Dow Corning Corp | 硬化性有機ケイ素組成物及びその使用方法 |
JPH03250050A (ja) * | 1990-02-28 | 1991-11-07 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | オルガノポリシロキサン系エラストマー粉体およびその製造方法 |
JPH07109414A (ja) * | 1993-10-13 | 1995-04-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 発泡性アルキレンオキシド重合体組成物 |
US6124371A (en) * | 1996-02-22 | 2000-09-26 | Dsm N.V. | Anionic photocatalyst |
JPH1067935A (ja) * | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
JP2001512421A (ja) * | 1997-01-22 | 2001-08-21 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | α−アミノケトンに基づく光活性化可能な窒素含有塩基 |
JP2001513765A (ja) * | 1997-02-26 | 2001-09-04 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | α−アンモニウムケトン、イミニウムケトンまたはアミジニウムケトンおよびアリールボラートに基づく、光による活性化が可能な窒素含有塩基 |
JP2000119642A (ja) * | 1998-10-12 | 2000-04-25 | Dow Corning Asia Ltd | 撥水性被膜形成用組成物 |
JP2005511536A (ja) * | 2001-10-17 | 2005-04-28 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 光活性化窒素塩基 |
US7482391B1 (en) * | 2005-05-09 | 2009-01-27 | Henkel Corporation | Foaming RTV silicone compositions |
JP2012530177A (ja) * | 2009-06-19 | 2012-11-29 | ブルースター・シリコーンズ・フランス | 非金属触媒の存在下において脱水素縮合によって架橋可能なシリコーン組成物 |
JP2012530176A (ja) * | 2009-06-19 | 2012-11-29 | ブルースター・シリコーンズ・フランス | 非金属触媒の存在下での脱水素縮合による架橋に適したシリコーン組成物 |
JP2013529724A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-07-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 二重反応性シラン官能基を含むオンデマンド型硬化性組成物 |
JP2013531113A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-08-01 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 二重反応性シラン官能基を含む硬化性組成物 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN5013008164; KANJI SUYAMA: 'QUATERNARY AMMONIUM SALT AS DBU-GENERATING PHOTOBASE GENERATOR' JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY V19 N1, 20060101, P81-84 * |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013532222A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-08-15 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 硬化性ポリシロキサンコーティング組成物 |
WO2015052859A1 (ja) * | 2013-10-10 | 2015-04-16 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性樹脂組成物 |
US9434817B2 (en) | 2013-10-10 | 2016-09-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Room-temperature-curable resin composition |
JPWO2015052859A1 (ja) * | 2013-10-10 | 2017-03-09 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性樹脂組成物 |
WO2016006252A1 (ja) * | 2014-07-10 | 2016-01-14 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 剥離コントロール剤、それを含むシリコーン剥離剤組成物、剥離シート、及び積層体 |
JPWO2016006252A1 (ja) * | 2014-07-10 | 2017-04-27 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 剥離コントロール剤、それを含むシリコーン剥離剤組成物、剥離シート、及び積層体 |
US10494484B2 (en) | 2014-07-10 | 2019-12-03 | Dow Toray Co., Ltd. | Release control agent, silicone release agent composition containing same, release sheet, and laminated body |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2588536A1 (en) | 2013-05-08 |
WO2012003152A1 (en) | 2012-01-05 |
US8968869B2 (en) | 2015-03-03 |
JP5925201B2 (ja) | 2016-05-25 |
CN102971381A (zh) | 2013-03-13 |
US20130178553A1 (en) | 2013-07-11 |
US20130101841A1 (en) | 2013-04-25 |
EP2588537A1 (en) | 2013-05-08 |
CN102971380B (zh) | 2015-08-19 |
WO2012003153A1 (en) | 2012-01-05 |
JP2013529724A (ja) | 2013-07-22 |
CN102971380A (zh) | 2013-03-13 |
US8968868B2 (en) | 2015-03-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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